一种触控显示面板的制作方法、触控显示面板和显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种触控显示面板的制作方法、触控显示面板和显示装置，涉及显示技术领域。本发明专利技术实施例提供一显示面板，显示面板包括显示区域，显示区域包括通孔区和围绕通孔区的遮光区；在显示面板的遮光区上形成有机层；对有机层进行腐蚀处理，使得有机层远离显示面板的表面具有多个凹陷结构；在有机层上形成触控电极薄膜；对触控电极薄膜进行图案化处理，以在凹陷结构内形成遮光层；其中，遮光层为图案化处理后凹陷结构内残留的触控电极薄膜。通过有机层进行腐蚀处理，使有机层表面具有多个凹陷结构，在该凹陷结构内形成遮光层，通过遮光层对光的吸收，以减少来自显示面板内部的光线对通孔区的影响。

【技术实现步骤摘要】
一种触控显示面板的制作方法、触控显示面板和显示装置
本专利技术涉及显示
，特别是涉及一种触控显示面板的制作方法、触控显示面板和显示装置。
技术介绍
目前，将前置摄像头装置或红外扫描装置设置在显示区域内部已成为当前显示面板制作中非常流行的一种显示面板制作方式，采用这种方式制作显示面板需要在显示面板的显示区域中设置通孔区，但是由于受显示面板中的有效显示区光线及外界自然光的影响，在通孔区的位置会出现漏光和成像质量比较差等问题。现有技术中，为了解决这一问题，在FMLOC(Filmmulti-layeroncelltouch，多层薄膜外嵌式触控结构)工艺中，在有效显示区制作感应电极和发射电极时，会在通孔区的外围形成一层金属遮光层，由于传统的金属遮光层会反光，因此，需要在该金属遮光层对应位置的平坦层上围绕该通孔区涂覆黑色油墨，从而来减弱位于显示区域内的通孔区的功能器件的漏光问题。但是目前这种改善方式，由于传统的金属遮光层表面是平整的结构，会对来自显示面板内部的光线进行反射，产生的反射光线会进入到通孔区所在的位置，使通孔区位置会出现较多的杂光，进而影响位于通孔区的功能器件的出光效果。
技术实现思路
本专利技术提供一种触控显示面板的制作方法、触控显示面板和显示装置，以解决现有的采用金属遮光层和黑色油墨共同来实现遮光时存在漏光的问题。为了解决上述问题，本专利技术公开了一种触控显示面板的制作方法，包括：提供一显示面板，所述显示面板包括显示区域，所述显示区域包括通孔区和围绕所述通孔区的遮光区；在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层；对所述有机层进行腐蚀处理，使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构；在所述有机层上形成触控电极薄膜；对所述触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述凹陷结构内形成遮光层；其中，所述遮光层为所述图案化处理后所述凹陷结构内残留的所述触控电极薄膜。可选的，所述有机层的材料为主链分子结构为苯环的有机材料。可选的，所述显示面板还包括非显示区域，所述显示区域还包括有效显示区，所述在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层的步骤之前，还包括：在所述显示面板的所述显示区域和所述非显示区域上形成缓冲薄膜；对所述缓冲薄膜进行图案化处理，以在所述有效显示区和所述非显示区域形成缓冲层，并去除所述遮光区的所述缓冲薄膜；在所述有效显示区的所述缓冲层上形成电极连接层。可选的，所述在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层的步骤，包括：形成覆盖所述缓冲层、所述电极连接层以及位于所述遮光区的所述显示面板的有机薄膜；对所述有机薄膜进行图案化处理，以形成位于所述有效显示区、所述非显示区域和所述遮光区的有机层；其中，所述有效显示区中的像素区内的所述有机薄膜被去除，且所述有效显示区还形成有贯穿所述有机层的第一接触孔，所述非显示区域还形成有贯穿所述有机层的第二接触孔。可选的，所述对所述有机层进行腐蚀处理，使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构的步骤，包括：对所述第二接触孔所在位置处的所述缓冲层进行刻蚀，以形成贯穿所述缓冲层的第三接触孔，并使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构，所述凹陷结构位于所述有效显示区、所述隔离区和所述非显示区域；其中，所述第二接触孔在所述显示面板上的正投影与所述第三接触孔在所述显示面板上的正投影至少部分重合。可选的，采用干法刻蚀工艺对所述第二接触孔所在位置处的所述缓冲层进行刻蚀，所述干法刻蚀工艺所采用的刻蚀气体包括氧气和四氟化碳。可选的，所述触控电极薄膜还位于所述有效显示区的所述有机层上，所述对所述触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述凹陷结构内形成遮光层的步骤，包括：对位于所述有效显示区和所述遮光区的触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述有效显示区形成电极层和降反层，以及在所述遮光区的所述凹陷结构内形成遮光层；其中，所述电极层和所述降反层在所述显示面板上的正投影不重合，且所述降反层为所述图案化处理后所述有效显示区的所述凹陷结构内残留的所述触控电极薄膜；所述电极层通过所述第一接触孔与所述电极连接层连接，所述电极层通过所述第二接触孔和所述第三接触孔与所述显示面板连接。可选的，在所述对所述触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述凹陷结构内形成遮光层步骤之后，还包括：形成覆盖所述电极层、所述遮光层、所述降反层和所述缓冲层的平坦层。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种触控显示面板，包括：显示面板，所述显示面板包括显示区域，所述显示区域包括通孔区和围绕所述通孔区的遮光区；设置在所述显示面板的所述遮光区上的有机层，所述有机层在远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构；设置在所述凹陷结构内的遮光层；其中，所述遮光层为触控电极薄膜。可选的，所述显示面板还包括非显示区域，所述显示区域还包括有效显示区，所述触控显示面板还包括：设置在所述显示面板的所述有效显示区和所述非显示区域上的缓冲层；设置在所述有效显示区的所述缓冲层上的电极连接层。可选的，所述有机层还位于所述有效显示区和所述非显示区域，且覆盖所述缓冲层和所述电极连接层；其中，所述有效显示区和所述非显示区域的所述有机层，在远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构。可选的，所述触控显示面板还包括：设置在所述有效显示区的电极层和降反层；其中，所述电极层和所述降反层在所述显示面板上的正投影不重合，所述降反层为所述有效显示区的凹陷结构内的触控电极薄膜；所述电极层通过贯穿所述有机层的第一接触孔与所述电极连接层连接；在所述非显示区域，所述电极层通过贯穿所述有机层的第二接触孔和贯穿所述缓冲层的第三接触孔与所述显示面板连接，所述第二接触孔在所述显示面板上的正投影与所述第三接触孔在所述显示面板上的正投影至少部分重合。可选的，所述触控显示面板还包括：覆盖所述电极层、所述遮光层、所述降反层和所述缓冲层的平坦层。为了解决上述问题，本专利技术还公开了一种显示装置，包括上述的触控显示面板。与现有技术相比，本专利技术包括以下优点：在本专利技术实施例中，提供一显示面板，该显示面板包括显示区域，显示区域包括通孔区和围绕通孔区的遮光区；在显示面板的遮光区上形成有机层；对有机层进行腐蚀处理，使得有机层远离显示面板的表面具有多个凹陷结构；在有机层上形成触控电极薄膜；对触控电极薄膜进行图案化处理，以在凹陷结构内形成遮光层；其中，遮光层为图案化处理后凹陷结构内残留的触控电极薄膜。通过对显示面板的遮光区的有机层进行腐蚀处理，以使有机层远离显示面板的表面具有多个凹陷结构，然后通过对有机层上的触控电极薄膜进行图案化处理，使触控电极薄膜残留在该凹陷结构内，以形成遮光层，当显示面板内部的光线照射到该凹陷结构内的遮光层上时，光线在具有遮光层的凹陷结构内不断地反射和折射，最终被吸收，从而可以将显示面板内部照射到该通孔区本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种触控显示面板的制作方法，其特征在于，包括：/n提供一显示面板，所述显示面板包括显示区域，所述显示区域包括通孔区和围绕所述通孔区的遮光区；/n在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层；/n对所述有机层进行腐蚀处理，使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构；/n在所述有机层上形成触控电极薄膜；/n对所述触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述凹陷结构内形成遮光层；/n其中，所述遮光层为所述图案化处理后所述凹陷结构内残留的所述触控电极薄膜。/n

