具有在位标定功能的在位式气体分析系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种具有在位标定功能在位式气体分析系统。其技术方案为：在位式气体分析系统包括光发射装置、光接收装置、信号分析装置、机械连接结构和测量管，光发射装置和光接收装置通过机械连接结构配接在被测气体管道上，还包括：用于在测量光路上和测量管形成与被测气体隔绝的基本密闭管道的附加管；用于控制附加管与测量管形成与被测气体隔绝的基本密闭管道的控制装置；由已知浓度气体气源、阀门和通气接头组成的气体置换装置，通气接头和形成的基本密闭管道连通。本实用新型专利技术结构简单、加工和安装精度要求低、安装调试方便、能实时在位标定，适用于对气体管道中的过程气体进行在位测量、对气体分析系统进行在位标定。（*该技术在2015年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及在位式气体分析系统，特别涉及一种具有在位标定功能的在位式气体分析系统。
技术介绍
在位式气体分析系统与传统采样方式气体分析系统不同，它不需要采样和预处理过程，克服了传统采样方式气体分析系统的很多缺陷，具有系统简单，可靠性高，测量响应速度快，分析精度高，可以测量气体的浓度和速度等优点，在现代工业，科研，环保等领域获得了越来越广泛的应用。在位式气体分析系统可以采用多种吸收光谱技术来实现，如非分光红外光谱(NDIR)技术，差分光学吸收光谱(DOAS)技术，可调谐半导体激光吸收光谱(TDLAS)技术。在位式气体分析系统有以下几种结构型式(1)在位式气体分析系统，图1所示，光发射装置1和光接收装置9通过机械连接结构，包括法兰配接体2阀门3配接在被测过程气体管道4上。机械连接结构上还设置有光路调节结构，弹性橡胶O形圈和紧固螺栓10的组合，用于调节光发射装置1到光接收装置9之间的光路。在机械连接结构上安装有内筒13，14，两内筒间距离是测量光程。在被测过程气体含有粉尘、液滴等颗粒物时，还配置有由通气接头41、阀门45、气体管道和吹扫气源53组成的吹扫系统。如果被测过程气体中含有较多粉尘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种具有在位标定功能的在位式气体分析系统，包括光发射装置、光接收装置、信号分析装置、机械连接结构和测量管，光发射装置和光接收装置通过机械连接结构配接在被测气体管道上，其特征在于：所述的在位式气体分析系统还包括：用于在被测气体管道内且在测量光路上和测量管形成与被测气体隔绝的基本密闭管道的附加管，附加管与测量管连接；用于控制附加管与测量管形成与被测气体隔绝的基本密闭管道的控制装置；由已知浓度气体气源（４０）、阀门（４５）和通气接头（４１）组成的气体置换装置，通气接头（４１）和形成的基本密闭管道连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王健，熊志才，钟安平，
申请(专利权)人：聚光科技杭州有限公司，
类型：实用新型
国别省市：86[]