电镜样品前处理设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种电镜样品前处理设备，包括处理箱、射频离子源、气路系统及真空泵组；处理箱内设有样品腔室；射频离子源连接处理箱并与样品腔室连通；气路系统连接射频离子源，气路系统为射频离子源提供所需的气源；真空泵组连接处理箱并与样品腔室连通，真空泵组用于对样品腔室及射频离子源抽真空。可以在同一个样品腔室同时清洗扫描电子显微镜样品和透射电子显微镜样品，也可以分别独立清洗扫描电子显微镜样品或透射电子显微镜样品，通用性强，有效降低成本；通过射频离子源处理待透射电镜观察并需要亲水性制备的透射电镜样品，实现对透射电镜样品亲水活化无损处理；实现对电镜样品进行真空储存，有效保证电镜样品的质量。

【技术实现步骤摘要】
电镜样品前处理设备
本技术涉及电子显微镜配件
，特别是涉及一种电镜样品前处理设备。
技术介绍
在扫描电镜领域，导电性能差的样品在扫描电镜中长时间进行低加速电压、大倍率成像，或进行EDX(energydispersivex-rayspectroscopy，能量色散x射线光谱仪)成分分析和FIB聚焦离子束操作过程中，可能会在测试区域形成“黑框”，这通常是由聚合物碳沉积引起。其成因在于，当高能电子撞击样品表面时，它们产生大量低能二次电子(SE，secondaryelectrons)，二次电子由于其较低的速度而与样品表面残留的有机污染物分子具有高得多的相互作用面，它们分解有机污染，并在成像区域周围造成“碳沉积”(碳氢化合物或烃)。当表面被薄层烃覆盖时，二次电子产率将降低，于是该区域就会形成影响成像的“黑框”，甚至随碳积影响，表面会累积电荷导致无法清晰成像。更有甚者，碳氢化合物污染严重的时候，可能会导致电子光学成像部件及探测器等污染，使电子束及成像漂移。在透射电镜领域，制备透射电镜样品过程中，势必会或多或少的人为引入了有机污染物到待观察样品本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种电镜样品前处理设备，其特征在于，包括处理箱、射频离子源、气路系统及真空泵组；所述处理箱内设有样品腔室；所述射频离子源连接处理箱并与样品腔室连通；所述气路系统连接射频离子源，所述气路系统为射频离子源提供所需的气源；所述真空泵组连接处理箱并与所述样品腔室连通，所述真空泵组用于对所述样品腔室及所述射频离子源抽真空。/n

【技术特征摘要】
1.一种电镜样品前处理设备，其特征在于，包括处理箱、射频离子源、气路系统及真空泵组；所述处理箱内设有样品腔室；所述射频离子源连接处理箱并与样品腔室连通；所述气路系统连接射频离子源，所述气路系统为射频离子源提供所需的气源；所述真空泵组连接处理箱并与所述样品腔室连通，所述真空泵组用于对所述样品腔室及所述射频离子源抽真空。


2.根据权利要求1所述的电镜样品前处理设备，其特征在于，还包括隔板，所述隔板安装在所述样品腔室内，以将所述样品腔室分隔成强处理区及弱处理区。


3.根据权利要求1所述的电镜样品前处理设备，其特征在于，还包括射频电源，所述射频电源连接所述射频离子源以对所述射频离子源进行供电。


4.根据权利要求1所述的电镜样品前处理设备，其特征在于，还包括透射样品杆连接管，所述透射样品杆连接管连接所述处理箱，且所述透射样品杆连接管内与所述样品腔室连通。


5.根据权利要求4所述的电镜样品前处理设备，其特征在于，所述透射样品杆连接管的数量为多个，多个透射样品杆连接管并列间隔设置。

【专利技术属性】
技术研发人员：张小波，常正凯，张增雄，
申请(专利权)人：深圳市速普仪器有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44