X射线衍射装置制造方法及图纸

技术编号:2592853 阅读:167 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种X射线衍射装置,从入射光学系统(22)射出的X射线入射到被支撑在试样支撑机构(24)上的试样(60)上,来自此处的衍射X射线被受光光学系统(26)检测到。入射光学系统具有X射线源(66)和多层膜反射镜(61)。试样支撑机构的姿势控制机构(36、40)对按照使试样的法线(61)平行于第1旋转中心线(32)的方式将试样维持在第1姿势的状态、按照与之垂直的方式维持在第2姿势的状态进行切换。当将试样维持在第1姿势而使受光光学系统绕第1旋转中心线旋转时,就可以进行面内衍射测定。另一方面,当将试样维持在第2姿势而使受光光学系统同样地旋转时,就可以进行面外衍射测定。因此利用本发明专利技术的X射线衍射装置可以进行面内衍射测定。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种可以进行面内(in-plane)衍射测定的X射线衍射装置。技术背景 所谓面内衍射测定是指如下的测定方法,如图l(a)所示,以极为接近试样表面 10的入射角度a (例如以0.1 0.5度左右的微小入射角度)射入X射线12,从而以极为 接近试样表面10的出射角度13的位置检测到衍射X射线14。以假想线表示的圆16表 示包含试样平面10的平面。此面内衍射是在基本与试样表面垂直的晶格面上发生X射线 衍射时产生的现象。由于是在基本与包含试样表面10的平面16相同的平面内检测到衍 射X射线,因此被称为面内(in-plane)衍射。当使用此面内衍射测定时,由于可以获得试 样的仅表面附近的结晶信息,因此,面内衍射测定特别应用于薄膜试样的分析中。 另一方面,在使用X射线衍射计进行通常的X射线衍射测定的情况下,如图l(b) 所示,在包含试样表面10的法线18和入射X射线12的平面20内检测到衍射X射线。在 本说明书中,将此种通常的测定方法与面内衍射测定相对照地称为面外(out-of-plane)衍 射测定。在对薄膜试样进行面外衍射测定的情况下,为了减少来自薄膜的基底的影响, 也会以极为接近试样表面的入射角度a来使X射线12入射到试样表面10上。此时,薄 膜试样的面外衍射测定通过将X射线在试样表面10上的入射角度a固定来进行测定,从 而成为所谓的非对称的X射线衍射测定。此时,就不是使用集中法的光学系统,而是使 用平行光束法的光学系统。 为了实施面内衍射测定,有必要使用与通常的面外衍射测定用的X射线衍射装 置不同的专用的装置。但是,希望能够以共同的X射线衍射装置来实施面内衍射测定和 面外衍射测定。所以,作为可以实现此目的的方案,已知有公布于特开平11-304731号 公报中的X射线衍射装置。当使用此装置进行薄膜试样的面内衍射测定时,按照如下的 方法操作。将试样的姿势设定为使试样表面垂直竖立。X射线检测器的移动设为,使X 射线检测器绕水平的旋转中心线旋转(即在垂直面内旋转)。此外,使水平行进的X射线 以极为接近的角度入射到试样表面上,通过在垂直面内旋转X射线检测器,捕捉来自试 样表面的面内衍射线。 另一方面,在使用相同的装置,以e-2e方式进行x射线衍射测定(面外衍射测定)时,按照如下的方法操作。试样的姿势与面内衍射测定时相同,使试样表面垂直竖立。x射线检测器的移动与面内衍射测定时不同,使x射线检测器绕垂直的旋转中心线 旋转(即在水平面内旋转)。此外,相对于水平行进的入射x射线,使试样绕垂直的旋转 中心线旋转角度e,并与其连动地使x射线检测器绕与所述的e旋转相同的旋转中心线 旋转角度2 e ,检测来自试样表面的衍射x射线。如果使用此x射线衍射装置进行薄膜 试样的面外衍射测定,以下的方法也是有效的,即,使用平行光束法,将x射线以极为 接近试样表面的角度入射到试样表面上,仅使x射线检测器绕垂直的旋转中心线旋转, 测定衍射x射线。 如果使用所述的公知的X射线衍射装置,从原理上来说,对薄膜试样的面内衍 射测定和面外衍射测定两者都是可能的。面外衍射测定中,使X射线检测器在水平面内 旋转,X射线检测器的此类的旋转可以用通常的测角仪(goniometer)来实现,并可以高精 度地进行其角度控制。所以,检测到的衍射角度的分辨率变高。另一方面,面内衍射测 定中,有必要使相同的X射线检测器在垂直面内旋转,对于此处的旋转,会产生由于要 使其反抗重力旋转,因而难以高精度地进行其角度控制的问题。另外,即使可以在垂直 面内实现高精度的旋转,但是要在水平面内和垂直面内两种情况下都使X射线检测器高 精度地旋转,其旋转控制机构将会十分昂贵。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,提供可以进行面内衍射测定和面外衍射测定,且任意一种 衍射测都可以进行高分辨率的测定的X射线衍射装置。 本专利技术的X射线衍射装置具有如下所示的特征。虽然为了容易理解,以带括号 的符号表示图2 图5所示的实施方式的对应要素,但是本专利技术并不限定于此实施方式。 本专利技术的X射线衍射装置具有入射光学系统22、试样支撑机构24、受光光学系 统26和受光光学系统旋转机构30。从所述入射光学系统22射出的X射线入射到由所述 试样支撑机构24所支撑的试样60上,在此试样60处衍射的X射线被所述受光光学系统 26检测到。