一种上气室以及具有该上气室的气垫输送机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种上气室以及具有该上气室的气垫输送机，其中上气室包括上气箱以及安装于上气箱顶部的上盘槽，上盘槽与上气箱之间形成一上气腔，上气箱上设有与上气腔相通的上进气孔；所述上盘槽为中部向下凹陷的弯曲结构且该上盘槽由一块板弯折而成，所述上盘槽具有至少五段相连的弧形板，各弧形板平滑衔接，且上盘槽的各个弧形板的半径由上盘槽底部中心向上盘槽顶部两端依次减小；所述上盘槽底部设有三列上气孔，中间为主气孔，两侧为辅助上气孔，主气孔和辅助上气孔与上气腔相通，以使得上盘槽和输送带在运行时二者之间会形成一个气膜层。本实用新型专利技术能有效提高气垫输送机的载荷能力。

【技术实现步骤摘要】
一种上气室以及具有该上气室的气垫输送机
本技术涉及气垫输送机领域，特别是指一种上气室以及具有该上气室的气垫输送机。
技术介绍
气垫输送机是将普通托辊带式输送机的托辊用带孔的气室代替，并增设供风系统，其余部件与托辊带式输送机相同。气室代替托辊后，供风系统向气室内提供具有一定压力和流量的空气，空气再经由气室盘槽上开设的小孔溢出，在输送带与盘槽之间形成一层稳定的气膜层，亦称气垫，也就是靠此气垫支承输送带及输送带上承载的物料，这样就将输送带与托辊之间的滚动摩擦变成了与气膜层之间的流体摩擦，这样就减少了输送机运行阻力，增加了输送物料过程的稳定。但是现有的气垫输送机的气室盘槽一般采用固定半径的圆弧板制成，其与输送带之间形成的气膜层的浮力不高，导致气垫输送机的载荷能力较低，不能承载重量大的物品，一般只能承载谷物等重量较轻的物品。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种上气室以及具有该上气室的气垫输送机，能有效提高气垫输送机的载荷能力。为了达成上述目的，本技术的解决方案是：一种上气室，其包括上气箱以及安装于上气箱顶部的上盘槽，上盘槽与上气箱之间形成一上气腔，上气箱上设有与上气腔相通的上进气孔；所述上盘槽为中部向下凹陷的弯曲结构且该上盘槽由一块板弯折而成，所述上盘槽具有至少五段相连的弧形板，各弧形板平滑衔接，且上盘槽的各个弧形板的半径由上盘槽底部中心向上盘槽顶部两端依次减小；所述上盘槽底部中心沿上盘槽长度方向设有一列主气孔，主气孔与上气腔相通。所述上盘槽沿上盘槽长度方向设有分别位于主气孔两侧的两列辅助气孔，辅助气孔与上气腔相通。两列所述辅助气孔关于上盘槽中心轴成轴对称设置。所述主气孔的孔径大于辅助气孔的孔径。一种气垫输送机，其包括机架、驱动滚筒、换向滚筒、输送带、下气室以及上述的上气室；所述驱动滚筒和换向滚筒分别可转动的安装于机架上，所述上气室和下气室安装于机架上并位于驱动滚筒和换向滚筒之间，且上气室位于下气室上方；所述下气室包括下气箱以及安装于下气箱顶部的下盘槽，下盘槽与下气箱之间形成一下气腔，下气箱上设有与下气腔相通的下进气孔；所述下盘槽为中部向下凹陷的弯曲结构，下盘槽底部中心沿下盘槽长度方向设有一列下气孔，下气孔与下气腔相通；所述输送带环绕驱动滚筒和环形滚筒，且输送带的上段和下段分别布设在上盘槽和下盘槽中。所述下盘槽为一圆弧板。所述上盘槽的弧形板的半径为输送带带宽的0.1~0.9倍之间；所述上盘槽的弧形板的弧度为15°~70°之间。采用上述方案后，在本技术的上盘槽与现有由圆弧板制成的盘槽具有相同的宽度时，由于本技术的上盘槽具有至少五段相连的弧形板，各弧形板平滑衔接，且上盘槽的各个弧形板的半径由上盘槽底部中心向上盘槽顶部两端依次减小，这样能使得本技术的上盘槽深度会比现有由圆弧板制成的盘槽的深度更大，使得本技术的上盘槽中可以配合尺寸更大的输送带，进而使得上盘槽与输送带之间形成的气膜层的流体量更大，以使得上盘槽与输送带之间形成的气膜层能具有更大的浮力，从而使得输送带能承载更重的物品，提高了气垫输送机的载荷能力。附图说明图1为本技术的气垫输送机的结构示意图；图2为本技术的气垫输送机的断面图；图3为本技术的上盘槽的局部结构示意图；图4为本技术的下盘槽的局部结构示意图；标号说明：机架1，驱动滚筒2，换向滚筒3，输送带4，上气室5，上气腔50，上气箱51，上盘槽52，主气孔521，弧形板522，第一弧形板5221，第二弧形板5222，第三弧形板5223，第四弧形板5224，第五弧形板5225，辅助气孔523，下气室6，下气腔60，下气箱61，下盘槽62，下气孔621，风机7。具体实施方式为了进一步解释本技术的技术方案，下面通过具体实施例来对本技术进行详细阐述。如图1至图4所示，本技术揭示了一种气垫输送机，其包括机架1、驱动滚筒2、换向滚筒3、输送带4、上气室5和下气室6。