【技术特征摘要】
1.一种触控显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一显示面板，所述显示面板包括显示区域，所述显示区域包括通孔区和围绕所述通孔区的遮光区；
在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层；
对所述有机层进行腐蚀处理，使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构；
在所述有机层上形成触控电极薄膜；
对所述触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述凹陷结构内形成遮光层；
其中，所述遮光层为所述图案化处理后所述凹陷结构内残留的所述触控电极薄膜。


2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述有机层的材料为主链分子结构为苯环的有机材料。


3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述显示面板还包括非显示区域，所述显示区域还包括有效显示区，所述在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层的步骤之前，还包括：
在所述显示面板的所述显示区域和所述非显示区域上形成缓冲薄膜；
对所述缓冲薄膜进行图案化处理，以在所述有效显示区和所述非显示区域形成缓冲层，并去除所述遮光区的所述缓冲薄膜；
在所述有效显示区的所述缓冲层上形成电极连接层。


4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述在所述显示面板的所述遮光区上形成有机层的步骤，包括：
形成覆盖所述缓冲层、所述电极连接层以及位于所述遮光区的所述显示面板的有机薄膜；
对所述有机薄膜进行图案化处理，以形成位于所述有效显示区、所述非显示区域和所述遮光区的有机层；
其中，所述有效显示区中的像素区内的所述有机薄膜被去除，且所述有效显示区还形成有贯穿所述有机层的第一接触孔，所述非显示区域还形成有贯穿所述有机层的第二接触孔。


5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述对所述有机层进行腐蚀处理，使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构的步骤，包括：
对所述第二接触孔所在位置处的所述缓冲层进行刻蚀，以形成贯穿所述缓冲层的第三接触孔，并使得所述有机层远离所述显示面板的表面具有多个凹陷结构，所述凹陷结构位于所述有效显示区、所述隔离区和所述非显示区域；
其中，所述第二接触孔在所述显示面板上的正投影与所述第三接触孔在所述显示面板上的正投影至少部分重合。


6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，采用干法刻蚀工艺对所述第二接触孔所在位置处的所述缓冲层进行刻蚀，所述干法刻蚀工艺所采用的刻蚀气体包括氧气和四氟化碳。


7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述触控电极薄膜还位于所述有效显示区的所述有机层上，所述对所述触控电极薄膜进行图案化处理，以在所述凹陷结构内形成遮光层的步骤，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李杰，王彦强，卢玉群，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11