一种锐钛纳米光触媒生产工艺制造技术

技术编号:25819545 阅读:17 留言:0更新日期:2020-10-02 14:05
本发明专利技术提供一种锐钛纳米光触媒生产工艺,涉及锐钛纳米光触媒生产技术领域。该锐钛纳米光触媒生产工艺,包括有如下步骤:S1、采用偏钛酸与浓硫酸按1比4的比例加入到常压5吨高压反应釜里,S2、升温搅拌至100度,使偏钛酸完全溶解,S3、然后再加入整釜液体的0.3%的稀土元素,继续恒温100度。该锐钛纳米光触媒生产工艺,确保纳米光触媒二氧化钛粒径细度稳定无粗粒,晶格修饰完美,稀土元素的加入大大提高了光触媒纳米二氧化钛的光催化降解能力,本纳米光触媒由于细度细,在后续开稀过程,产品更温定保存和后期对所喷涂的基材有更好的附着力,更便于长效发挥清除有害物质。

【技术实现步骤摘要】
一种锐钛纳米光触媒生产工艺
本专利技术涉及锐钛纳米光触媒生产
,特别的为一种锐钛纳米光触媒生产工艺。
技术介绍
光触媒是一种纳米级的金属氧化物材料,它涂布于基材表面,干燥后形成薄膜,在光线的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,抗菌率高达99.99%,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除臭、抗污等功能。光触媒在光的照射下,会产生类似光合作用的光催化反应,产生出氧化能力极强的自由氢氧基和活性氧,具有很强的光氧化还原功能,可氧化分解各种有机化合物和部分无机物,能破坏细菌的细胞膜和固化病毒的蛋白质,可杀灭细菌和分解有机污染物,把有机污染物分解成无污染的水和二氧化碳,因而具有极强的杀菌、除臭、防霉、防污自洁、净化空气功能。光触媒的特性为利用空气中的氧分子及水分子将所接触的有机物转换为二氧化碳跟水,自身不起变化,却可以促进化学反应的物质,理论上有效期非常长久,维护费用低,但是现有技术中,现有的纳米钛光触媒二氧化钛粒径粗,光催化降解差,晶格缺陷,稳定性差,从而在使用上不能更好的对锐钛纳米光触媒进行使用。
技术实现思路
本专利技术提供的专利技术目的在于提供一种锐钛纳米光触媒生产工艺,可有效解决上述
技术介绍
中的问题。为实现以上目的,本专利技术通过以下技术方案予以实现:一种锐钛纳米光触媒生产工艺,包括有如下步骤:S1、采用偏钛酸与浓硫酸按1比4的比例加入到常压5吨高压反应釜里。S2、升温搅拌至100度,使偏钛酸完全溶解。S3、然后再加入整釜液体的0.3%的稀土元素,继续恒温100度。S4、停止搅拌,降至常温,抽出釜内液体加至高压耐腐喷射装置备用。S5、开起5吨高压反应釜,加入1.8吨硫酸水溶液。S6、升温高压反应釜至240度,压力在10MPA。S7、开起电磁高速搅拌器。S8、打开高压反应釜顶部的高压喷射装置开关和高压蒸汽开关。S9、当高压喷射装置内的硫酸钛喷射完毕,即刻关闭蒸汽喷射阀。S10、停止高压反应釜电磁高速搅拌器和关掉加热器。S11、高压反应釜在静态停温高压状态下保持90分钟。S12、高压反应釜高压保持完毕后缓慢放掉高压釜内压力,并开起高压釜冷循环,把高压反应釜内液体降至常温。S13、开起压漏机隔膜泵抽空釜内液体注入压漏机。S14、抽漏完毕,卸下压漏机板上的纳米粉装入防腐烤箱,常温50度烘烤,36小时收集包装。进一步的,包括以下步骤:将根据S2中的操作步骤,高压反应釜的搅拌速度为80转每分钟。进一步的,包括以下步骤:将根据S3中的操作步骤,高压反应釜的搅拌速度为380转每分钟,并持续60分钟。进一步的,包括以下步骤:将根据S5中的操作步骤,硫酸水溶液的PH等于1.8。进一步的,包括以下步骤:将根据S8中的操作步骤,高压喷射装置与蒸汽喷射装置压力分别恒定在13MPA。本专利技术提供了一种锐钛纳米光触媒生产工艺。具备以下有益效果:该锐钛纳米光触媒生产工艺,确保纳米光触媒二氧化钛粒径细度稳定无粗粒,晶格修饰完美,稀土元素的加入大大提高了光触媒纳米二氧化钛的光催化降解能力,本纳米光触媒由于细度细,在后续开稀过程,产品更温定保存和后期对所喷涂的基材有更好的附着力,更便于长效发挥清除有害物质。具体实施方式实施例1:本专利技术提供一种技术方案:一种锐钛纳米光触媒生产工艺,包括以下具体实施步骤:步骤1、采用偏钛酸与浓硫酸按1比4的比例加入到常压5吨高压反应釜里,可以对偏钛酸与浓硫酸进行搅拌处理。步骤2、升温搅拌至100度,使偏钛酸完全溶解,通过将高压反应釜内部的温度升温至100度,从而使得偏钛酸可以更好的进行溶解处理。步骤3、然后再加入整釜液体的0.3%的稀土元素,继续恒温100度,高压反应釜的搅拌速度为380转每分钟,并持续60分钟,加入0.3%的稀土元素,在使用上,可以更好的使的高压反应釜内部的产品进行完全的搅拌融合处理。步骤4、停止搅拌,降至常温,抽出釜内液体加至高压耐腐喷射装置备用,便于后续对产品进行生产处理。步骤5、开起5吨高压反应釜,加入1.8吨硫酸水溶液,硫酸水溶液的PH等于1.8,加入PH1.8的硫酸水溶液,在使用上可以更好的对产品进行生产处理。步骤6、升温高压反应釜至240度,压力在10MPA,高压反应釜的温度升至240度,同时压力在10MPA,从而在使用上,可以更好的对产品进行生产处理;步骤7、开起电磁高速搅拌器,通过电磁高速搅拌器,可以更好的对高压反应釜内部的产品进行搅拌处理;步骤8、打开高压反应釜顶部的高压喷射装置开关和高压蒸汽开关,高压喷射装置与蒸汽喷射装置压力分别恒定在13MPA,通过将高压喷射装置与蒸汽喷射装置压力分别恒定在13MPA,从而在使用上可以更好的对产品进行生产处理;步骤9、当高压喷射装置内的硫酸钛喷射完毕,即刻关闭蒸汽喷射阀,可以及时的对硫酸钛进行停止喷射处理,便于使用;步骤10、停止高压反应釜电磁高速搅拌器和关掉加热器,停止搅拌和加热,便于对高压反应釜内部的产品进行降温处理;步骤11、高压反应釜在静态停温高压状态下保持90分钟,90分钟可以更好的对高压反应釜内部的产品进行降温处理;步骤12、高压反应釜高压保持完毕后缓慢放掉高压釜内压力,并开起高压釜冷循环,把高压反应釜内液体降至常温,缓慢释放高压反应釜内部的压力,便于使用,同时通过高压反应釜冷循环,可以更好的将高压反应釜内部的产品温度降至常温;步骤13、开起压漏机隔膜泵抽空釜内液体注入压漏机,便于对产品进行生产处理;步骤14、抽漏完毕,卸下压漏机板上的纳米粉装入防腐烤箱,常温50度烘烤,36小时收集包装,便于对生产后的产品进行包装处理。以上所述的仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术创造构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本专利技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种锐钛纳米光触媒生产工艺,其特征在于,包括有如下步骤:/nS1、采用偏钛酸与浓硫酸按1比4的比例加入到常压5吨高压反应釜里;/nS2、升温搅拌至100度,使偏钛酸完全溶解;/nS3、然后再加入整釜液体的0.3%的稀土元素,继续恒温100度;/nS4、停止搅拌,降至常温,抽出釜内液体加至高压耐腐喷射装置备用;/nS5、开起5吨高压反应釜,加入1.8吨硫酸水溶液;/nS6、升温高压反应釜至240度,压力在10MPA;/nS7、开起电磁高速搅拌器;/nS8、打开高压反应釜顶部的高压喷射装置开关和高压蒸汽开关;/nS9、当高压喷射装置内的硫酸钛喷射完毕,即刻关闭蒸汽喷射阀;/nS10、停止高压反应釜电磁高速搅拌器和关掉加热器;/nS11、高压反应釜在静态停温高压状态下保持90分钟;/nS12、高压反应釜高压保持完毕后缓慢放掉高压釜内压力,并开起高压釜冷循环,把高压反应釜内液体降至常温;/nS13、开起压漏机隔膜泵抽空釜内液体注入压漏机;/nS14、抽漏完毕,卸下压漏机板上的纳米粉装入防腐烤箱,常温50度烘烤,36小时收集包装。/n

