基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置制造方法及图纸

技术编号:25859697 阅读:48 留言:0更新日期:2020-10-09 21:22
本实用新型专利技术涉及一种等离子体反应装置,尤其涉及一种基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置。由供气系统、第一射频放电等离子体发生系统、第二射频放电等离子体发生系统和搅拌反应罐构成,供气系统通过一号连接管分别与二号连接管和三号连接管连接,二号连接管与第二射频放电等离子体发生系统连接,三号连接管与第一射频放电等离子体发生系统连接,第一射频放电等离子体发生系统出气口与第一搅拌反应罐进气口连接,第二射频放电等离子体发生系统出气口与第二搅拌反应罐进气口连接,第一搅拌反应罐进气口和第二搅拌反应罐进气口设在搅拌反应罐罐壁的下部。具有无污染、处理量大的优点。

【技术实现步骤摘要】
基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置
本技术涉及一种等离子体反应装置,尤其涉及一种基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置。
技术介绍
放电等离子体处理技术是一种高级氧化技术,由于具有高效、低温、低能耗、无副产物等优点,被广泛应用于水处理、食品杀菌、生物大分子修饰等多个领域。但是,现有的液相等离子体反应装置由于金属放电极板与物料直接接触,金属离子溶出导致了物料污染。普遍解决的办法是采用介质阻挡放电等离子体的处理方式,即将放电极板包埋于塑料材料中,避免了金属离子溶出。但是,介质阻挡放电等离子体的处理空间十分狭小,限制了处理能力,无法实现工业化生产。因此,开发一种适用于工业化生产的洁净液相等离子体处理装置及其处理方法成为本领域技术人员急需解决的技术问题。
技术实现思路
为了解决上述技术问题本技术提供一种基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置,目的是避免物料与放电极板直接接触,增加液相等离子体的产生。为了实现上述技术目的,本技术的技术方案如下:基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置,由供气系统、第一射频放电本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置,其特征在于由供气系统(1)、第一射频放电等离子体发生系统(2)、第二射频放电等离子体发生系统(4)和搅拌反应罐(3)构成,供气系统(1)通过一号连接管(11)分别与二号连接管(12)和三号连接管(13)连接,二号连接管(12)与第二射频放电等离子体发生系统(4)连接,三号连接管(13)与第一射频放电等离子体发生系统(2)连接,第一射频放电等离子体发生系统(2)出气口与第一搅拌反应罐进气口(301)连接,第二射频放电等离子体发生系统(4)出气口与第二搅拌反应罐进气口(302)连接,第一搅拌反应罐进气口(301)和第二搅拌反应罐进气口(302)设在搅...

【技术特征摘要】
1.基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置,其特征在于由供气系统(1)、第一射频放电等离子体发生系统(2)、第二射频放电等离子体发生系统(4)和搅拌反应罐(3)构成,供气系统(1)通过一号连接管(11)分别与二号连接管(12)和三号连接管(13)连接,二号连接管(12)与第二射频放电等离子体发生系统(4)连接,三号连接管(13)与第一射频放电等离子体发生系统(2)连接,第一射频放电等离子体发生系统(2)出气口与第一搅拌反应罐进气口(301)连接,第二射频放电等离子体发生系统(4)出气口与第二搅拌反应罐进气口(302)连接,第一搅拌反应罐进气口(301)和第二搅拌反应罐进气口(302)设在搅拌反应罐(3)罐壁的下部。


2.根据权利要求1所述的基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置,其特征在于所述的供气系统(1)由气瓶(101)和/或气泵(106)供气;所述的气瓶(101)供气时,气瓶(101)出口与气体混合器(108)连接,气体混合器(108)与一号连接管(11)连接,气瓶(101)出口设有阀门;气泵(106)供气时,气泵(106)进气端与空气过滤器(105)连接,气泵(106)出气管上设有第四阀门(107);气瓶(101)至少2个。


3.根据权利要求1所述的基于射频放电等离子体的液相等离子体反应装置,其特征在于第一射频放电等离子体发生系统(2)的结构如下:由第一射频放电管(202)和第一高脉冲电源发生器(201)组成,第一射频放电管(202)进气口通过三号连接管(13)与供气系统(1)连通,第一射频放电管(202)出气口直接与第一搅拌反应罐进气口(301)连通。

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【专利技术属性】
技术研发人员:马凤鸣李浦李淼杨强王惠雯王月华陈冰瑶
申请(专利权)人:沈阳农业大学
类型:新型
国别省市:辽宁;21

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