透射源贮存调节装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种透射源贮存调节装置，包括透射源准直器(101)、透射源屏蔽室(103)以及调节更换装置；所述透射源准直器(101)连接透射源屏蔽室(103)，透射源屏蔽室(103)内设置有一个或多个透射源贮存位置(402)，透射源放置在透射源贮存位置(402)内并与其一一对应，透射源通过透射源准直器(101)向外部发出射线；所述透射源屏蔽室(103)上设置有调节更换装置，调节更换装置能够调节更换不同的透射源从透射源准直器(101)向外部发出射线。本发明专利技术能够放置多个透射源，兼具准直器功能，通过调节更换装置能够根据待辐射物体的密度选择更换合适的透射源，减小密度重建误差。

【技术实现步骤摘要】
透射源贮存调节装置
本专利技术涉及放射性废物测量
，具体地，涉及一种透射源贮存调节装置。
技术介绍
核电厂在运行过程中会产生大量的低中水平放射性废物，按照国家标准，这些放射性废物在最终处置前要对其放射性水平进行测量，而测量中关键的一步就是废物桶密度的测量。而密度测量过程中就需要用到透射源发出的γ射线进行密度重建。为了保证工作人员的安全，透射源一般都是贮存在屏蔽容器中。一般当需要用到该透射源时，需要手动进行放射源的开启和关闭，而在此过程中工作人员就会受到比较大的辐射计量。当废物桶密度较小时，一般选择的透射源能量也较小，因为高能射线很容易穿过废物桶而衰减很少，这样会给重建的密度带来很大的误差；而当废物桶密度很大时，就需要高能γ射线的透射源源，以保证有射线可以穿过。因此实际废物桶测量过程中一般至少需要两种透射源，而常规的办法就是每个源都单独做一个贮存装置，针对不同的桶就再去更换，在此过程中，不仅费时费力，还给工作人员带来很大的辐射剂量，同时放射源的管理也很麻烦。公开号为CN103245679A公开了一种透射源装置，该装置包括推杆、铅屏蔽体和铅屏蔽棒，关键在于，透射源位于铅屏蔽棒下部的透射源腔内，在推杆的底部固定连接有电磁铁，铅屏蔽棒位于电磁铁的正下方，推杆电机控制推杆往下走至接触不锈钢壳时，电磁铁通电，将铅屏蔽棒吸住后推杆电机往上走，将透射源带到透射孔位置的高度，透射源即实现打开功能；透射测量完毕后，推杆电机往下走，使透射源到达透射孔下方闭源屏蔽块的位置后，电磁铁断电，铅屏蔽棒脱离，推杆电机随后向上复位，透射源即实现关闭功能，但是该专利文献的技术方案只能贮存一种放射源，当遇到废物桶密度不同时，需要更换整个贮存装置，还需要制作两种贮存装置，更换和管理都很麻烦。
技术实现思路
针对现有技术中的缺陷，本专利技术的目的是提供一种透射源贮存调节装置。根据本专利技术提供的一种透射源贮存调节装置，包括透射源准直器、透射源屏蔽室以及调节更换装置；所述透射源准直器连接透射源屏蔽室，透射源屏蔽室内设置有一个或多个透射源贮存位置，透射源放置在透射源贮存位置内并与其一一对应，透射源通过透射源准直器向外部发出射线；所述透射源屏蔽室上设置有调节更换装置，调节更换装置能够调节更换不同的透射源从透射源准直器向外部发出射线。优选地，所述透射源准直器包括第一壳体、第一底座、第一铅块以及第一支撑架；所述第一壳体与第一底座连接后形成第一容纳空间，第一支撑架设置在第一容纳空间内，第一铅块设置在第一支撑架上；所述第一壳体、第一支撑架、第一铅块上均设置有准直孔，且第一壳体、第一支撑架以及第一铅块上的准直孔同轴设置。优选地，所述透射源屏蔽室包括第二壳体、第二底座、第二铅块、第二支撑架以及透射源贮存装置；所述第二壳体第二底座连接后形成第二容纳空间，第二支撑架设置在第二容纳空间内，第二铅块设置在第二支撑架上；所述第二铅块上开设贮存槽，贮存槽内设置透射源贮存装置。优选地，所述透射源贮存装置包括转轴、转轴支撑盖以及转动件；所述转动件设置在转轴上并能够随着转轴旋转，转动件的周向上设置一个或多个透射源贮存位置；所述贮存槽的底部设置有第一转轴孔、第二壳体上设置有第二转轴孔，转轴的一端依次穿过第一转轴孔、第二转轴孔连接到调节更换装置，转轴的另一端连接转轴支撑盖；所述转轴支撑盖紧固连接第二支撑架，转轴支撑盖上设置有第三转轴孔，转轴的另一端连接到第三转轴孔，转轴支撑盖上还设置有透射源发射孔，透射源发射孔对准透射源准直器准直孔。优选地，所述透射源贮存位置在转动件周向上均匀间隔设置。优选地，所述调节更换装置包括电机、控制器，所述控制器连接电机并能够调节电机转动的角度，电机的输出轴连接透射源屏蔽室的透射源贮存装置的转轴。优选地，所述调节更换装置还包括手动调节阀，所述手动调节阀设置在第二壳体上，手动调节阀连接电机并能够调节电机转动的角度。优选地，所述调节更换装置还包括变速箱，所述变速箱连接在电机的输出轴与透射源屏蔽室的透射源贮存装置的转轴之间。优选地，所述第一壳体、透射源屏蔽室的第二壳体上设置均设置有连接法兰，第一壳体与透射源屏蔽室的第二壳体通过连接法兰连接；第一壳体、透射源屏蔽室的第二壳体上还设置有吊装孔。优选地，所述第一底座、透射源屏蔽室的第二底座上均设置有底座固定孔。与现有技术相比，本专利技术具有如下的有益效果：1、本专利技术能够放置多个透射源，兼具准直器功能，通过调节更换装置能够根据待辐射物体的密度选择更换合适的透射源，减小密度重建误差。2、本专利技术通过调节更换装置的控制器实现装置的自动开启、更换透射源以及关闭，减少人力物力，并极大程度降低工作人员的所受辐射剂量；同时通过调节更换装置的手动调节阀能够实现应急情况下手动旋转，关闭透射源。3、本专利技术通过在透射源准直器上设置准直孔，使得射线能够呈现为一条细直线射出，转轴支撑盖上设置有与准直孔对准的透射源发射孔，当转动件上放置的透射源与透射源发射孔对准或错位实现射线的开启和关闭。附图说明通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显：图1为本专利技术一个角度的结构示意图。图2为本专利技术另一个角度的结构示意图。图3为本专利技术透射源准直器的结构示意图。图4为本专利技术第一铅块的结构示意图。图5为本专利技术透射源屏蔽室的结构示意图。图6为本专利技术第二铅块的结构示意图。图7为本专利技术透射源屏蔽室的爆炸结构示意图。图中示出：透射源准直器101第一壳体503准直孔102第二铅块301透射源屏蔽室103第二壳体302吊装孔104底座固定孔304连接法兰105底座斜面306变速箱201第二支撑架307电机202转动件401手动调节阀203透射源贮存位置402第一铅块501转轴支撑盖403第一支撑架502转轴404具体实施方式下面结合具体实施例对本专利技术进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本专利技术，但不以任何形式限制本专利技术。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本专利技术构思的前提下，还可以做出若干变化和改进。这些都属于本专利技术的保护范围。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。根据本专利技术提供的一种透射源贮存调节装置，如图1-7所示，包括透射源准直器101、透射源屏蔽室103以及调节更换装置；所述透射源准直器101连接透射源屏蔽室103，透射源屏蔽室1本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种透射源贮存调节装置，其特征在于，包括透射源准直器(101)、透射源屏蔽室(103)以及调节更换装置；/n所述透射源准直器(101)连接透射源屏蔽室(103)，透射源屏蔽室(103)内设置有一个或多个透射源贮存位置(402)，透射源放置在透射源贮存位置(402)内并与其一一对应，透射源通过透射源准直器(101)向外部发出射线；/n所述透射源屏蔽室(103)上设置有调节更换装置，调节更换装置能够调节更换不同的透射源从透射源准直器(101)向外部发出射线。/n

