一种生物基锦纶56为主体共混的新型锦纶材料制备工艺制造技术

技术编号:25886233 阅读:74 留言:0更新日期:2020-10-09 23:21
本发明专利技术提供一种生物基锦纶56为主体共混的新型锦纶材料的制备工艺,包括如下步骤:1)生物基锦纶56盐水溶液进行聚合反应,得到锦纶56聚合物,冷却切粒得到锦纶56切片;2)将步骤1)制得的锦纶56切片与其他聚酰胺类切片分别真空干燥后,共混得到混合切片,熔融纺丝,纺丝后加工,得到新型锦纶材料。本发明专利技术制备得到的新型锦纶材料(1)具有生物可降解性,有利于长远发展;(2)兼具较高的强力、耐磨性、阻燃性和优异的染色性;(3)可以应用于较高温度、湿度、电压等环境,安全环保。

【技术实现步骤摘要】
一种生物基锦纶56为主体共混的新型锦纶材料制备工艺
本专利技术属于纺织领域,具体涉及一种生物基锦纶56为主体共混的新型锦纶材料制备工艺。
技术介绍
聚酰胺(PA)的重复单元(单体)具有酰胺基团作为特征性特征。聚酰胺纤维又称尼龙、锦纶等,是产量仅次于聚酯纤维的第二大合成纤维,由于其断裂强度高、耐磨、耐疲劳、耐冲击、尺寸稳定性好、轻质柔软、悬垂性好、透气吸湿、弹性好等特点,在军工产品、绳、网、索类、篷布、工业滤布以及在高档缝纫线用丝、T恤衫用丝、雨伞面料、运动纺织品等领域拥有良好的市场前景。聚酰胺材料是通过二胺和二酸之间的缩合反应来制备。聚酰胺纤维基本上是由石油及其衍生物为原料制得,例如目前市场占有量最大的聚酰胺6和聚酰胺66,它们的原料己内酰胺和己二酸是通过苯类同系物经过加氢再氧化等一系列反应制得,己二胺是通过丁二烯或丙烯腈先合成己二腈再通过催化加氢方法方法制备,整个合成工艺复杂,且存在一定污染。生物基聚酰胺56是原料来源于农作物、树木和其它植物及其残体和内含物,通过生物、化学以及物理等手段制造的一类新型生物基纤维,具有优秀的力学本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种生物基锦纶56为主体共混的新型锦纶材料的制备工艺,包括如下步骤:/n1)生物基锦纶56盐水溶液进行聚合反应,得到锦纶56聚合物,冷却切粒得到锦纶56切片;/n2)将步骤1)制得的锦纶56切片与其他聚酰胺类切片分别真空干燥后,共混得到混合切片,熔融纺丝,纺丝后加工,得到新型锦纶材料。/n

【技术特征摘要】
1.一种生物基锦纶56为主体共混的新型锦纶材料的制备工艺,包括如下步骤:
1)生物基锦纶56盐水溶液进行聚合反应,得到锦纶56聚合物,冷却切粒得到锦纶56切片;
2)将步骤1)制得的锦纶56切片与其他聚酰胺类切片分别真空干燥后,共混得到混合切片,熔融纺丝,纺丝后加工,得到新型锦纶材料。


2.根据权利要求1所述的工艺,其特征在于:步骤1)中,所述生物基锦纶56盐水溶液中的生物基锦纶56干盐由生物基1,5-戊二胺与己二酸中和反应制备;
所述生物基1,5-戊二胺由生物法制备;具体可由赖氨酸生物发酵,经过蒸馏法提纯后得到生物基1,5-戊二胺;
所述生物基锦纶56盐水溶液的质量百分含量为20%~80%;
所述生物基锦纶56盐水溶液的pH值为7.5~8.2。


3.根据权利要求1或2所述的工艺,其特征在于:步骤1)进一步包括先将制备得到的锦纶56盐水溶液送入盐液调配罐,在所述盐液调配罐中加入助剂,而后进入聚合工艺;
所述助剂为分子量调节剂,阻燃剂,抗静电剂,抗菌整理剂,抗紫外线整理剂,消光剂中的一种或几种;
所述助剂的加入量为生物基锦纶56干盐质量的0.2%~2%。


4.根据权利要求1-3中任一项所述的工艺,其特征在于:步骤1)中所述聚合反应包括如下操作:将步骤1)中所得生物基锦纶56盐水溶液浓缩,浓缩后的盐水溶液进行预聚反应,预聚反应结束后,解压,进入前聚合器反应,再进入后聚合器反应,即完成聚合反应,得到生物基锦纶56聚合物熔体,熔体冷却后经切粒机切割得到生物基锦纶56切片。


5.根据权利要求4所述的工艺,其特征在于:所述预聚反应在磁力驱动高压釜中进行;
所述磁力驱动高压釜的条件设为:温度210~240℃、压力1.7~1.9MPa、时间1~3h;
所述解压为在闪蒸器中释放反应器内的压力,闪蒸器中温度升至260-270℃;
所述前聚合工艺中,温度为260~290℃,搅拌30~60min得到聚合度接近成品的聚合物;
所述后聚合器工艺中,温度为260~290℃,开真空泵抽真空并搅拌5~20min,排出体系中的水分,得到生物基锦纶56聚合物熔体,冷却后,由切粒机切割得到生物基锦纶56切片。


6.根据权利要求1-5中任一项所述的工艺,其特征在于:步骤2)中,所述其他聚酰胺类切片包括:锦纶6、锦纶8、锦纶9、锦纶66、锦纶69、锦纶610、锦纶612、锦纶11、锦纶12、锦纶46、锦纶1010、锦纶6T中的一种或任意比例的混合物;
所述混合切片中生物基锦纶56切片的质量百分含量为40%~90%。


7.根据权利要求1-6中任一项所述的工艺,其特征在于:不同切片分别进行真空干燥,干燥条件为:首先在90~95℃的条件下干燥3.5~4.5h,后升温至95~12...

【专利技术属性】
技术研发人员:郝新敏郭亚飞梁高勇闫金龙乔荣荣
申请(专利权)人:军事科学院系统工程研究院军需工程技术研究所
类型:发明
国别省市:北京;11

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