其中所述驱动滚筒2和换向滚筒3分别可转动的安装于机架1上，驱动滚筒2的转动可由电机进行驱动；所述输送带4环绕驱动滚筒2和环形滚筒3；所述上气室5和下气室6安装于机架1上并位于驱动滚筒1和换向滚筒2之间，且上气室5位于下气室6上方，其中上气室5用于支撑输送带4的上段，输送带4的上段用于承载运送物品，下气室6用于支撑输送带4的下段。具体的，配合图2和图3所示，所述上气室5包括上气箱51以及安装于上气箱51顶部的上盘槽52，上盘槽52与上气箱51可焊接相连；上盘槽52与上气箱51之间形成一上气腔50，上气箱51上设有与上气腔50相通的上进气孔，上进气孔通过管道与外部风机7相连以使得外部风机7能给上气腔50送气；所述上盘槽52为中部向下凹陷的弯曲结构且上盘槽52由一块板弯折而成，上盘槽52底部中心沿上盘槽52长度方向设有一列主气孔521，主气孔521与上气腔50相通，输送带4的上段则布设在上盘槽52中，这样上气腔50内的气体经由主气孔521喷射出来后会进入输送带4上段和上盘槽52之间，使得输送带4上段和上盘槽52之间形成一气膜层，通过该气膜层来支撑输送带4上段。配合图2所示，其中所述上盘槽52具有至少五段相连的弧形板522，各弧形板522平滑衔接，且上盘槽52的各个弧形板522的半径由上盘槽52底部中心向上盘槽52顶部两端依次减小；这样在本技术的上盘槽52与现有由圆弧板制成的盘槽具有相同的宽度L时，由于上盘槽52的各弧形板522平滑衔接，且上盘槽52的各个弧形板522的半径由上盘槽52底部中心向上盘槽52顶部两端依次减小，这样本技术的上盘槽深度H会比现有由圆弧板制成的盘槽的深度更大，使得本技术的上盘槽52中可以配合尺寸更大的输送带4，进而使得上盘槽52与输送带4之间形成的气膜层的流体量更大，以使得上盘槽52与输送带4之间形成的气膜层能具有更大的浮力，从而使得输送带4能承载更重的物品，提高了气垫输送机的载荷能力。而且本技术的上盘槽深度H会比现有由圆弧板制成的盘槽的深度更大，使得本技术的上盘槽52中可以配合尺寸更大的输送带4，这样由主气孔521喷射进入输送带4到上盘槽52与输送带4之间的气体能停留在上盘槽52与输送带4之间更久，从而能延长上盘槽52与输送带4之间形成的气膜层支撑输送带4的时间，提高气体利用率。其中上盘槽52的弧形板522的半径可以为输送带4带宽的0.1~0.9倍之间，上盘槽52的弧形板522的弧度可以为15°~70°之间。配合图2所示，所述上盘槽52可具有五段平滑衔接的弧形板522，且上盘槽52可以为对称结构，五段弧形板522分为依次连接的第一弧形板5221、第二弧形板5222、第三弧形板5223、第四弧形板5224和第五弧形板5225，第三弧形板5223位于上盘槽52正中位置；经过测试，在上盘槽52中配合的输送带4的带宽为500毫米至2000毫米时，在输送带4的带速为本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种上气室，其特征在于：包括上气箱以及安装于上气箱顶部的上盘槽，上盘槽与上气箱之间形成一上气腔，上气箱上设有与上气腔相通的上进气孔；/n所述上盘槽为中部向下凹陷的弯曲结构且该上盘槽由一块板弯折而成，所述上盘槽具有至少五段相连的弧形板，各弧形板平滑衔接，且上盘槽的各个弧形板的半径由上盘槽底部中心向上盘槽顶部两端依次减小；所述上盘槽底部中心沿上盘槽长度方向设有一列主气孔，主气孔与上气腔相通。/n

【技术特征摘要】
1.一种上气室，其特征在于：包括上气箱以及安装于上气箱顶部的上盘槽，上盘槽与上气箱之间形成一上气腔，上气箱上设有与上气腔相通的上进气孔；
所述上盘槽为中部向下凹陷的弯曲结构且该上盘槽由一块板弯折而成，所述上盘槽具有至少五段相连的弧形板，各弧形板平滑衔接，且上盘槽的各个弧形板的半径由上盘槽底部中心向上盘槽顶部两端依次减小；所述上盘槽底部中心沿上盘槽长度方向设有一列主气孔，主气孔与上气腔相通。


2.如权利要求1所述的一种上气室，其特征在于：所述上盘槽沿上盘槽长度方向设有分别位于主气孔两侧的两列辅助气孔，辅助气孔与上气腔相通。


3.如权利要求2所述的一种上气室，其特征在于：两列所述辅助气孔关于上盘槽中心轴成轴对称设置。


4.如权利要求2或3所述的一种上气室，其特征在于：所述主气孔的孔径大于辅助气孔的孔径。


5.一种气垫...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖政宗，
申请(专利权)人：珀挺机械工业厦门有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35