所述受光光学旋转机构30为了改变所述受光光学系统26的光轴相对于入射 到所述试样60的X射线的方向所构成的角度2 e ,具有使所述受光光学系统26绕第1旋 转中心线32旋转的功能。所述入射光学系统22具有X射线源66和多层膜反射镜76, 所述多层膜反射镜76具有使从所述X射线源射出的X射线在垂直于所述第1旋转中心线 32的平面内平行化的功能。所述试样支撑机构24具有姿势控制机构36、 40,此姿势控 制机构36、 40具有将所述试样支撑机构24的状态在如下两个状态之间移动的功能,艮卩, 按照所述试样60的表面的法线61与所述第1旋转中心线32实质上平行的方式将所述试 样60维持在第1姿势的状态、按照所述试样60的表面的法线61与所述第1旋转中心线 32实质上垂直的方式将所述试样60维持在第2姿势的状态。所述试样支撑机构24还具 有第l入射角控制机构36、 40,此第1入射角控制机构36、 40是在所述试样60处于所 述第1姿势时,对从所述入射光学系统22射出的X射线入射到所述试样60的表面上时 的入射角度a进行改变的装置,具有使所述试样60绕实质上垂直于所述第1旋转中心线 32的第2旋转中心线37旋转的功能。所述试样支撑机构24还具有第2入射角控制机构 34,此第2入射角控制机构34是在所述试样60处于所述第2姿势时,对从所述入射光学 系统22射出的X射线入射到所述试样60的表面上时的入射角度a进行改变的装置,具 有使所述试样60绕所述第1旋转中心线32旋转的功能。 当将试样维持在所述第1姿势,使所述受光光学系统绕第1旋转中心线旋转时, 就可以进行面内衍射测定。另一方面,当将试样维持在所述第2姿势,使受光光学系统 绕相同的第l旋转中心线旋转时,就可以进行面外衍射测定。这样,根据本专利技术,就可 以在共同的衍射平面内,进行面内衍射测定和面外衍射测定,只要在共同的衍射平面内 努力提高分辨率,就可以都以高分辨率来实施面内衍射测定和面外衍射测定。 所述姿势控制机构36、 40和所述第1入射角控制机构36、 40可以用共同的机构36、 40来实现。 所述多层膜反射镜76的一个类型具有如下部分,S卩,由用于在垂直于所述第l旋转中心线32的第1平面(XY平面)内将X射线平行化的抛物面形状形成的第1反射面96、由用于在垂直于所述第1平面(XY平面)的第2平面(YZ平面)内将X射线平行化的抛物面形状形成的第2反射面97。当使用此种类型的多层膜反射镜时,除了在衍射平面内将入射X射线平行化以外,还在与之垂直的平面内将入射X射线平行化,因此,可以縮小入射角度a的发散,从而适于对例如试样的深度方向的信息的变化进行测定。 所述多层膜反射镜76的其他的类型具有如下的部分,S卩,由用于在垂直于所述第1旋转中心线32的第1平面(XY平面)内将X射线平行化的抛物面形状形成的第1反射面96、由用于在垂直本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种X射线衍射装置,其特征是,(a)此X射线衍射装置具有入射光学系统(22)、试样支撑机构(24)、受光光学系统(26)和受光光学系统旋转机构(30),从所述入射光学系统(22)射出的X射线入射到由所述试样支撑机构(24)所支撑的试样(60)上,在此试样(60)处衍射的X射线被所述受光光学系统(26)检测到;(b)所述受光光学旋转机构(30)为了改变所述受光光学系统(26)的光轴相对于入射到所述试样(60)的X射线的方向形成的角度(2θ),具有使所述受光光学系统(26)绕第1旋转中心线(32)旋转的功能;(c)所述入射光学系统(22)具有X射线源(66)和多层膜反射镜(76),所述多层膜反射镜(76)具有使从所述X射线源射出的X射线在垂直于所述第1旋转中心线(32)的平面内平行化的功能;(d)所述试样支撑机构(24)具有姿势控制机构(36、40),此姿势控制机构(36、40)具有将所述试样支撑机构(24)的状态在如下两个状态之间移动的功能,即,按照所述试样(60)的表面的法线(61)与所述第1旋转中心线(32)实质上平行的方式将所述试样(60)维持在第1姿势的状态、按照所述试样(60)的表面的法线(61)与所述第1旋转中心线(32)实质上垂直的方式将所述试样(60)维持在第2姿势的状态;(e)所述试样支撑机构(24)具有第1入射角控制机构(36、40),此第1入射角控制机构(36、40)是在所述试样(60)处于所述第1姿势时,对从所述入射光学系统(22)射出的X射线入射到所述试样(60)的表面上时的入射角度(α)进行改变的机构,具有使所述试样(60)绕实质上垂直于所述第1旋转中心线(32)的第2旋转中心线(37)旋转的功能;(f)所述试样支撑机构(24)具有第2入射角控制机构(34),此第2入射角控制机构(34)是在所述试样(60)处于所述第2姿势时,对从所述入射光学系统(22)射出的X射线入射到所述试样(60)的表面上时的入射角度(α)进行改变的机构,具有使所述试样(60)绕所述第1旋转中心线(32)旋转的功能。...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:表和彦
申请(专利权)人:株式会社理学
类型:发明
国别省市:JP[]

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