一种产生特殊聚焦光斑的位相板制造技术

本实用新型专利技术公开了一种产生特殊聚焦光斑的位相板。该位相板呈圆形，通过其表面的结构对入射光进行相位调制，产生特殊聚焦光斑。其特征在于该位相板具有圆形的相位分布，能够使透过的平行光束在聚焦平面产生特殊聚焦光斑，同时，改变入射光的波长还可以得到不同大小的聚焦光斑。在光刻领域、尤其是无掩膜光刻领域有着广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种产生特殊聚焦光斑的位相板
本技术涉及位相调控领域，具体涉及一种产生特殊聚焦光斑的位相板。
技术介绍
集成电路中，需要将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形，这一过程需要通过光刻技术实现。普通的光刻机需要让光束通过掩膜图形，平行地缩小投影到表面涂有光刻胶的衬底上，但是掩膜制板作费用较高，而且使用寿命比较短。直写式光刻机则直接将会聚的光束斑打在表面涂有光刻胶的衬底上,不需经过掩模板。本专利涉及的一种产生特殊聚焦光斑的位相板，就可以应用于直写式光刻机中，产生特殊聚焦光斑字样。改变该位相板的入射光波长，还可以生成各种大小的聚焦光斑。
技术实现思路
本技术专利提供了一种产生特殊聚焦光斑的位相板，该位相板能对入射的光束进行相位调制，无需掩模版，即可产生特殊的聚焦光斑。该光斑的大小可以进行通过改变入射光的波长进行调节。一种产生特殊聚焦光斑的位相板，其表面有位相编码结构，位相变化范围从0到2π。波长为的平行光入射到位相板表面，在聚焦平面可以得到特殊的聚焦光斑，光斑的像素大小为，光斑为边长为的正方形。...

【技术保护点】
1.一种产生特殊聚焦光斑的位相板，其特征在于：所述一种产生特殊聚焦光斑的位相板工作在特定的光学系统下，该光学系统包含：相干光源(1)；准直透镜(2)；一种产生特殊聚焦光斑的位相板(3)；凸透镜(4)；感光器件(5)；所述一种产生特殊聚焦光斑的位相板表面具有特殊的位相编码结构，能够使穿过该位相板的平行光经过凸透镜汇聚，在工作平面形成特殊聚焦光斑。/n

【技术特征摘要】
1.一种产生特殊聚焦光斑的位相板，其特征在于：所述一种产生特殊聚焦光斑的位相板工作在特定的光学系统下，该光学系统包含：相干光源(1)；准直透镜(2)；一种产生特殊聚焦光斑的位相板(3)；凸透镜(4)；感光器件(5)；所述一种产生特殊聚焦光斑的位相板表面具有特殊的位相编码结构，能够使穿过该位相板的平行光经过凸透镜汇聚，在工作平面形成特殊聚焦光斑。
...

【专利技术属性】
技术研发人员：马超然，李旸晖，郭璐璐，陈伟，
申请(专利权)人：中国计量大学，
类型：新型
国别省市：浙江;33