【技术特征摘要】
1.一种锐钛纳米光触媒生产工艺,其特征在于,包括有如下步骤:
S1、采用偏钛酸与浓硫酸按1比4的比例加入到常压5吨高压反应釜里;
S2、升温搅拌至100度,使偏钛酸完全溶解;
S3、然后再加入整釜液体的0.3%的稀土元素,继续恒温100度;
S4、停止搅拌,降至常温,抽出釜内液体加至高压耐腐喷射装置备用;
S5、开起5吨高压反应釜,加入1.8吨硫酸水溶液;
S6、升温高压反应釜至240度,压力在10MPA;
S7、开起电磁高速搅拌器;
S8、打开高压反应釜顶部的高压喷射装置开关和高压蒸汽开关;
S9、当高压喷射装置内的硫酸钛喷射完毕,即刻关闭蒸汽喷射阀;
S10、停止高压反应釜电磁高速搅拌器和关掉加热器;
S11、高压反应釜在静态停温高压状态下保持90分钟;
S12、高压反应釜高压保持完毕后缓慢放掉高压釜内压力,并开起高压釜冷循环,把高压反应釜内液体降...

【专利技术属性】
技术研发人员:侯勇军
申请(专利权)人:天津洁清馨科技有限公司
类型:发明
国别省市:天津;12

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