纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法技术

技术编号:26159822 阅读:37 留言:0更新日期:2020-10-31 12:35
本发明专利技术公开了一种纳米金‑铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,首先制备纳米金‑铌酸锂复合材料;所述复合材料包括铌酸锂基底,该铌酸锂基底为平行于c轴晶轴的单畴结构,在该铌酸锂基底的+Z面上附着有纳米金;然后将纳米金‑铌酸锂复合材料附着有纳米金的面朝上置于阴离子型染料溶液中,并对纳米金‑铌酸锂复合材料施以近红外光照射,吸附在纳米金表面的阴离子型染料被氧化降解。采用本发明专利技术的显著效果是,通过对纳米金‑铌酸锂复合材料进行近红外光照射,使纳米金产生表面等离子体共振效应,电子从纳米金迁移至铌酸锂基底使纳米金表面聚集正电荷,能够充分吸附甲基橙等阴离子型染料并实现直接氧化降解,提供了降解有机物染料的新方法。

【技术实现步骤摘要】
纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法
本专利技术涉及光催化处理有机染料废水的方法,具体涉及一种阴离子型染料废水的光诱导直接氧化降解方法。
技术介绍
贵金属纳米颗粒(如Au、Ag、Cu)因其独特的表面等离子体共振(SPR)性质在表面增强光谱、光电器件、生物/化学传感器、催化等领域引起了极大关注并得到了广泛应用。铌酸锂晶体是一种具有代表性的铁电材料,由于其良好的铁电极化性能和光起电性能,作为功能型基底材料在合成及自组装纳米材料方面得到了很大的应用。用铌酸锂作为基底,通过控制溶液浓度、光照强度以及时间长短能够控制铌酸锂基底表面合成得到的纳米材料的尺寸和密度分布。中国专利CN201810723772.6公开了在铌酸锂基底上制备金纳米片的方法,其为金纳米片/铌酸锂复合催化剂的制备提供了基础。染料废水是主要的有害工业废水之一,需要对其进行处理后才能外排。现有处理染料废水的方式主要有:物理吸附法,混凝、氧化、电解等化学方法,以及生物法;而采用光诱导直接氧化降解染料废水的研究相对较少。与本申请最接近的现有技术为中国专利CN201811645370.5,其公开了一种有机废水光降解方法,其中采用铌酸锂作为基底,并在铌酸锂的+Z面上沉积纳米氧化银颗粒,形成光解催化器,并在可见光照射下,用以上光解催化器对罗丹明B等有机废水进行降解。其机理为:在可见光照射下,氧化银颗粒(半导体)吸收光能后发生电子跃迁,产生电子-空穴对,铌酸锂基底的铁电极化能够促进半导体氧化银中的光生电子-空穴对有效分离,电子与水中的O2结合产生空穴与溶液中的OH—反应生成OH·。和OH·能够将吸附于光解催化器表面的有机污染物氧化形成二氧化碳和水。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供了一种纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法。技术方案如下:一种纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其关键在于按以下步骤进行:步骤一、制备纳米金-铌酸锂复合材料;所述复合材料包括铌酸锂基底,该铌酸锂基底为平行于c轴晶轴的单畴结构,在该铌酸锂基底的+Z面上附着有纳米金;步骤二、将纳米金-铌酸锂复合材料置于阴离子型染料溶液中,其附着有纳米金的面朝上,并对纳米金-铌酸锂复合材料施以近红外光照射,吸附在纳米金表面的阴离子型染料被氧化降解。作为优选技术方案:所述步骤二中,所述近红外光的波长为1000-1700nm;所述近红外光垂直于所述铌酸锂基底照射;所述近红外光的光强为50mW/cm2;在对复合材料进行近红外光照射的同时,搅拌阴离子型染料溶液。进一步优选,所述纳米金包括纳米金片和/或纳米金颗粒。所述步骤二中,纳米金在近红外光照射下产生表面等离子体共振(SPR)效应,光激发产生的高能量热电子从纳米金注入到铌酸锂基底,从而使纳米金表面聚集正电荷,将水和/或羟基负离子氧化为羟基自由基,从而氧化降解阴离子型染料。所述步骤一中的纳米金-铌酸锂复合材料按以下步骤制备:首先垂直c轴晶轴切割铌酸锂铁电单晶薄片,其表面平整度为光学级别,其铁电畴为平行于c轴晶轴的单畴结构,将浓度为25mM的氯金酸溶液滴在铌酸锂的+Z面上,再以波长为280-400nm,光强为20mW/cm2的紫外光在氯金酸溶液上方5-10mm处垂直照射10min,使铌酸锂的+Z面沉积附着上若干纳米金;完成纳米金的沉积后,将复合材料先用酒精冲洗两次,每次冲洗1min,然后用去离子水冲洗两次,每次冲洗1min,洗掉附着在复合材料上的酸溶液和有机物,最后再用氮气吹干。附图说明图1为铌酸锂基底的层状结构图;图2为利用KPFM测量表面电势的原理图;图3为对纳米金-铌酸锂复合材料施以近红外光照射0-2hr后得到的表面电势变化图;图4为甲基橙溶液的降解装置示意图;图5为绘制得到的试验组和对照组的甲基橙溶液的C/C0-t曲线图。具体实施方式以下结合实施例和附图对本专利技术作进一步说明。实施例1:一种纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,按以下步骤进行:步骤一、制备纳米金-铌酸锂复合材料;所述铌酸锂基底包括三层,自上而下依次为:厚度为800nm的铌酸锂单晶薄膜层(+Z面朝上),厚度为100nm的ITO层,厚度为0.3mm的铌酸锂衬底。以上铌酸锂单晶薄膜层和铌酸锂衬底均为垂直c轴晶轴切割的5mm*5mm铌酸锂铁电单晶薄片,其中最上层800nm厚铌酸锂单晶薄膜层(+Z面朝上)为沉积纳米金用的样品层,其+Z面的表面平整度为光学级别,其铁电畴为平行于c轴晶轴的单畴结构;所述铌酸锂基底的结构如图1所示。将浓度为25mM的氯金酸溶液滴在铌酸锂基底的+Z面上,再以波长为280-400nm,光强为20mW/cm2的紫外光在氯金酸溶液上方5-10mm处垂直照射10min,使铌酸锂+Z面沉积附着上若干纳米金,由此形成纳米金-铌酸锂复合材料;形成的复合材料包括铌酸锂基底,在该铌酸锂基底的+Z面上附着有纳米金;所述纳米金包括纳米金片和/或纳米金颗粒,其中,以比表面积更大的纳米金颗粒为宜;完成纳米金沉积后,将复合材料先用酒精冲洗两次,每次冲洗1min,然后用去离子水冲洗两次,每次冲洗1min,洗掉附着在复合材料上的酸溶液和有机物,最后再用氮气吹干。步骤二、将纳米金-铌酸锂复合材料(附着有纳米金的面朝上)置于甲基橙、刚果红或孔雀石绿等阴离子型染料溶液中,并对纳米金-铌酸锂复合材料施以近红外光照射,期间搅拌阴离子型染料溶液,所述近红外光的波长为1000-1700nm,光强为50mW/cm2。近红外光在溶液上方10-15mm处垂直照射所述复合材料2hr(小时);纳米金在近红外光照射下产生表面等离子体共振(SPR)效应,光激发产生的高能量热电子从纳米金注入到铌酸锂基底,从而使纳米金表面聚集正电荷;纳米金表面聚集的正电荷不仅能提高阴离子型染料在纳米金表面的吸附能力;同时还能与水和/或羟基负离子反应产生强氧化性羟基自由基,降解吸附在纳米金表面的阴离子型染料。实施例2:以实施例1步骤一制得的复合材料为实验样品,在复合材料+Z面上方15mm处,以波长为1000-1700nm,光强为50mW/cm2的近红外光对复合材料以垂直角度进行连续照射,选定某一纳米金片作为固定的检测对象,期间用开尔文探针力显微镜(KPFM)分别测试第0min、60min、120min时刻检测对象及周围的复合材料+Z面的表面电势,结果如图3所示。从图3可以看出,近红外光照射前(0min),纳米金和铌酸锂基底的+Z面的表面电势基本相同,随着近红外光照射时间增加,纳米金的表面电势逐渐升高(高于铌酸锂+Z面的表面电势),表明纳米金表面正电荷显著聚集。开尔文探针力显微镜(KPFM)测量表面电势的原理如图2所示。实施例3:切割2片相同规格的铌酸锂基底,铌酸锂基底的尺寸规格为10mm*10mm*本文档来自技高网
...

