阻挡膜制造技术

本申请提供了阻挡膜及其制造方法。阻挡膜具有包括聚硅氮烷阻挡层的结构，其可以在所谓的辊对辊过程等中表现出优异的运行特性，并且即使在卷绕和/或退绕过程等中也可以保持或改善阻挡层的性能。

Barrier membrane

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】阻挡膜
本申请要求基于在2018年4月25日提交的韩国专利申请第10-2018-0047791号的优先权，其公开内容通过引用整体并入本文。本申请涉及阻挡膜及其制造方法。
技术介绍
阻挡膜已被用于多种应用，不仅包括食品或药物等的包装材料，而且还包括显示构件例如LCD(液晶显示器)和OLED(有机发光显示器)、太阳能电池构件或电子纸等。可以例如通过在聚合物膜上形成具有优异的气体和/或水分阻挡特性的材料的层来生产阻挡膜。例如，可以将干涂覆法或湿涂覆法应用于层的形成。干涂覆法包括所谓的物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)等。在干涂覆法的情况下，在工艺期间需要真空条件，工艺难度高且成本高。与干涂覆法相比，湿涂覆法具有更低的工艺难度。此外，由于湿涂覆法可适用于所谓的辊对辊法，因此对于连续大量生产阻挡膜也是有利的。然而，在辊对辊过程中，在阻挡膜的制造过程期间经常对膜进行卷绕和/或退绕，并且在该过程中，在接触其他层时阻挡层或阻挡层的前体层经常引起物理特性的劣化。此外，为了使辊对辊过程高效地进行，还需要改善膜的运本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阻挡膜，包括：/n阻挡层，/n防粘连层，和/n在所述阻挡层与所述防粘连层之间的功能层，/n其中所述阻挡层为聚硅氮烷阻挡层，以及/n其中所述防粘连层包含丙烯酸酯单元和平均粒径在0.3μm至50μm的范围内的颗粒。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180425 KR 10-2018-00477911.一种阻挡膜，包括：
阻挡层，
防粘连层，和
在所述阻挡层与所述防粘连层之间的功能层，
其中所述阻挡层为聚硅氮烷阻挡层，以及
其中所述防粘连层包含丙烯酸酯单元和平均粒径在0.3μm至50μm的范围内的颗粒。


2.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述功能层为基础层和缓冲层中的至少一者。


3.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阻挡层包含由下式1表示的单元：
[式1]



其中，R1、R2和R3各自独立地为氢、烷基、烯基、芳基或烷氧基，以及n为任意数。


4.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述阻挡层的厚度在10nm至500nm的范围内。


5.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述丙烯酸酯单元为多官能丙烯酸酯单元。


6.根据权利要求1所述的阻挡膜，其中所述丙烯酸酯单元包括具有四官能度或更少的多官能丙烯酸酯单元和具有多于四官能度的多官能丙烯酸酯单元。


7.根据权利要求6所述的阻挡膜，其中相对于所述防粘连层的除所述颗粒之外的总重量，所述具有四官...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴宝拉，孙凡权，丁喜俊，黄樯渊，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR