一种光刻胶搅拌装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及光刻胶生产技术领域，具体揭示了一种光刻胶搅拌装置，包括底板，所述底板顶部前侧的两侧和后侧的两侧均开设有缓冲槽，所述缓冲槽内腔的两侧均设置有缓冲件，所述缓冲槽的内腔设置有支撑柱，所述支撑柱远离缓冲槽的一侧并固定连接有固定块，所述固定块的内侧固定连接有搅拌罐。本实用新型专利技术通过设置底板、缓冲槽、缓冲件、支撑柱、固定块、搅拌罐、密封盖、搅拌件和电机的相互配合，达到了防护效果好，且便于对罐壁进行清理等优点，不会造成光刻胶与罐壁粘连，不会导致光刻胶成品的浪费，搅拌装置工作产生的振动，可以进行有效的缓冲，不会造成搅拌装置元件损坏，提高了搅拌装置的使用寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶搅拌装置
本技术涉及光刻胶生产
，具体为一种光刻胶搅拌装置。
技术介绍
光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用，印刷工业是光刻胶应用的另一重要领域，光刻胶的技术复杂，品种较多，根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类，光照后形成不可溶物质的是负性胶，反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。目前现有的光刻胶搅拌装置有以下缺点：防护效果差，且不便于对罐壁进行清理，会造成光刻胶与罐壁粘连，导致光刻胶成品的浪费，搅拌装置工作产生的振动，无法进行有效的缓冲，会造成搅拌装置元件损坏，降低了搅拌装置的使用寿命。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术提供一种光刻胶搅拌装置，具备防护效果好，且便于对罐壁进行清理等优点，解决了现有的光刻胶搅拌装置防护效果差，且不便于对罐壁进行清理的问题。本技术的一种光刻胶搅拌装置，包括底板，所述底板顶部前侧的两侧和后侧的两侧均开设有缓冲槽，所述缓冲槽内腔的两本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光刻胶搅拌装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部前侧的两侧和后侧的两侧均开设有缓冲槽(2)，所述缓冲槽(2)内腔的两侧均设置有缓冲件(3)，所述缓冲槽(2)的内腔设置有支撑柱(4)，所述支撑柱(4)远离缓冲槽(2)的一侧并固定连接有固定块(5)，所述固定块(5)的内侧固定连接有搅拌罐(6)，所述搅拌罐(6)的顶部设置有密封盖(7)，所述搅拌罐(6)的内腔设置有搅拌件(8)。/n

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶搅拌装置，包括底板(1)，其特征在于：所述底板(1)顶部前侧的两侧和后侧的两侧均开设有缓冲槽(2)，所述缓冲槽(2)内腔的两侧均设置有缓冲件(3)，所述缓冲槽(2)的内腔设置有支撑柱(4)，所述支撑柱(4)远离缓冲槽(2)的一侧并固定连接有固定块(5)，所述固定块(5)的内侧固定连接有搅拌罐(6)，所述搅拌罐(6)的顶部设置有密封盖(7)，所述搅拌罐(6)的内腔设置有搅拌件(8)。


2.根据权利要求1所述的一种光刻胶搅拌装置，其特征在于：所述缓冲件(3)包括滑槽(301)，所述滑槽(301)的内腔滑动连接有滑板(302)，所述滑板(302)底部的两侧均固定连接有缓冲弹簧(303)，所述缓冲弹簧(303)的底部与缓冲槽(2)内腔底部的两侧固定连接，所述滑板(302)的顶部与支撑柱(4)的底部固定连接。


3.根据权利要求1所述的一种光刻胶搅拌装置，其特征在于：所述搅拌件(8)包括搅拌轴(801)，所述搅拌轴(801)的两侧均通...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨晓波，
申请(专利权)人：石家庄市尊享电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：河北;13