X射线分析装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种以简单的结构实现小型并能够进行微小部测定的X射线分析装置。一种X射线分析装置具备：测角仪，其具有沿着第一方向延伸的入射侧臂、固定部和接收侧臂；X射线源部，其配置在所述入射侧臂上，用于产生沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸的X射线源；支撑台，其配置在所述固定部上，用于支撑样品；平行狭缝，其配置在所述固定部上，用于限制由所述X射线源部所产生的X射线源沿着所述第二方向的线宽；以及检测器，其配置在所述接收侧臂上，用于检测由所述样品所产生的散乱X射线。

【技术实现步骤摘要】
X射线分析装置
本专利技术涉及一种X射线分析装置，尤其涉及一种实现装置小型化和微小部测定的技术。
技术介绍
一般，X射线分析装置具备具有两条臂的测角仪。X射线源和入射侧光学元件配置在一侧的臂上，检测器和接收侧光学元件配置在另一侧的臂上。在样品的入射侧具备平行狭缝的X射线分析装置在使用中。专利文献1公开了一种配置在样品的入射侧的舒尔茨狭缝。专利文献2公开了一种配置在样品的入射侧的长度限制狭缝。专利文献1：日本特开平11-281595号公报专利文献2：日本特开2015-102432号公报
技术实现思路
近几年，能够进行微小部测定的X射线分析装置的需求正在增长。如专利文献1和专利文献2所示，使用舒尔茨狭缝(或长度限制狭缝)能够限制入射侧的X射线束的线宽，从而限制照射到样品上的X射线的照射区域。因此希望X射线分析装置的小型化和通用化。一般，由于通用的X射线分析装置的测角仪的臂较长，因而能够将多种光学系统元件配置在臂上。但是，如果将X射线分析装置小型化，则会限定由X射线产生装置和入射光学系统元件构成的光本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种X射线分析装置，其特征在于，具备：/n测角仪，其具有沿着第一方向延伸的入射侧臂、固定部和接收侧臂；/nX射线源部，其配置在所述入射侧臂上，用于产生沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸的X射线源；/n支撑台，其配置在所述固定部上，用于支撑样品；/n平行狭缝，其配置在所述固定部上，用于限制由所述X射线源部所产生的X射线源沿着所述第二方向的线宽；以及/n检测器，其配置在所述接收侧臂上，用于检测由所述样品所产生的散乱X射线。/n

【技术特征摘要】
20190319 JP 2019-0506891.一种X射线分析装置，其特征在于，具备：
测角仪，其具有沿着第一方向延伸的入射侧臂、固定部和接收侧臂；
X射线源部，其配置在所述入射侧臂上，用于产生沿着与所述第一方向交叉的第二方向延伸的X射线源；
支撑台，其配置在所述固定部上，用于支撑样品；
平行狭缝，其配置在所述固定部上，用于...

【专利技术属性】
技术研发人员：刑部刚，小泽哲也，尾本和树，
申请(专利权)人：株式会社理学，
类型：发明
国别省市：日本;JP