【技术实现步骤摘要】
一种紫外光发光二极体元件结构及制造方法
本专利技术涉及发光二极体
,尤其涉及一种紫外光发光二极体元件结构及制造方法。
技术介绍
目前,发光波长介于260nm到320nm的深紫外光发光二极体的外部量子效率约1-3%及电光转换效率不到4%。然而,因为缺乏可以有效抵抗因为深紫外光波段照射所产生的化学特性变化的覆盖胶体,因此使用高透光性的石英玻璃(折射系数接近1.53)取代该覆盖胶体,做为保护深紫外光发光二极体的芯片不与环境的空气及水气起任何作用而发生不可预期的失效或严重毁损,并避免使用不适当的覆盖胶体造成质变而吸光,降低了光的萃取效率。再者,由于以蓝宝石为衬底的氮化物系深紫外光发光二极体芯片,其蓝宝石的折射系数接近1.8,氮化物系的化合物半导体折射系数接近2.3,一般为了进一步提高取光效率及有效散热的特性,采取倒装的固晶方式为最佳方案之一。当使用此倒装的固晶方式却又无适当的覆盖胶体介于蓝宝石与高透光性的石英玻璃之间,由氮化物系深紫外光发光二极体芯片的发光层所发出的光经由蓝宝石衬底的一侧射出将因为面对空气(折射系数=1)及石英玻璃的折射系数(折射系数接近1.53)原因,导致光线在空气与石英玻璃之间被折射回来到氮化物系深紫外光发光二极体芯片而被吸收,如此造成多次的再吸收,所以降低了光萃取效率,有其缺点。深紫外光发光二极体的元件,目前采取的封装工艺路线,其所提供的发光二极体芯片与石英玻璃之间存在的空气间隙除了导致降低光萃取效率的缺点外,无法将发光二极体芯片所产生的热有效及快速地传导至外界,容易造成发光二极体光电特性 ...
【技术保护点】
1.一种紫外光发光二极体元件结构,其中,包括:/n一支撑部;/n一透光部,所述支撑部与所述透光部围合形成一容纳空间,所述容纳空间内填充有硅油;/n至少一紫外光发光二极体芯片,位于所述容纳空间内并设置于所述支撑部上;其中,所述紫外光发光二极体芯片的表面及侧面设置有保护层;所述支撑部与所述硅油之间设置有所述保护层。/n
【技术特征摘要】 【专利技术属性】
1.一种紫外光发光二极体元件结构,其中,包括:
一支撑部;
一透光部,所述支撑部与所述透光部围合形成一容纳空间,所述容纳空间内填充有硅油;
至少一紫外光发光二极体芯片,位于所述容纳空间内并设置于所述支撑部上;其中,所述紫外光发光二极体芯片的表面及侧面设置有保护层;所述支撑部与所述硅油之间设置有所述保护层。
2.根据权利要求1所述的紫外光发光二极体元件结构,其中,所述保护层为具有亲水性的SiOX薄膜,所述SiOX薄膜的厚度范围为100nm-1500nm。
3.根据权利要求2所述的紫外光发光二极体元件结构,其中,所述X的取值范围为:1≤X≤3。
4.根据权利要求1或2或3所述的紫外光发光二极体元件结构,其中,所述支撑部包括:
一支架;所述紫外光发光二极体芯片设置于所述支架上;
正电极、负电极,均设置于所述支架上并与所述紫外光发光二极体芯片电连接;
一围坝,设置于所述支架上;
所述透光部包括一石英玻璃盖板,所述石英玻璃盖板设置于所述围坝远离所述支架的一端,所述石英玻璃盖板、所述围坝与所述支架围合形成所述容纳空间;其中,
所述支架、所述围坝与所述硅油之间均设置有所述保护层。
5.根据权利要求1或2或3所述的紫外光发光二极体元件结构,其中,
所述透光部包括一石英玻璃管;
所述支撑部包括:
一封盖,安装在所述石英玻璃管的开口端,所述封盖上设有聚四氯乙烯层,所述封盖与所述石英玻璃管围合形成所述容纳空间;
正电极、负电极,均设置于所述封盖上并与所述紫外光发光二极体芯片电连接;
一支架,至少部分区域位于所述容纳空间内;所述紫外光发光二极体芯片设置于所述支架上;其中,
所述支架、所述封盖与所述硅油之间均设置有所述保护层。
6.根据权利要求5所述的紫外光发光二极体元件结构,其中,所述支架安装于基板上,所述基板上设有导热层。
7.根据权利要求1或2或3所述的紫外光发光二极体元件结构,其中,所述透光部包括一石英玻璃管;
所述支撑部包括:
一封盖,安装在所述石英玻璃管的开口端,所述封盖上设有聚四氯乙烯层,所述封盖与所述石英玻璃管围合形成所述容纳空间;
正电极、负电极,均设置于所述封盖上并与所述紫外光发光二极体芯片电连接;
一基板,至少部分区域位于所述容纳空间内;所述紫外光发光二极体芯片设置于所述基板上;其中,
技术研发人员:蓝文新,刘召忠,林辉,杨小利,
申请(专利权)人:江西新正耀光学研究院有限公司,
类型:发明
国别省市:江西;36
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