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用于校正条带的错位的设备和方法技术

技术编号:25717243 阅读:24 留言:0更新日期:2020-09-23 03:01
本发明专利技术涉及用于校正条带(91、92)的错位的设备(1)和方法,其中,该设备包括校正装置(3),该校正装置具有用于将条带(91、92)支撑在支撑平面(P)中的对齐表面(31),其中,支撑平面(P)相对于第一竖直平面(V1)以在五到三十度范围内的支撑角延伸,其中,支撑平面(P)在交线(L)处与垂直于第一竖直平面(V1)的第二竖直平面(V2)相交,其中,校正装置(3)还包括一个或多个校正元件(5),这些校正元件用于在平行于支撑平面(P)且横向于交线(L)的校正方向(C)上将位移力(D)施加到所述条带(91、92)上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于校正条带的错位的设备和方法
本专利技术涉及用于校正条带的错位的设备和方法。
技术介绍
WO2016/159759A1公开了一种用于轮胎成型机的切割站,其中,切割站包括切割装置和用于将橡胶材料条带进给到切割装置中的进给装置,其中,切割装置包括用于将橡胶材料条带支撑在支撑平面中的切割台和用于沿着平行于支撑平面延伸的切割线切割橡胶材料条带的切割元件,其中,支撑平面相对于第一竖直平面以在五至三十度范围内的支撑角延伸,并且其中,进给装置布置成在平行于支撑平面的向下进给方向上将橡胶材料条带进给到切割台上。US5167751A公开了一种用于汽车轮胎帘线条带的端部校正的设备。该设备包括:输送带,该输送带用于将由涂胶钢丝帘线构成的轮胎条带构件输送到轮胎成型鼓,该输送带比条带构件窄;支撑板,该支撑板布置在输送带下方,并且适于支撑输送带;引导板,该引导板与输送带的纵向轴线平行地延伸,并且以以下这种方式布置在支撑板的上方及其一侧上:引导板被驱动,以相对于输送带前进和后退;以及磁体,该磁体以以下这种方式布置在支撑板的下方并且朝向其一侧:磁体被驱动,以相对于输送带前进和后退。磁体用于将轮胎条带构件的端部拉靠在引导板上。
技术实现思路
根据WO2016/159759A1的已知切割站具有以下缺点:由于沿着切割线切割橡胶材料条带,因此新产生的前端可能变得略微翘曲或变形,从而导致所述前端相对于条带的剩余部分错位,特别是在其纵向上错位。US5167751A具有以下缺点:在其水平构造中并且在磁体布置在支撑板下方的情况下,在所述拉动期间在轮胎条带构件与输送带之间生成相当大的摩擦,这使得难以拉动轮胎条带构件的端。而且,磁力将仅在磁体启动之后才超过摩擦,这导致磁体的移动和轮胎条带构件的端的实际移动的延迟和/或差异。随着轮胎条带构件暂时失去并恢复摩擦,轮胎条带构件突然且不可预测地移位。而且,需要相对较大的磁体来通过支撑板和输送带充分地吸引轮胎条带构件,以使所述轮胎条带构件移动。因此,当开始校正轮胎条带构件的端的错位时,已知设备相对庞大且不准确。本专利技术的目的是提供用于改进条带错位的校正的设备和方法。根据第一方面,本专利技术提供了一种用于校正条带的错位的设备,其中,设备包括校正装置,该校正装置具有用于将条带支撑在支撑平面中的对齐表面,其中,支撑平面相对于第一竖直平面以在五到三十度范围内的支撑角延伸,其中,支撑平面在交线处与垂直于第一竖直平面的第二竖直平面相交,其中,校正装置还包括位于对齐表面的被布置为支撑条带的同一侧处的一个或多个校正元件,其中,一个或多个校正元件被布置为在平行于支撑平面且横向于交线的校正方向上将位移力施加到所述条带上。由于支撑平面的陡峭的、几乎竖直的方位,可以显著地减小条带与对齐表面之间的摩擦。而且,通过提供在平行于支撑平面(而不是垂直于所述支撑平面或与所述支撑平面成斜角)的校正方向上作用在条带上的位移力,可以防止位移力增加摩擦。因此,在沿校正方向作用于条带上的相对小的位移力的影响下,条带可以准确和/或可靠地移动,以至少部分地校正所述条带的翘曲或变形。可以防止条带在对齐表面上的突然且不可预测的移位。在优选实施方式中,一个或多个校正元件被布置为主要或仅仅沿校正方向作用于条带上。再次,这样,可以防止位移力增加条带与支撑表面之间的摩擦。在优选实施方式中,一个或多个校正元件包括用于在校正方向上吸引条带的一个或多个吸引元件。通过在校正方向上吸引条带而不是推动,可以防止条带在开始沿校正方向移动之前被压缩甚至损坏。在另一实施方式中,校正装置包括具有抵靠表面的对齐构件,该抵靠表面平行于交线延伸并且面向与校正方向相反的抵靠方向。