【技术保护点】
1.一种纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其特征在于按以下步骤进行:/n步骤一、制备纳米金-铌酸锂复合材料;/n所述复合材料包括铌酸锂基底,该铌酸锂基底为平行于c轴晶轴的单畴结构,在该铌酸锂基底的+Z面上附着有纳米金;/n步骤二、将纳米金-铌酸锂复合材料置于阴离子型染料溶液中,其附着有纳米金的面朝上,并对纳米金-铌酸锂复合材料施以近红外光照射,吸附在纳米金表面的阴离子型染料被氧化降解。/n

【技术特征摘要】
1.一种纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其特征在于按以下步骤进行:
步骤一、制备纳米金-铌酸锂复合材料;
所述复合材料包括铌酸锂基底,该铌酸锂基底为平行于c轴晶轴的单畴结构,在该铌酸锂基底的+Z面上附着有纳米金;
步骤二、将纳米金-铌酸锂复合材料置于阴离子型染料溶液中,其附着有纳米金的面朝上,并对纳米金-铌酸锂复合材料施以近红外光照射,吸附在纳米金表面的阴离子型染料被氧化降解。


2.根据权利要求1所述的纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其特征在于:所述步骤二中,所述近红外光的波长为1000-1700nm。


3.根据权利要求1所述的纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其特征在于:所述步骤二中,所述近红外光垂直于所述铌酸锂基底照射。


4.根据权利要求1所述的纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其特征在于:所述步骤二中,所述近红外光的光强为50mW/cm2。


5.根据权利要求1所述的纳米金-铌酸锂复合材料光诱导降解阴离子型染料的方法,其特征在于:所述步骤二中,在对复合材料进行近红外光照射的同时,搅拌阴离子型染料溶液。

【专利技术属性】
技术研发人员:刘晓燕司东辉贾碧张均范保艳邢安
申请(专利权)人:重庆科技学院
类型:发明
国别省市:重庆;50

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1