高密度光栅偏振相关自成像的探测方法和装置制造方法及图纸

一种高密度光栅偏振相关自成像的探测方法和装置，本发明专利技术方法的核心是利用一片１／４波片和一片偏振片精确控制入射光的偏振态，将光栅放在微动平台上，精确控制其位置，然后用纳米开口的光纤扫描不同偏振入射光下的泰伯像，再由计算机进行数据处理，即可获得高密度光栅的偏振相关自成像。其装置包括一激光器，沿该激光器出射的激光束方向依次设１／４波片、偏振片、高密度光栅和头部开口的光纤探针，该高密度光栅放在微动平台上，该微动平台由计算机精确控制在激光束方向的移动，所述的光纤探针由压电陶瓷管驱动进行扫描，所述的光纤探针的尾部经光电探测器与计算机相连。本发明专利技术可检测高密度光栅在不同偏振态入射光下的自成像效应，测量精度高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及高密度光栅，特别是一种高密度光栅偏振相关自成像的探测方法和装置，是一种周期为入射光波长2.5倍左右的高密度光栅偏振相关自成像测量的方法和装置。
技术介绍
光栅是一种非常重要的色散光学元件，泰伯在1836年发现在接近光栅表面的特定距离处会出现与光栅结构相同的像，称为泰伯效应或光栅自成像效应，它是指光栅在单色光的照明下在周期距离上出现光栅的衍射像，它具有和原光栅相同的周期。泰伯效应是一个基本的光学现象，早已被人们深入地研究过，最近，人们在泰伯效应上又取得了新的进展，认识到分数泰伯距离上仍有光栅的自成像效应，并且发展了一整套简单规则来对其进行解释。[C.Zhou，S.Stankovic，and T.Tschudi，“Analytic phase-factor equations for Talbot array illuminations，”Appl.Opt.38，284-290(1999)]、[C.Zhou，W. Wang，E.Dai，and L. Liu，“Simple principles of theTalbot effect，”Opt.&Pho本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高密度光栅偏振相关自成像的探测方法，其特征在于该方法是利用一片１／４波片（３）和一片偏振片（４）精确控制入射光的偏振态，将高密度光栅（５）放在微动平台（７）上，精确控制其位置，然后用纳米开口的光纤探针（８）扫描不同偏振入射光下的泰伯像（６），再由计算机（１２）进行数据处理，即可获得高密度光栅的偏振相关自成像。

【技术特征摘要】
1.一种高密度光栅偏振相关自成像的探测方法，其特征在于该方法是利用一片1/4波片(3)和一片偏振片(4)精确控制入射光的偏振态，将高密度光栅(5)放在微动平台(7)上，精确控制其位置，然后用纳米开口的光纤探针(8)扫描不同偏振入射光下的泰伯像(6)，再由计算机(12)进行数据处理，即可获得高密度光栅的偏振相关自成像。2.一种利用权利要求1所述的方法进行高密度光栅偏振相关自成像的探测装置，其特征在于包括一激光器(1)，沿该激光器(1)出射的激光束(2)方向依次设1/4波片(3)、偏振片(4)、高密度光栅(5)和光纤，该高密度光栅(5)放在微动平台(7...

【专利技术属性】
技术研发人员：周常河，陆云清，
申请(专利权)人：中国科学院上海光学精密机械研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]