一种消影的图案化透明导电电极制备方法技术

本发明专利技术涉及一种消影的图案化透明导电电极制备方法，具体包括以下步骤：S1在衬底上沉积金属纳米线，形成金属纳米线交联网络层；S2采用巯基化合物对金属纳米线交联网络进行选择性修饰，改变金属纳米线交联网络层部分区域的热稳定性，在修饰与未修饰区域之间形成热稳定性差异，得到结构化修饰的交联网络层；S3对结构化修饰的交联网络层进行加热，在金属纳米线交联网络层热稳定性差的部位得到绝缘区域，在金属纳米线交联网络层热稳定性好的部位得到导电区域，形成消影的图案化透明导电电极。本方法制备的图案化导电电极图案与非图案区域的光学性能差异小，具备消影的特点，能满足实际应用中不可视透明电极的需求。

【技术实现步骤摘要】
一种消影的图案化透明导电电极制备方法
本专利技术涉及导电电极材料
，更具体地，涉及一种消影的图案化透明导电电极制备方法。
技术介绍
目前新型显示器、传感器和生物人体检测器等需求逐渐增加，对于可穿戴柔性面板的要求也大幅提升，提高灵敏度、柔韧性、稳定性是柔性面板发展的趋势，以ITO(氧化铟锡)为主要材料的传统透明导电电极暴露出的制作成本高、制备工艺复杂、柔韧性差的缺陷，使其无法符合新型需求的柔性面板的制备。因此，新型的透明导电电极材料成为当下研究的热点。因透明度高、方块电阻小、柔韧性佳，性价比高、可大面积印刷以及与卷对卷制程相兼容的特点，金属纳米线材料成为最有可能代替传统电极的材料之一。在应用层面上，图案化的金属纳米线网络可以作为高性能柔性透明电极，用来制造各种柔性功能器件，如显示屏中的触摸屏膜片和液晶膜组的驱动电极等，当前常见的图案化技术有激光刻蚀、光刻法、转印法和模板法等，这些方法存在或工序复杂、或需要使用大量化学试剂、或柔性面板电极精度不高的问题，难以大规模实施；更重要的是，图案能见度高，图案与非图案区域的光学性能差异大，难以在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消影的图案化透明导电电极制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1在衬底上沉积金属纳米线，形成金属纳米线交联网络层；/nS2采用巯基化合物对金属纳米线交联网络进行选择性修饰，改变金属纳米线交联网络层部分区域的热稳定性，在修饰与未修饰区域之间形成热稳定性差异，得到结构化修饰的交联网络层；/nS3对结构化修饰的交联网络层进行加热，在金属纳米线交联网络层热稳定性差的部位得到金属纳米线熔断的绝缘区域，在金属纳米线交联网络层热稳定性好的部位得到金属纳米线完整的导电区域，形成消影的图案化透明导电电极。/n

【技术特征摘要】
1.一种消影的图案化透明导电电极制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1在衬底上沉积金属纳米线，形成金属纳米线交联网络层；
S2采用巯基化合物对金属纳米线交联网络进行选择性修饰，改变金属纳米线交联网络层部分区域的热稳定性，在修饰与未修饰区域之间形成热稳定性差异，得到结构化修饰的交联网络层；
S3对结构化修饰的交联网络层进行加热，在金属纳米线交联网络层热稳定性差的部位得到金属纳米线熔断的绝缘区域，在金属纳米线交联网络层热稳定性好的部位得到金属纳米线完整的导电区域，形成消影的图案化透明导电电极。


2.根据权利要求1所述的一种消影的图案化透明导电电极制备方法，其特征在于，所述步骤S2的过程为：以巯基化合物为原料，使用带图案的器具对金属纳米线交联网络层进行图案化选择性修饰，在图案区域的金属纳米线表面增加巯基自组装单分子层，以改变图案区域的金属纳米线的热稳定性，并进行清洗干燥，形成结构化修饰的交联网络层。


3.根据权利要求1所述的一种消影的图案化透明导电电极制备方法，其特征在于，所述步骤S2的过程为：以巯基化合物为原料，对金属纳米线交联网络层进行整体修饰，使金属纳米线表面增加巯基自组装单分子层，以改变金属纳米线的热稳定性，形成整体结构化修饰的交联网络层，再利用带图案的保护层覆盖整体结构化修饰的交联网络层，并去除图案区域中的金属纳米线表面的巯基自组装单分子层，形成结构化修饰的交联网络层。


4.根据权利要求2所述的一种消影的图案化透明导电电极制备方法，其特征在于，所述图案化选择性修饰过程为首先通过喷墨打印、丝网印刷、胶版印刷、光刻、软印章覆盖中的任一种制程在金属纳米线交联网络层表面形成图案覆盖层，再采用液相或气相方法，使巯基化合物对未覆盖的金属纳米线选择性修饰；或所述图案化选择性修饰由喷墨打印、丝网印刷...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘贵师，罗云瀚，郑华健，陈耀飞，陈雷，
申请(专利权)人：暨南大学，
类型：发明
国别省市：广东;44