一种超精密零件的加工工艺制造技术

技术编号:25901846 阅读:20 留言:0更新日期:2020-10-13 10:18
本发明专利技术涉及集成电路刻蚀设备中的关键零部件制造工艺,属于干法刻蚀匀流腔,是一种超精密零件的加工工艺。加工难度相当于10mm宽,直径500mm的圆环上,先后实施三次焊接,每层盖板厚度只有1mm,三次焊后加工,保证零件平面度0.1,保证密封性整体漏率小于1E‑10Pa.m3/s。本发明专利技术通过对焊前单件的设计,焊接先后工艺路线的合理排配,焊接过程中变形量的控制,工序之间的互相衔接,焊接参数设置,完成此零件工艺要求。

【技术实现步骤摘要】
一种超精密零件的加工工艺
本专利技术涉半导体集成电路等离子刻蚀设备的核心零部件,此款零件用于刻蚀设备内,对等离子体及其他气体进行匀流作用。属于该行业设备中的核心零部件。
技术介绍
激光焊接工件表面,表面热量通过热传导向内部扩散,通过控制激光脉冲的宽度、能量、峰值功率和重复频率等参数,使工件熔化,形成特定的熔池。针对集成电路刻蚀设备中的关键零部件制造工艺,现有激光焊接存在很多不足,主要是精密的不够高,焊接过程中热应力无法释放。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种超精密零件的加工工艺。本专利技术采用的技术方案是:一种超精密零件的加工工艺,超精密零件需要在宽10mm,直径500mm的圆环上,先后实施三次焊接,每层盖板厚度只有1mm,三次焊后加工,保证零件平面度0.1mm,保证密封性整体漏率小于1E-10Pa.m3/s。焊接前,每一个单件,精度要求0.1mm,需要经过超声波纯水清洗,电解抛光,烘烤,遮蔽孔,遮蔽要求胶塞低于孔平面,防止焊接或机加过程中,有杂质进去腔内。本专利技术的有益效果为:通过本专利技术的工艺使精密加工复杂结构的零件得到实现。附图说明图1为零件三层焊接截图。具体实施方式下面结合附图1对本专利技术进一步详细说明。一种超精密零件的加工工艺,超精密零件需要在宽10mm,直径500mm的圆环上,先后实施三次焊接,每层盖板厚度只有1mm,三次焊后加工,保证零件平面度0.1mm,保证密封性整体漏率小于1E-10Pa.m3/s。焊接前,每一个单件,精度要求0.1mm,需要经过超声波纯水清洗,电解抛光,烘烤,遮蔽孔,遮蔽要求胶塞低于孔平面,防止焊接或机加过程中,有杂质进去腔内。电解抛光工艺参数:工艺参数:温度:60℃(58-65℃),电压:10V;制程流程:脱脂时间10',60℃,10-15',60-65℃;水洗时间60",60-90";电抛50",60℃,40-60",58-65℃;水洗60",60-90";钝化30',30-45’;水洗60",60-90";保湿进入洁净间。每层焊接后,都要进行去应力处理,释放焊接产生的应力;工艺参数:350℃±10℃,保温4h,炉冷。每层激光焊接,焊接后进行平整矫形,矫形平面度要求0.2mm以下。每层焊接,保证密封性,采用自熔焊接,目视要求,焊缝连续,不可以有咬边等缺陷。焊后加工,保证匀流腔进气孔的位置精度要求φ549±0.2,焊前余量0.5mm。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种超精密零件的加工工艺,其特征在于,超精密零件需要在宽10mm,直径500mm的圆环上,先后实施三次焊接,每层盖板厚度只有1mm,三次焊后加工,保证零件平面度0.1mm,保证密封性整体漏率小于1E-10Pa.m3/s。/n

【技术特征摘要】
1.一种超精密零件的加工工艺,其特征在于,超精密零件需要在宽10mm,直径500mm的圆环上,先后实施三次焊接,每层盖板厚度只有1mm,三次焊后加工,保证零件平面度0.1mm,保证密封性整体漏率小于1E-10Pa.m3/s。


2.根据权利要求1所述的一种超精密零件的加工工艺,其特征在于,焊接前,每一个单件,精度要求0.1mm,需要经过超声波纯水清洗,电解抛光,烘烤,遮蔽孔,遮蔽要求胶塞低于孔平面,防止焊接或机加过程中,有杂质进去腔内。


3.根据权利要求2所述的一种超精密零件的加工工艺,其特征在于,电解抛光工艺参数:
工艺参数:温度:60℃(58-65℃),电压:10V;
制程流程:
脱脂时间10',60℃,10-15',60-65℃;
水洗时间60",60-90";
电抛50",60℃,40-60",58-65...

【专利技术属性】
技术研发人员:李文明
申请(专利权)人:沈阳富创精密设备有限公司
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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