感光树脂组合物、干膜抗蚀剂及相应的元件制造技术

本发明专利技术涉及一种感光树脂组合物、制备方法、干膜抗蚀剂及相应的元件，属于电路印刷元件的制备技术领域。感光树脂组合物，包含50~70%的碱溶性树脂，碱可溶性树脂分子的侧链具有芳香族基团或脂环碳氢结构、30~50%的光自由基聚合单体、0.1~5%的光引发剂、0.01~1%的附着力促进剂，该感光树脂组合物所制得的干膜抗蚀剂具有良好的耐电镀特性和可剥离特性，并且该感光性树脂组合物具有良好的盖孔能力及高解析度。

Photosensitive resin composition, dry film resist and corresponding elements

【技术实现步骤摘要】
感光树脂组合物、干膜抗蚀剂及相应的元件
本专利技术涉及电路印刷元件的制备
，具体涉及一种感光树脂组合物、干膜抗蚀剂及相应的元件。
技术介绍
在印刷电路板、引线框架、太阳能电池、导体封装、BGA（BallGridArray）、CPS（ChipSizePackage）封装中，干膜抗蚀剂被广泛用作图形转移的关键材料。例如，在制造印刷电路板时，首先，在铜基板上贴合干膜抗蚀剂，用具有一定图案的掩模遮盖干膜抗蚀剂，进行图形曝光。然后，利用弱碱性水溶液作为显影液去除未曝光部位，再实施蚀刻或电镀处理而形成图形，最后用去除剂剥离去除干膜固化部分，从而实现图形转移。印刷电路板的制造方法主要有掩膜法和图形电镀法两种。掩膜法是用保护层保护用于搭载接头的铜通孔，经过蚀刻、去膜形成电路。图形电镀法通过电镀法在通孔中电镀铜，再通过镀锡焊料保护，经过去膜、蚀刻形成电路。从以高合格率制造窄间距图像的角度出发，图形电镀法成为重要性日益增加的方法。在图形电镀法中，抗蚀剂与基板间的结合力是关键因素，如果结合力不足，在图形电镀工艺进程中，处理液浸透到抗蚀剂与基板之本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种感光树脂组合物，其特征在于，包含有如下重量占比的原料：碱溶性树脂，50~70%，所述碱可溶性树脂分子的侧链具有芳香族基团或脂环碳氢结构；光自由基聚合单体，30~50%；光引发剂，0.1~5%；附着力促进剂，0.01~1%；/n其中，所述光自由基聚合单体至少包含下列结构式(Ⅰ)所示的单体：/n

【技术特征摘要】
1.一种感光树脂组合物，其特征在于，包含有如下重量占比的原料：碱溶性树脂，50~70%，所述碱可溶性树脂分子的侧链具有芳香族基团或脂环碳氢结构；光自由基聚合单体，30~50%；光引发剂，0.1~5%；附着力促进剂，0.01~1%；
其中，所述光自由基聚合单体至少包含下列结构式(Ⅰ)所示的单体：

(Ⅰ)
其中，2≤o+n≤12，6≤m+p≤30；R1为H或CH3，R2为H或CH3。


2.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其特征在于：所述光自由基聚合单体还包含有单官能团化合物、双官能团化合物、多官能团化合物中的一种或多种。


3.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其特征在于：所述附着力促进剂包含有硫醇化合物。


4.根据权利要求3所述的感光树脂组合物，其特征在于：所述硫醇化合物具有脂肪族基团，所述脂肪族基团中具有至少两个硫醇基，优选三羟甲基丙烷三硫代丙酸酯。


5.根据权利要求1所述的感光树脂组合物，其特征在于：所述光引发剂至少包括六芳基双咪唑...

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟杰，韩传龙，朱霞月，周光大，
申请(专利权)人：浙江福斯特新材料研究院有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33