三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料及其制备与应用制造技术

本发明专利技术涉及三嗪基D‑A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料及其制备与应用，该光催化材料的制备过程具体为：称取三氯聚嗪置于充满氮气的反应容器中，加入D‑A型含吡唑小分子单体、以及采用氮气脱气后的弱碱和溶剂，油浴加热反应，过滤、洗涤、干燥后，即得到目的产物。与现有技术相比，本发明专利技术所制得的光催化半导体有机材料在水溶液中具有良好的分散性和稳定性，在多次光催化循环后仍能保持稳定的产氢效率，并且在可见光下(λ≥420nm)有高达1000μmolh

【技术实现步骤摘要】
三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料及其制备与应用
本专利技术属于光催化半导体材料
，涉及一种三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料及其制备与应用。
技术介绍
随着人类社会的不断发展，地球上有限的化石燃料已越来越难以满足人类对能源的需求，并且化石燃料的使用也带来了日益严重的环境问题。因此，寻找一种新型、可再生新能源是非常必要的。光催化水分解是一种模拟植物光合作用的主要途径之一，它可以将太阳能这种取之不尽，用之不竭的绿色能源转化为可存储、可再生、清洁、高效的无污染氢气染料，将太阳能转化为稳定的化学能，大大提高对太阳能的利用，是理想的能源开发途径之一。在过去的几十年中，如何提高光催化效率一直是热门话题之一。早期在光催化水分解这一领域以研究无机半导体材料为主，但其性能有限，大部分半导体材料带宽较大，只能吸收太阳光中的紫外波段，而紫外线只占太阳光谱中可用能量的3％，极大的限制了太阳能的利用效率。直到09年，最具有代表性的光催化聚合物半导体材料g-C3N4的发现，有关有机半导体材料的研究才被逐步推进。与无机半导体相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料，其特征在于，其结构如下：/n

【技术特征摘要】
20200318 CN 20201019234951.一种三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料，其特征在于，其结构如下：



其中，为


2.一种三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料的制备方法，其特征在于，称取三氯聚嗪置于充满氮气的反应容器中，加入D-A型含吡唑小分子单体、以及采用氮气脱气后的弱碱和溶剂，油浴加热反应，过滤、洗涤、干燥后，即得到目的产物。


3.根据权利要求2所述的一种三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料的制备方法，其特征在于，三氯聚嗪、D-A型含吡唑小分子单体、弱碱和溶剂的加入量之比为(0.4-0.6)mmol：(0.6-0.9)mmol：(2.4-3.6)mmol：(100-250)mL。


4.根据权利要求2所述的一种三嗪基D-A型含氮有机共轭多孔聚合物光催化材料的制备方法，其特征在于，所述的二唑类小分子单体为1,4-双(1H-吡唑-4-基)苯并噻二唑、1,4-双(1H-吡唑-4-基)2,1,3-苯并恶二唑、或1,4-双(1H-吡唑-4-基)2,1,3-苯并硒基二唑。


5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：张弛，于捷，
申请(专利权)人：同济大学，
类型：发明
国别省市：上海;31