【技术实现步骤摘要】
一种匀胶显影机用光刻胶回收装置
本技术涉及匀胶显影机
,尤其涉及一种匀胶显影机用光刻胶回收装置。
技术介绍
在半导体行业中,光刻和显影是两个重要的步骤,显影过程在显影机上完成,显影过程就是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分取出或保留下来的过程,显影的基本过程是:对准曝光(光刻机)→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。而匀胶显影机需要对曝光后烘干的硅片降温到23℃左右,而目前的匀胶显影机先通过多个冷板对硅片冷却,冷却后的硅片才通过显影液显影。在匀胶显影机的工作过程中,会使用到较多的光刻胶,而这些光刻胶在旋转匀胶的过程中,会被甩落较多,造成资源的浪费。
技术实现思路
本技术的目的是为了解决现有技术在匀胶显影机的工作过程中会使用到较多的光刻胶,而这些光刻胶在旋转匀胶的过程中,会被甩落较多,造成资源的浪费的缺点,而提出的一种匀胶显影机用光刻胶回收装置。为了实现上述目的,本技术采用了如下技术方案:一种匀胶显影机用光刻胶回收装置,包括匀胶机,其外表面设置有控制面板,且匀胶机的底部设置有 ...
【技术保护点】
1.一种匀胶显影机用光刻胶回收装置,其特征在于,包括:/n匀胶机(1),其外表面设置有控制面板(11),且匀胶机(1)的底部设置有多个支脚(12);/n匀胶罐(2),设置于匀胶机(1)的顶部,且匀胶罐(2)的内部安装有作业盘(21),所述匀胶罐(2)的内部两侧均开设有安装槽(22)及装载口(23);/n支板(3),其一侧设置有回收柜(31),且支板(3)的另一侧固定连接有安装杆(32),该安装杆(32)的一端位于安装槽(22)的内部。/n
【技术特征摘要】
1.一种匀胶显影机用光刻胶回收装置,其特征在于,包括:
匀胶机(1),其外表面设置有控制面板(11),且匀胶机(1)的底部设置有多个支脚(12);
匀胶罐(2),设置于匀胶机(1)的顶部,且匀胶罐(2)的内部安装有作业盘(21),所述匀胶罐(2)的内部两侧均开设有安装槽(22)及装载口(23);
支板(3),其一侧设置有回收柜(31),且支板(3)的另一侧固定连接有安装杆(32),该安装杆(32)的一端位于安装槽(22)的内部。
2.根据权利要求1所述的一种匀胶显影机用光刻胶回收装置,其特征在于,所述安装槽(22)为T型开设,且安装杆(32)为T型结构。
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【专利技术属性】
技术研发人员:陈炳添,
申请(专利权)人:厦门恒坤新材料科技股份有限公司,
类型:新型
国别省市:福建;35
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