调色剂制造技术

本发明专利技术涉及调色剂。一种调色剂，其包括：包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在调色剂基础颗粒表面上的有机硅聚合物的调色剂颗粒，以及外部添加剂A，有机硅聚合物具有T3单元结构；有机硅聚合物在调色剂基础颗粒表面上形成凸部；凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm；外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm；并且在通过用SEM观察调色剂表面而获得的图像中，图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。

【技术实现步骤摘要】
调色剂
本公开涉及在例如电子照相法等图像形成方法中使用的调色剂。
技术介绍
要求电子照相图像形成设备小型化和更长的寿命，并且响应于这些，也要求调色剂的各种性能的进一步的改善。关于小型化，已经研究减小由单个单元所占的空间。特别地，可以通过调色剂转印性的改善来减小回收感光鼓上未转印的调色剂的废调色剂容器的尺寸，结果进行各种研究来改善转印性。在转印步骤中，将感光鼓上的调色剂转印至例如纸等介质。为了改善转印性，必须降低感光鼓和调色剂之间的附着力，以便于调色剂与感光鼓的分离。作为用于完成该目的的技术，已知外部添加粒径的范围为约100nm至300nm的大粒径外部添加剂的技术。然而，尽管这作为用于改善转印效率的方法是有效的技术，但是在长期图像输出期间，大粒径外部添加剂由于移动、脱离和埋没而导致用作间隔物的能力降低。结果，难以稳定地获得预期的关于改善转印效率的效果。因此，在日本专利申请特开No.2009-036980中提出其中通过使大粒径外部添加剂半埋没来抑制外部添加剂的移动和脱离的方法。
技术实现思路
日本专利申请特开No.2009-036980中记载的方法能够抑制移动和脱离；然而，该方法的问题在于埋没最终被加速。为了通过除外部添加以外的方法实现转印性的改善，对于其中用有机硅化合物涂覆调色剂颗粒表面的方法也进行了研究。例如，日本专利申请特开No.2016-021041公开了在其表面层包含具有由R-Si(O1/2)3表示的部分结构的有机硅聚合物的调色剂。对于该调色剂，认为涂覆调色剂颗粒表面的有机硅化合物的效果是提供优异的对外部添加剂的埋没的耐久性。然而，已经确定为了实现甚至更长的调色剂使用寿命，仍然存在改进的空间。作为在日本专利申请特开No.2009-036980的情况下引起的半埋没的结果，促进了耐久性试验的后半段的埋没的加速。另一方面，在日本专利申请特开No.2016-021041的情况下，以高的涂覆率涂覆调色剂颗粒表面的有机硅聚合物，阻碍了内包的用作脱模剂的蜡在调色剂颗粒表面的析出。结果，促进了低温定影性的降低。相反，以低的涂覆率涂覆调色剂颗粒表面的有机硅聚合物，阻碍了初期使用期间间隔物效果的令人满意的表现。也阻碍了间隔物效果的长期维持，并且在维持高的转印效率方面存在改进的空间。另外，对于有机硅聚合物的涂覆率低的调色剂，当使用大粒径外部添加剂时，在清洁中间转印构件上的未转印的调色剂时，容易发生漏擦。因此，本公开提供显示优异的低温定影性、并且在初期使用和长期使用两者期间维持高的转印效率的调色剂。作为深入研究的结果，本专利技术人发现，通过在调色剂颗粒表面上形成凸部，并且控制这些凸部的形状和外部添加剂A的直径，来获得解决该问题的调色剂。即，本公开的调色剂为如下调色剂，其包括：调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，和外部添加剂A，其中有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构，其中R表示碳原子数为1至6的烷基或者表示苯基；有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；在用扫描透射型电子显微镜获得的调色剂截面图像的展开图像中，其中，通过将沿着调色剂基础颗粒的表面的圆周的线展开成直线来提供该截面图像的展开图像，并且参照该展开图像，使用凸部宽度w作为对于其中凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿圆周的线的长度；凸部直径D作为沿凸部宽度w的法线方向的凸部的最大长度；和凸部高度H作为在形成凸部直径D的线段中，从凸部的顶点至沿着圆周的线的长度，凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm；外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm；和在通过用扫描电子显微镜观察调色剂的表面而获得的图像中，获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像，并且二值化处理，由此使背散射电子图像中的有机硅聚合物部分变为亮部，图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。根据本公开，可以提供显示优异的低温定影性，并且在初期使用和长期使用两者期间维持高的转印效率的调色剂。参照附图从以下示例性实施方案的描述，本专利技术的进一步特征将变得显而易见。附图说明图1是用STEM观察的调色剂截面的示意图；图2是示出用于测量调色剂上的凸部形状的方法的示意图；图3是示出用于测量调色剂上的凸部形状的方法的示意图；和图4是示出用于测量调色剂上的凸部形状的方法的示意图；具体实施方式除非另有具体说明，否则本专利技术中的表示数值范围的表述“XX以上且YY以下”和“XX至YY”是指包括作为端点的下限和上限的数值范围。尽管以下描述实施方案，但是本公开不限于以下实施方案或不受其限制。调色剂包括外部添加剂A和调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物。有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构，其中R表示碳原子数为1至6的烷基或者表示苯基。有机硅聚合物在调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；在用扫描透射型电子显微镜获得的调色剂截面图像的展开图像中，其中，通过将沿着调色剂基础颗粒的表面的圆周的线展开成直线来提供该截面图像的展开图像，并且参照该展开图像，使用凸部宽度w作为对于其中凸部和调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿着圆周的线的长度；凸部直径D作为沿凸部宽度w的法线方向的凸部的最大长度；和凸部高度H作为在形成凸部直径D的线段中，从凸部的顶点至沿着圆周的线的长度，凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm。外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R与凸部高度H的个数平均值之比为1.00至4.00；和外部添加剂A的一次颗粒的数均粒径R为30nm至1,200nm。在通过用扫描电子显微镜观察调色剂的表面而获得的图像中，获取调色剂表面的1.5μm见方的背散射电子图像，并且二值化处理，由此使背散射电子图像中的有机硅聚合物部分变为亮部，图像中亮部面积相对于图像的总面积的面积比例为30.0％至75.0％。上述凸部的特征在于：它们与调色剂基础颗粒的表面进行面接触；可以预期该面接触对凸部的移动、脱离和埋没提供显著的抑制效果。使用扫描透射型电子显微镜(以下也简称为STEM)进行调色剂截面的观察以显示面接触的程度。图1至图4提供这些凸部的示意图。图1中给出的1是STEM图像。该图像示出调色剂颗粒的约四分之一的截面，其中2是调色剂颗粒，3是调色剂基础颗粒的表面，和4是凸部。在图2至图4中，5是凸部宽度w，6是凸部直径D，和7是凸部高度H。观察调本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调色剂，其包括：/n调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在所述调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，和/n外部添加剂A，/n其特征在于，/n所述有机硅聚合物具有由R-Si(O