【技术特征摘要】
1.一种透射源贮存调节装置，其特征在于，包括透射源准直器(101)、透射源屏蔽室(103)以及调节更换装置；
所述透射源准直器(101)连接透射源屏蔽室(103)，透射源屏蔽室(103)内设置有一个或多个透射源贮存位置(402)，透射源放置在透射源贮存位置(402)内并与其一一对应，透射源通过透射源准直器(101)向外部发出射线；
所述透射源屏蔽室(103)上设置有调节更换装置，调节更换装置能够调节更换不同的透射源从透射源准直器(101)向外部发出射线。


2.根据权利要求1所述的透射源贮存调节装置，其特征在于，所述透射源准直器(101)包括第一壳体(503)、第一底座、第一铅块(501)以及第一支撑架(502)；
所述第一壳体(503)与第一底座连接后形成第一容纳空间，第一支撑架(502)设置在第一容纳空间内，第一铅块(501)设置在第一支撑架(502)上；
所述第一壳体(503)、第一支撑架(502)、第一铅块(501)上均设置有准直孔(102)，且第一壳体(503)、第一支撑架(502)以及第一铅块(501)上的准直孔(102)同轴设置。


3.根据权利要求1所述的透射源贮存调节装置，其特征在于，所述透射源屏蔽室(103)包括第二壳体(302)、第二底座、第二铅块(301)、第二支撑架(307)以及透射源贮存装置；
所述第二壳体(302)第二底座连接后形成第二容纳空间，第二支撑架(307)设置在第二容纳空间内，第二铅块(301)设置在第二支撑架(307)上；
所述第二铅块(301)上开设贮存槽，贮存槽内设置透射源贮存装置。


4.根据权利要求3所述的透射源贮存调节装置，其特征在于，所述透射源贮存装置包括转轴(404)、转轴支撑盖(403)以及转动件(401)；
所述转动件(401)设置在转轴(404)上并能够随着转轴(404)旋转，转动件(401)的周向上设置一个或多个透射源贮存位置(402)；
所述贮存槽的底部设置有第一转轴孔、第二壳体(302)上设...

【专利技术属性】
技术研发人员：王德忠，顾卫国，杨桧，周文涛，张新煜，王江玮，唐新海，
申请(专利权)人：上海交通大学，
类型：发明
国别省市：上海;31