一种新型硅片清洗烘干装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种新型硅片清洗烘干装置，涉及电子设备领域，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间和清洗间，所述烘干间位于清洗间的上方，所述烘干间和清洗间的上方均设置有开口，所述烘干间的两侧面对称设置有出风机和吸风机，所述清洗间的两侧面对称设置有出水装置和汲水装置，所述设备主体的上方设置有气压缸，所述气压缸的伸缩杆端部设置有内部中空的长方体状放置箱。本装置具有结构简单，设计巧妙，成本低的优点，解决了现有技术中的硅片清洗和烘干两个工序分开进行导致工作效率低，且反复夹取易损坏硅片的技术问题。

【技术实现步骤摘要】
一种新型硅片清洗烘干装置
本技术涉及电子设备
，尤其涉及一种新型硅片清洗烘干装置。
技术介绍
单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一。在太阳能硅片生产过程中，需要利用清洗机对太阳能硅片进行清洗，接着清洗好的太阳能硅片进入分选机进行烘干，现有的清洗设备和烘干设备均为独立的个体，清洗完毕后需要人工操作夹出后再放入烘干装置内，硅片薄且脆，在反复夹取的过程中易损坏硅片，且工作效率低下，导致生产成本较高。
技术实现思路
基于以上技术问题，本技术提供了一种新型硅片清洗烘干装置，解决了现有技术中的硅片清洗和烘干两个工序分开进行导致工作效率低，且反复夹取易损坏硅片的技术问题。为解决以上技术问题，本技术采用的技术方法如下：一种新型硅片清洗烘干装置，包括设备主体，所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型硅片清洗烘干装置，其特征在于，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间(1)和清洗间(2)，所述烘干间(1)位于清洗间(2)的上方，所述烘干间(1)和清洗间(2)的上方均设置有开口(11)，所述烘干间(1)的两侧面对称设置有出风机(3)和吸风机(4)，所述清洗间(2)的两侧面对称设置有出水装置(5)和汲水装置(6)，所述设备主体的上方设置有气压缸(7)，所述气压缸(7)的伸缩杆(8)端部设置有内部中空的长方体状放置箱(9)。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型硅片清洗烘干装置，其特征在于，包括设备主体，所述设备主体包括烘干间(1)和清洗间(2)，所述烘干间(1)位于清洗间(2)的上方，所述烘干间(1)和清洗间(2)的上方均设置有开口(11)，所述烘干间(1)的两侧面对称设置有出风机(3)和吸风机(4)，所述清洗间(2)的两侧面对称设置有出水装置(5)和汲水装置(6)，所述设备主体的上方设置有气压缸(7)，所述气压缸(7)的伸缩杆(8)端部设置有内部中空的长方体状放置箱(9)。


2.根据权利要求1所述的一种新型硅片清洗烘干装置，其特征在于，所述出水装置(5)包括第一水箱(15)、第一进水管(16)、第一水泵(17)以及第一出水管(18)，所述第一进水管(16)设置于第一水箱(15)内部。


3.根据权利要求2所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑国君，
申请(专利权)人：郑州金恒电子技术有限公司，
类型：新型
国别省市：河南;41