【技术特征摘要】
20190315 JP 2019-048540;20200204 JP 2020-0170581.一种调色剂，其包括：
调色剂颗粒，所述调色剂颗粒包含含脱模剂的调色剂基础颗粒、和在所述调色剂基础颗粒的表面上的有机硅聚合物，和
外部添加剂A，
其特征在于，
所述有机硅聚合物具有由R-Si(O1/2)3表示的T3单元结构，其中R表示碳原子数为1至6的烷基或者表示苯基；
所述有机硅聚合物在所述调色剂基础颗粒的表面上形成凸部；
在用扫描透射型电子显微镜获得的调色剂截面图像的展开图像中，其中通过将沿着所述调色剂基础颗粒的表面的圆周的线展开成直线来提供该截面图像的所述展开图像，并且
参照该展开图像，使用
凸部宽度w作为对于其中凸部和所述调色剂基础颗粒形成连续界面的部分沿所述圆周的线的长度；
凸部直径D作为沿所述凸部宽度w的法线方向所述凸部的最大长度；和
凸部高度H作为在形成所述凸部直径D的线段中，从所述凸部的顶点至沿着所述圆周的线的长度，
所述凸部高度H的个数平均值为30nm至300nm；

【专利技术属性】
技术研发人员：松永智教，文田英和，梅田宜良，津田祥平，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP