本发明专利技术所述的一种薄样和厚样兼容测量的Ｘ射线能谱仪，包括Ｘ射线出射窗口、安全光闸机构、Ｘ射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中Ｘ射线出射窗口与Ｘ射线光束同轴，薄样品插槽设于Ｘ射线出射窗口与Ｘ射线管之间，干扰光阻断结构设于Ｘ射线管与探测器之间，安全光闸机构设于Ｘ射线管以及探测器与Ｘ射线出射窗口之间。本发明专利技术所述一种薄样和厚样兼容测量的Ｘ射线能谱仪的优点在于：它有效的结合了薄、厚样技术检测仪的长处，既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量，又可以得到更高精度的测量结果，满足实验研究的需要。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种薄样和厚样兼容测量的x射线能谱仪。
技术介绍
传统能谱仪主要的特点是反射式收集x射线荧光，并且采用厚样技术，即，将样品 用液压压样装置制成5mm以上厚度的板状然后进行测量。其缺点是由于厚样的原因导 致康普顿散射效应，灵敏度降低；试验时间长，要等待充气与收气，并且耗气量较大， 试验不方便。但由于厚样技术不需要复杂的化学前处理，广泛应用于对测量精度要求不 高的各个领域。现有薄样技术检测仪的原理，对通过化学前处理获得的薄样进行测量，可减小一般 能谱仪的本底增强效应以提高测量灵敏度，可满足实验室精确测量的需要。由于传统能谱仪采用厚样技术，虽然能够方便，广泛的选择样品，但测量精度受到 限制。而单纯使用现有薄样技术的能谱仪需要对试样进行复杂的前处理，因此需要在较 为严格的实验条件下进行，虽保证了测量精度，但也使应用领域受到限制。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，可以兼容测量薄 样或者厚样。本专利技术所述的一种薄样和厚样兼容测量的x射线能谱仪，包括x射线出射窗口、安 全光闸机构、x射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中x射线出射窗口 与x射线光束同轴，薄样品插槽设于x射线出射窗口与x射线管之间，干扰光阻断结构 设于x射线管与探测器之间，安全光闸机构设于x射线管以及探测器与x射线出射窗口之间。其工作过程如下，对厚样进行测量时，可以在薄样品插槽中灵活设置不同类型衰减片，便于随时改变测量不同元素的灵敏度范围；此时设备工作过程是仪器工作时安全光闸打开，x射线从x射线管射出穿过光闸窗口和博样插槽处的衰减片射到样品上，散射光线被探测器接收。在需要对样品成分进行更为精确分析时，只需在对样品进行必要的前处理之后制成样品薄片，将样品片插入薄样品插槽中，此时设备工作过程是将经前处理后获得的样 品片插入薄样品插槽中，同时将原有X射线出射窗口屏蔽,使X射线直接照射在薄样品后， 产生散射光线被接收，由于没有过厚的样品而减低本底增强效应，可以获得较高的灵敏 度。本专利技术所述一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪的优点在于它有效的结合了 薄、厚样技术检测仪的长处，既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量， 又可以得到更高精度的测量结果，满足实验研究的需要。下面结合附图对本专利技术温度控制电路的具体实施方式作进一步说明。 附图说明图1:本专利技术的结构示意图具体实施方式实施例一本实施例所述的薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，其结构见附图l，其中1为X射线出射窗口， 2为安全光闸机构，3为X射线管，4干扰光阻断结构，5为 探测器，6为薄样品插槽、7为厚样。其中X射线出射窗口 1与X射线光束同轴，薄样 品插槽6设于X射线出射窗口 1与X射线管3之间，干扰光阻断结构4设于X射线管3 与探测器5之间，安全光闸机构2设于X射线管3以及探测器5与X射线出射窗口 1之 间。本实施例中所采用的薄样品插槽6为一厚2 3mm的插槽，有两种作用在进行厚 样测量时，可以灵活设置不同类型衰减片插入槽中，利用不同类型的衰减片改变测量不 同元素的灵敏度范围，达到测量厚样的目的；而在需要测量薄样时，可以将需要准确定 量的微量样品经过前处理后，用特制的样品片处理成薄样，插入槽中，同时遮住原来的 测试平面，可以按照薄样技术的试验方法完成试验。权利要求1.一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，其特征在于包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴，薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间，干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间，安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。2. 如权利要求1所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，其特征在于 所述的薄样品插槽为一厚2 3mm的插槽。全文摘要本专利技术所述的一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪，包括X射线出射窗口、安全光闸机构、X射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中X射线出射窗口与X射线光束同轴，薄样品插槽设于X射线出射窗口与X射线管之间，干扰光阻断结构设于X射线管与探测器之间，安全光闸机构设于X射线管以及探测器与X射线出射窗口之间。本专利技术所述一种薄样和厚样兼容测量的X射线能谱仪的优点在于它有效的结合了薄、厚样技术检测仪的长处，既能满足一般工矿单位对样品进行简单方便快捷的测量，又可以得到更高精度的测量结果，满足实验研究的需要。文档编号G01N23/02GK101131369SQ200610111338公开日2008年2月27日 申请日期2006年8月23日 优先权日2006年8月23日专利技术者田宇纮 申请人:北京普析通用仪器有限责任公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种薄样和厚样兼容测量的Ｘ射线能谱仪，其特征在于包括Ｘ射线出射窗口、安全光闸机构、Ｘ射线管、干扰光阻断结构、探测器、薄样品插槽。其中Ｘ射线出射窗口与Ｘ射线光束同轴，薄样品插槽设于Ｘ射线出射窗口与Ｘ射线管之间，干扰光阻断结构设于Ｘ射线管与探测器之间，安全光闸机构设于Ｘ射线管以及探测器与Ｘ射线出射窗口之间。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：田宇纮，
申请(专利权)人：北京普析通用仪器有限责任公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。