一种瓷介电容器的清洗工艺制造技术

本发明专利技术提供了一种瓷介电容器的清洗工艺，包括以下步骤；储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行清洗。本发明专利技术提供的一种瓷介电容器的清洗工艺，用去离子水替代乙醇进行瓷介电容器的清洗，提高生产安全性，更加节能环保。

【技术实现步骤摘要】
一种瓷介电容器的清洗工艺
本专利技术涉及一种清洗工艺，具体而言，涉及一种瓷介电容器的清洗工艺。
技术介绍
瓷介电容器生产出来后，需要进行超声波清洗，去除产品表面的杂质，从而保证产品质量。现有工艺中超声波清洗设备的清洗槽内盛放的是乙醇，用来清洗瓷介电容器，但乙醇属于危险化学品，具有易燃易爆易挥发的属性，且挥发后的气体对身体有害，操作不当特别容易产生工业事故。
技术实现思路
鉴于此，本专利技术提供了一种瓷介电容器的清洗工艺，用去离子水替代乙醇进行瓷介电容器的清洗，提高生产安全性。为此，本专利技术提供了一种瓷介电容器的清洗工艺，包括以下步骤；储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；电容器依次在第一清洗槽、第二清洗槽、第三清洗槽内进行清洗。进一步地，储水装置包括串联的第一储水桶和第二储本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤；/n储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；/n所述储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；/n所述第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，所述第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，所述第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；/n电容器依次在所述第一清洗槽、所述第二清洗槽、所述第三清洗槽内进行清洗。/n

【技术特征摘要】
1.一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，包括以下步骤；
储水装置将自来水转化为去离子水，输送给储液槽；
所述储液槽将去离子水分配给第一分支储液槽、第二分支储液槽和第三分支储液槽；
所述第一分支储液槽向第一清洗槽输送去离子水，所述第二分支储液槽向第二清洗槽输送去离子水，所述第三分支储液槽向第三清洗槽输送去离子水；
电容器依次在所述第一清洗槽、所述第二清洗槽、所述第三清洗槽内进行清洗。


2.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述储水装置包括串联的第一储水桶和第二储水桶，所述第一储水桶的进水口连接自来水进水管道、出水口连接所述第二储水桶的进水口，所述第二储水桶的出水口连接所述储液槽的进水口。


3.根据权利要求1所述的一种瓷介电容器的清洗工艺，其特征在于，所述第一分支储液槽、所述第二分支储液槽和所述第三分支储液槽串联设置，所述储液槽内的去离子水依次流入所述第三分支储液槽、所述第二分支储液槽和所述第一分支储液槽...

【专利技术属性】
技术研发人员：房双杰，
申请(专利权)人：昆山万盛电子有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32