锍盐、光酸产生剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物制造技术

本发明专利技术提供一种新的锍盐以及新的光酸产生剂等，所述锍盐对i射线具有高感光性，所述光酸产生剂是含有锍盐而成的，所述锍盐对i射线具有高感光性，且与环氧化合物等阳离子聚合性化合物的相容性高，在其配合物中储存稳定性优异。本发明专利技术是一种由下述通式(1)表示的锍盐以及以含有该锍盐为特征的光酸产生剂等。[式(1)中，R表示烷基或芳基，取代基R1～R5相互独立地表示烷基、羟基、烷氧基、芳基、芳氧基、羟基(聚)亚烷基氧基或卤素原子，R6～R9相互独立地表示烷基、芳基或氢原子。m1～m5各自表示R1～R5的个数，m1和m4表示0～3的整数，m2和m5表示0～4的整数，m3表示0～5的整数，X

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】锍盐、光酸产生剂、固化性组合物和抗蚀剂组合物
本专利技术第1涉及锍盐，第2涉及光酸产生剂，更详细而言，涉及适于使光、电子束或X射线等活性能量射线作用而将阳离子聚合性化合物固化时的含有特定锍盐的光酸产生剂。本专利技术第3涉及含有该光酸产生剂的固化性组合物以及使该固化性组合物固化而得到的固化体。本专利技术第4涉及含有该光酸产生剂的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物以及使用了该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的制作方法。本专利技术第5涉及含有该光酸产生剂的化学放大型负型光致抗蚀剂组合物以及使该化学放大型负型光致抗蚀剂组合物固化而得到的固化体。
技术介绍
光酸产生剂是通过照射光、电子束或X射线等活性能量射线进行分解而产生酸的化合物的总称，将通过活性能量射线照射而产生的酸作为活性种，用于聚合、交联、脱保护反应等各种反应中。具体而言，可举出阳离子聚合性化合物的聚合、酚醛树脂与交联剂存在下的交联反应以及将保护基导入到碱可溶性树脂中而成的聚合物的酸催化剂脱保护反应等。近年来，正运用使用光致抗蚀剂的光刻技术而积极进行电子部件的制造、半导体元本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种锍盐，由下述通式(1)表示，/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180525 JP 2018-1003231.一种锍盐，由下述通式(1)表示，



式(1)中，R表示烷基或芳基，取代基R1～R5相互独立地表示烷基、羟基、烷氧基、芳基、芳氧基、羟基(聚)亚烷基氧基或卤素原子，R6～R9相互独立地表示烷基、芳基或氢原子，
m1～m5各自表示R1～R5的个数，m1和m4表示0～3的整数，m2和m5表示0～4的整数，m3表示0～5的整数，X－表示一价的多原子阴离子。


2.根据权利要求1所述的锍盐，其中，取代基R1～R5相互独立地表示烷基或烷氧基。


3.根据权利要求1或2所述的锍盐，其中，R6～R9为甲基。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的锍盐，其中，m1～m5为0。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的锍盐，其中，R为甲基或苯基。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的锍盐，其中，X－为MYa－、(Rf)bPF6－b－、R10cBY4－c－、R10cGaY4－c－、R11SO3－、(R11SO2)3C－或(R11SO2)2N－所示的阴离子，在此，M表示磷原子、硼原子、砷原子或锑原子，Y表示卤素原子，Rf表示氢原子的80摩尔％以上被氟原子取代的烷基，P表示磷原子，F表示氟原子，R10表示至少一个氢原子被卤素原子、三氟甲基、硝基或氰基取代的苯基，B表示硼原子，Ga表示镓原子，R11表示碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～20的全氟烷基或碳原子数6～20的芳基，a表示4～6的整数，b表示1～5的整数，c表示1～4的整数。


7.根据权利要求1～5中任一项所述的锍盐，其中，X－为SbF6－、PF6－、BF4－、(CF3CF2)3PF3－、(CF3CF2CF2CF2)3PF3－、(C6F5)4B－、(C6H5)(C6F5)3B－、((CF3)2C6H3)4B－、(C6F5)4Ga－、((CF3)2C6H3)4Ga－、三氟甲磺酸根阴离子、九氟丁磺酸根阴离子、甲磺酸根阴离子、丁磺酸根阴离子、樟脑磺...

【专利技术属性】
技术研发人员：中尾拓人，高嶋祐作，
申请(专利权)人：三亚普罗股份有限公司，
类型：发明
国别省市：日本;JP