对齐构件可以在所述抵靠方向上抵靠条带,以防止条带在校正方向上进一步移动。在其优选实施方式中,所述对齐构件可在抵靠方向上移动。通过移动对齐构件,可以调节条带最终抵靠该抵靠表面的位置。在其另外的优选实施方式中,一个或多个校正元件设置在对齐构件中或对齐构件上。因此,对齐构件可以将位移力施加到条带上,而且条带一抵靠该抵靠表面,就停止条带在校正方向Cs上的移动。在其另外的优选实施方式中,一个或多个校正元件设置在抵靠表面处并且面向抵靠方向。因此,当条带与抵靠表面抵靠时,一个或多个校正元件可以尽可能靠近所述条带定位和/或直接作用于所述条带上。在另一实施方式中,交线是用于对齐条带的对齐表面上的基准线,其中,对齐构件可在抵靠方向上移动至少一直到基准线。因此,即使条带在对齐构件到达基准线之前已经与抵靠表面抵靠,对齐构件也能够将所述条带一直移动到基准线。优选地,对齐构件可沿抵靠方向从距基准线第一距离的第一位置移动到距基准线第二距离的第二位置,第二距离小于第一距离。在第一位置和第二位置两者中,对齐构件都仍可与基准线隔开。因此,对齐构件从第一位置到第二位置的移动可以用于将对齐构件移动得更靠近条带,从而增大由所述对齐构件中的一个或多个校正元件施加到条带上的位移力的量值。更优选地,其中,当对齐构件在第一位置与第二位置之间时,由一个或多个校正元件施加到条带上的位移力不足以使条带在校正方向上位移。因此,对齐构件可以在第一位置与第二位置之间的范围内移动,而不会使条带位移。这防止了在实际对齐之前,例如当对条带执行切割过程时,一个或多个校正元件对所述所条带的位置产生影响。在示例性实施方式中,第一距离大于八毫米或大于十毫米。在另一示例性实施方式中,第二距离在五至八毫米的范围内。已经证明这种距离足以防止一个或多个校正元件使条带位移。在另外的实施方式中,对齐构件可沿抵靠方向从第二位置移动到基准线处的第三位置中。这种移动可以进一步增大由所述对齐构件中的一个或多个校正元件施加到条带上的位移力的量值。优选地,当对齐构件在第二位置与第三位置之间时,由一个或多个校正元件施加到条带上的位移力足以使条带的至少一部分沿校正方向位移成与抵靠表面抵靠。因此,当对齐构件从第二位置朝向第三位置移动和/或移动到第三位置中时,条带可以被拉动成与抵靠表面抵靠。在另一实施方式中,条带包含铁磁加强元件,其中,一个或多个校正元件包括用于沿校正方向磁性吸引条带的一个或多个校正磁体。由此,位移力可以是磁位移力。这种力是优选的,因为它不需要条带的物理接合。而且,与例如吸力相比,磁力可以更可靠地施加到铁磁条带上。优选地,其中,一个或多个校正磁体是永磁体。永磁体相对简单并且不需要主动控制。因此,对齐构件可以相对简单并且不需要电连接。在另一实施方式中,一个或多个校正磁体形成第一磁场阵列,其中,设备还包括夹持器,该夹持器可定位在用于从对齐表面拾取条带的拾取位置,其中,夹持器包括多个夹持器磁体,这些夹持器磁体形成用于将条带保持到夹持器的第二磁场阵列,其中,第一磁场阵列相对于第二磁场阵列至少部分地偏移。由于该偏移,可以显著减小一个或多个校正磁体与夹持器磁体之间的磁吸引力。因此,可以减小一个或多个校正磁体对夹持器磁体的影响。因此,夹持器可以容易地从对齐表面拾取条带,而不会受到一个或多个校正磁体的任何显著本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于校正条带的错位的设备,其中,所述设备包括校正装置,该校正装置具有用于将条带支撑在支撑平面中的对齐表面,其中,所述支撑平面相对于第一竖直平面以在五到三十度范围内的支撑角延伸,其中,所述支撑平面在交线处与垂直于所述第一竖直平面的第二竖直平面相交,其中,所述校正装置还包括位于所述对齐表面的被布置为支撑所述条带的同一侧处的一个或多个校正元件,其中,所述一个或多个校正元件被布置为在平行于所述支撑平面且横向于所述交线的校正方向上将位移力施加到所述条带上。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180306 NL 20205391.一种用于校正条带的错位的设备,其中,所述设备包括校正装置,该校正装置具有用于将条带支撑在支撑平面中的对齐表面,其中,所述支撑平面相对于第一竖直平面以在五到三十度范围内的支撑角延伸,其中,所述支撑平面在交线处与垂直于所述第一竖直平面的第二竖直平面相交,其中,所述校正装置还包括位于所述对齐表面的被布置为支撑所述条带的同一侧处的一个或多个校正元件,其中,所述一个或多个校正元件被布置为在平行于所述支撑平面且横向于所述交线的校正方向上将位移力施加到所述条带上。


