利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法技术

本发明专利技术公开了一种利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法，包括以下步骤：(1)采用立式样品台；(2)采用CCD显微摄像器；(3)将样品放置在立式样品台中，对散射配置进行改进；(4)测试前对法布里‑珀罗干涉仪进行较准；(5)对检测得到的光谱图进行分析，从而确定样品的折射率。本发明专利技术方法可获得高信噪比的布里渊光谱图及确定材料的折射率，能精确测定SiO

Analysis of refractive index of ternary system materials by in situ Brillouin scattering spectroscopy

【技术实现步骤摘要】
利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法
本专利技术涉及三方晶系材料声学物理常数分析基数领域，特别涉及一种原位布里渊散射光谱分析晶体折射率的方法。
技术介绍
任何新材料在应用及推广之前，都需要准确的物理性能参数作为基础。在这种情况下，声学物理常数，特别是弹性、压电和介电常数等的完整集合，为实际生产和应用打下基础，能够准确测量这些常数是材料应用设计的关键。随着科学技术的进步，材料性能检测的手段逐渐丰富，为快速准确地检测材料的相关物化性能提供了条件。由于光学检测手段在其检测过程中，对所测样品非接触无损伤、对样品无尺寸要求以及检测设备不受样品所处环境影响的特点，光学检测逐渐成为检测中重要技术，其中对材料非弹性散射光的拉曼散射和布里渊散射两种检测方法也得到了广泛的应用。布里渊散射是光子与样品内部的声子等相互作用而引起的，需要准确的确定入射光与散射光的方向，即散射配置。对于透明、不透明、固体或液体材料，需要采用不同的散射配置或多个散射配置配合使用。目前常用的散射配置有90°直角散射、平板对称散射及180°背向散射。在三方晶系材料的布里渊本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法，其特征在于，包括以下步骤：/n(1)选用光学立式样品台，用于改变待测的三方晶系材料样品水平平面的方位角；/n(2)将三方晶系材料样品放置在所述步骤(1)中采用的立式样品台上；/n(3)选用带监视器的显微相机，用于入射光的聚焦；/n(4)对散射配置进行改进，改变入射光与散射光的夹角，同时对三方晶系材料样品进行方位角调整；运用法布里-珀罗干涉仪，对三方晶系材料样品进行检测；/n(5)对在所述步骤(4)检测得到的三方晶系材料样品的光谱图进行分析，从而获得三方晶系材料样品的折射率。/n

【技术特征摘要】
1.一种利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法，其特征在于，包括以下步骤：
(1)选用光学立式样品台，用于改变待测的三方晶系材料样品水平平面的方位角；
(2)将三方晶系材料样品放置在所述步骤(1)中采用的立式样品台上；
(3)选用带监视器的显微相机，用于入射光的聚焦；
(4)对散射配置进行改进，改变入射光与散射光的夹角，同时对三方晶系材料样品进行方位角调整；运用法布里-珀罗干涉仪，对三方晶系材料样品进行检测；
(5)对在所述步骤(4)检测得到的三方晶系材料样品的光谱图进行分析，从而获得三方晶系材料样品的折射率。


2.根据权利要求1所述利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法，其特征在于，在所述步骤(3)中，选用带监视器的显微相机，用于观测聚焦点的变化，当焦点达到又小又亮时，确定为聚焦成功，可进行下一步测量。


3.根据权利要求1所述利用原位布里渊散射光谱分析三方晶系材料折射率的方法，其特征在于，在所述步骤(4)中，对散射配置进行改进包括：改变入射光与散射光夹角，散射角范围为40～100°，以不大于10°为角度间隔；时刻调整三方晶系...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴永全，王旭，陶倩，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：上海;31