一种新型α、β表面污染测量仪制造技术

技术编号:26039556 阅读:27 留言:0更新日期:2020-10-23 21:18
本实用新型专利技术属于污染测量技术领域,具体涉及一种新型α、β表面污染测量仪。包括镀铝脉络膜、双闪烁体、光反射结构、光电倍增管、电子学线路;镀铝脉络膜上设置有光反射结构,镀铝脉络膜与光反射结构之间设置有双闪烁体,光反射结构上设置有光电倍增管,光反射结构上端与电子学线路连接。本实用新型专利技术可以达到同时测量α、β表面污染的目的。

【技术实现步骤摘要】
一种新型α、β表面污染测量仪
本技术属于污染测量
,具体涉及一种新型α、β表面污染测量仪。
技术介绍
在从事放射性工作中,人员极有可能被放射性污染,因此必须使用表面污染仪来进行测量,而α、β表面污染测量装置刚好满足了这方面的需求。为了更迅速的完成测量,该装置在设计时采用了大面积的双闪烁体,同时内置光反射结构,能够最大程度的收集双闪烁体产生的光,因此达到较高的测量效率。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种新型α、β表面污染测量仪,达到同时测量α、β表面污染的目的。为达到上述目的,本技术所采取的技术方案为:一种新型α、β表面污染测量仪,包括镀铝脉络膜、双闪烁体、光反射结构、光电倍增管、电子学线路;镀铝脉络膜上设置有光反射结构,镀铝脉络膜与光反射结构之间设置有双闪烁体,光反射结构上设置有光电倍增管,光反射结构上端与电子学线路连接。所述的镀铝脉络膜厚度不超过4μm。所述的双闪烁体,靠近镀铝脉络膜喷涂有ZnS(Ag),其厚度为3.25mg/cm2;靠近光反射结构为塑料闪烁体,其厚度为5mm。所述的光反射结构颜色为黑色。所述的光反射结构内表面均匀喷涂二氧化钛。所述的光电倍增管选用四面窗型的光电倍增管。本技术所取得的有益效果为:双闪烁体可以将α、β射线转换成闪烁光来进行测量。光反射结构需要内部光滑,基本不存在反射死角。电子学线路能通过幅度甄别,将α信号与β信号区分开。双闪烁体外侧覆盖镀铝脉络膜进行避光处理。附图说明图1为新型α、β表面污染测量仪结构图;图中:1-镀铝脉络膜;2-双闪烁体;3-光反射结构;4-光电倍增管;5-电子学线路。具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本技术进行详细说明。先进行双闪烁体尺寸的选型,再对光电倍增管进行选型,最后是光反射结构的设计以及电子学线路的设计。可行性分析:双闪烁体由表面的ZnS(Ag)材料与后端的塑料闪烁体组成。由于α粒子的射程短,当α粒子进入双闪烁体时将全部能量损失在双闪烁体的ZnS(Ag)材料上,引起闪烁发光,由于双闪烁体是半透明的,α粒子闪光能穿过塑料闪烁体进入光电倍增管,产生α信号。β粒子由于穿透能力较强,穿过ZnS(Ag)材料进入塑料闪烁体,引起闪烁发光,进入光电倍增管产生β信号。由于α、β粒子的能量差别通常较大,所以可以通过其产生的闪烁光的强弱来区分α与β,达到同时测量的目的。上述过程产生的闪烁光,通过合理的光反射结构进入光电倍增管产生相应的电信号,再由电子学线路对电信号进行甄别,整形,处理。如图1所示,本技术所述新型α、β表面污染测量仪包括:镀铝脉络膜1,主要用于避光,但是由于α射线穿透能力较弱,因此为了降低它对α探测效率的影响,其厚度不应超过4μm。双闪烁体2,靠近镀铝脉络膜一层喷涂有ZnS(Ag),其厚度为3.25mg/cm2,靠近光反射结构的一侧为塑料闪烁体,为了即对β射线由较高的探测效率,又降低天然γ对其造成的本底影响,经过多次试验,其厚度选定为5mm。光反射结构3,为了将双闪烁体产生的光尽可能的反射到光电倍增管同时又达到避光的性能,其颜色选定为黑色,同时内表面均匀喷涂二氧化钛。光电倍增管4,为了更好的收集光信号,应选用四面窗型的光电倍增管。电子学线路5,将光电倍增管输出的电信号,甄别、整形,分别得到α射线与β射线的计数,最终显示。镀铝脉络膜1上设置有光反射结构3,镀铝脉络膜1与光反射结构3之间设置有双闪烁体2,光反射结构3上设置有光电倍增管4,光反射结构3上端与电子学线路5连接。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种新型α、β表面污染测量仪,其特征在于:包括镀铝脉络膜、双闪烁体、光反射结构、光电倍增管、电子学线路;镀铝脉络膜上设置有光反射结构,镀铝脉络膜与光反射结构之间设置有双闪烁体,光反射结构上设置有光电倍增管,光反射结构上端与电子学线路连接。/n

【技术特征摘要】
1.一种新型α、β表面污染测量仪,其特征在于:包括镀铝脉络膜、双闪烁体、光反射结构、光电倍增管、电子学线路;镀铝脉络膜上设置有光反射结构,镀铝脉络膜与光反射结构之间设置有双闪烁体,光反射结构上设置有光电倍增管,光反射结构上端与电子学线路连接。


2.根据权利要求1所述的新型α、β表面污染测量仪,其特征在于:所述的镀铝脉络膜厚度不超过4μm。


3.根据权利要求1所述的新型α、β表面污染测量仪,其特征在于:所述的双闪烁体,靠近镀...

【专利技术属性】
技术研发人员:张庆威
申请(专利权)人:中核控制系统工程有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1