一种光学组件以及光刻系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种光学组件、光刻系统以及光刻投影方法，通过在基底101上设置反射层102，在基底101背面和/或基底101与反射层102之间设置热电层103，能够通过热电层103将光学组件中的热能转换为电能，从而及时把热能从光学组件中传导出去，降低了光学组件的温度，避免了光学组件因受热变形，有效提高了光学组件的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种光学组件以及光刻系统
本技术涉及半导体制造
，尤其涉及一种光学组件以及光刻系统。
技术介绍
现有技术中极紫外光刻系统主要可以包括极紫外光源、光照系统、掩膜工作台、投影系统和晶圆工作台，通常极紫外光通过光照系统照射到掩膜工作台上后，再通过投影系统反射到晶圆工作台。因极紫外光的波长约在10纳米～14纳米，波长较短很容易被材料吸收，因此，在极紫外光通过光照系统、掩膜工作台或投影系统中的光学元件例如反射镜时，会有大量的能量损耗，同时产生热能导致反射镜形变，最终影响极紫外光刻系统制程的稳定性。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是：如何有效的将光学组件中的热能传到出去。为解决上述技术问题，本技术提供了一种光学组件以及光刻系统。本技术的第一个方面，提供了一种光学组件，其包括：基底；反射层，所述反射层位于所述基底上；热电层，所述热电层位于所述基底背面和/或所述基底与所述反射层之间。优选的，所述光学组件包括至少一个反射镜元件。优选的，所述光学组件包括光罩装置或光收集装置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学组件，其特征在于，包括：/n基底；/n反射层，所述反射层位于所述基底上；/n热电层，所述热电层位于所述基底背面和/或所述基底与所述反射层之间。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学组件，其特征在于，包括：
基底；
反射层，所述反射层位于所述基底上；
热电层，所述热电层位于所述基底背面和/或所述基底与所述反射层之间。


2.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述光学组件包括至少一个反射镜元件。


3.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述光学组件包括光罩装置或光收集装置。


4.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，形成所述热电层的材料包括石墨烯、碲化铋、碲化铅或硅锗中的任意一种热电材料。


5.根据权利要求4所述的光学组件，其特征在于，所述热电层设置为多层，相邻两层热电层之间设置有导热层。


6.根据权利要求4所述的光学组件，其特征在于，所述热电层设置为多层，多层热电层连续堆叠设置。


7.根据权利要求5或6所述的光学组件，其特征在于，多层热电层由不同的热电材料组成。


8.根据权利要求1所述的光学组件，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李建新，曾依蕾，杨忠宪，
申请(专利权)人：福建省晋华集成电路有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35