2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述一个或多个校正元件被布置为主要沿所述校正方向作用于所述条带上。


3.根据权利要求2所述的设备,其中,所述一个或多个校正元件被布置为仅沿所述校正方向作用于所述条带上。


4.根据前述权利要求中任意一项所述的设备,其中,所述一个或多个校正元件包括用于在所述校正方向上吸引所述条带的一个或多个吸引元件。


5.根据前述权利要求中任意一项所述的设备,其中,所述校正装置包括具有抵靠表面的对齐构件,该抵靠表面平行于所述交线延伸并且面向与所述校正方向相反的抵靠方向。


6.根据权利要求5所述的设备,其中,所述对齐构件能沿所述抵靠方向移动。


7.根据权利要求5或6所述的设备,其中,所述一个或多个校正元件设置在所述对齐构件中或在所述对齐构件上。


8.根据权利要求7所述的设备,其中,所述一个或多个校正元件设置在所述抵靠表面处并且面向所述抵靠方向。


9.根据权利要求5至8中任意一项所述的设备,其中,所述交线是用于对齐所述条带的所述对齐表面上的基准线,其中,所述对齐构件能在所述抵靠方向上至少一直移动到所述基准线。


10.根据权利要求9所述的设备,其中,所述对齐构件能沿所述抵靠方向从距所述基准线第一距离的第一位置移动到距所述基准线第二距离的第二位置,所述第二距离小于所述第一距离。


11.根据权利要求10所述的设备,其中,当所述对齐构件在所述第一位置与所述第二位置之间时,由所述一个或多个校正元件施加到所述条带上的所述位移力不足以使所述条带在所述校正方向上位移。


12.根据权利要求10或11所述的设备,其中,所述第一距离大于八毫米或大于十毫米。


13.根据权利要求10至12中任意一项所述的设备,其中,所述第二距离在五至八毫米的范围内。


14.根据权利要求10至13中任意一项所述的设备,其中,所述对齐构件能沿所述抵靠方向从所述第二位置移动到所述基准线处的第三位置中。


15.根据权利要求14所述的设备,其中,当所述对齐构件在所述第二位置与所述第三位置之间时,由所述一个或多个校正元件施加到所述条带上的所述位移力足以使所述条带的至少一部分沿所述校正方向位移成与所述抵靠表面抵靠。


16.根据前述权利要求中任意一项所述的设备,其中,所述条带包含铁磁加强元件,其中,所述一个或多个校正元件包括用于沿校正方向磁性吸引条带的一个或多个校正磁体。


17.根据权利要求16所述的设备,其中,所述一个或多个校正磁体是永磁体。


18.根据权利要求16或17所述的设备,其中,所述一个或多个校正磁体形成第一磁场阵列,其中,所述设备还包括夹持器,该夹持器能定位在用于从所述对齐表面拾取所述条带的拾取位置,其中,所述夹持器包括多个夹持器磁体,所述多个夹持器磁体形成用于将所述条带保持到所述夹持器的第二磁场阵列,其中,所述第一磁场阵列相对于所述第二磁场阵列至少部分地偏移。


19.根据权利要求18所述的设备,其中,所述多个校正磁体包括在所述拾取位置中面向所述夹持器的第一组校正磁体和在所述拾取位置中面向所述夹持器的第二组校正磁体,所述第一组校正磁体具有北磁极性,所述第二组校正磁体具有南磁极性,其中,所述第一组中的所述校正磁体与所述第二组中的所述校正磁体在所述第一磁场阵列内交替。


20.根据权利要求18或19所述的设备,其中,所述校正磁体之间的节距不同于所述夹持器磁体之间的节距。


21.根据前述权利要求中任意一项所述的设备,其中,所述校正装置还包括一个或多个固定元件,所述一个或多个固定元件用于在所述条带已经被所述一个或多个校正元件位...

【专利技术属性】
技术研发人员:G·J·C·范拉尔
申请(专利权)人:VMI荷兰公司
类型:发明
国别省市:荷兰;NL

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