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本申请提供了阻挡膜及其制造方法。阻挡膜具有包括聚硅氮烷阻挡层的结构，其可以在所谓的辊对辊过程等中表现出优异的运行特性，并且即使在卷绕和/或退绕过程等中也可以保持或改善阻挡层的性能。...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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