调色剂制造技术

本发明专利技术涉及一种调色剂。所述调色剂包含：调色剂颗粒；和外部添加剂，其中所述外部添加剂包括球形二氧化硅颗粒和水滑石颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的数均粒径Da为10nm至40nm，所述球形二氧化硅颗粒的圆形度为0.80以上，并且调色剂满足下式(1)：{Ga×(1‑Ka/100)}/{Gb×(1‑Kb/100)}≥0.050 (1)其中Ga：相对于100质量份的调色剂颗粒，球形二氧化硅颗粒的含量Gb：相对于100质量份的调色剂颗粒，水滑石颗粒的含量Ka：球形二氧化硅颗粒在调色剂颗粒表面上的固着率(％)Kb：水滑石颗粒在调色剂颗粒表面上的固着率(％)。

【技术实现步骤摘要】
调色剂
本专利技术涉及适合于图像形成方法如电子照相法的调色剂。
技术介绍
近年来，除了小型化、高速度和长寿命之外，还需要复印机和打印机在任何环境下产生稳定的图像而不使图像品质劣化。为了满足这样的要求，已经提出了使用即使在高温高湿下也具有高的电荷赋予能力的水滑石颗粒作为外部添加剂的调色剂。日本专利申请公开第2000-35692号提出，通过将水滑石颗粒外部添加至调色剂，可以获得即使在高温高湿下也具有优异性能的调色剂。这表明，当水滑石颗粒存在于调色剂颗粒的表面上时，当电荷衰减时，水滑石颗粒可以通过充当微载流子(microcarrier)来增加电荷。尽管上述的调色剂显示优异的带电特性，但是有与高耐久性有关的问题。具体地，当在高速打印期间强烈摩擦显影机中的调色剂时，水滑石颗粒可能从调色剂颗粒上脱离，导致显影机器中的部件的污染。日本专利申请公开第2018-40967号公开了通过将球形颗粒和水滑石颗粒组合并且使这些材料静电相互作用以抑制水滑石颗粒的脱离的方法。
技术实现思路
然而，当本专利技术人深入研究显影装置的进一步高速化和高寿命化时，可以了解的是，使用在前述专利文献中公开的技术时，在耐久使用的后半段中水滑石颗粒和其他外部添加剂容易形成聚集块(aggregatedlump)。还可以了解的是，产生从聚集块为起点的显影条纹。进一步可了解的是，由于聚集块的产生，水滑石颗粒的电荷赋予功能丧失。本专利技术提供一种不管环境如何、即使长期使用也能够维持高图像品质的调色剂。作为进行深入研究以解决上述问题的结果，本专利技术人已经发现可以通过以下调色剂解决上述问题。一种调色剂，其包含：调色剂颗粒；和外部添加剂，其中所述外部添加剂包括球形二氧化硅颗粒和水滑石颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的数均粒径Da为10nm至40nm，所述球形二氧化硅颗粒的圆形度为0.80以上，和所述调色剂满足下式(1)：{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050(1)其中Ga：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的含量Gb：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述水滑石颗粒的含量Ka：所述球形二氧化硅颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率(fixingratio)(％)Kb：所述水滑石颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率(％)。根据本专利技术，可以提供不管环境如何、即使长期使用也能够维持高图像品质的调色剂。通过以下示例性实施例的描述，本专利技术的进一步的特征将变得显而易见。具体实施方式除非另有说明，否则在本专利技术中，数值范围的描述例如“XX至YY”或“XX～YY”包括该数值范围的上限和下限的数值。以下将详细描述本专利技术。本专利技术涉及一种调色剂，其包含：调色剂颗粒；和外部添加剂，其中所述外部添加剂包括球形二氧化硅颗粒和水滑石颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的数均粒径Da为10nm至40nm，所述球形二氧化硅颗粒的圆形度为0.80以上，和所述调色剂满足下式(1)：{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050(1)其中Ga：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的含量Gb：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述水滑石颗粒的含量Ka：所述球形二氧化硅颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率(％)Kb：所述水滑石颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率(％)。本专利技术人确定了通过满足上述条件可以获得本专利技术的效果的以下原因。在通常的非球形二氧化硅颗粒的情况下，与水滑石颗粒的接触面积大，并且容易形成聚集块，但是当在固着率的关系满足式(1)的范围中使用前述特定的球形二氧化硅颗粒时，可以抑制聚集块的形成。结果，在耐久使用的后半段中，可以消除由于聚集块导致的显影条纹的产生，并且可以持续发挥水滑石颗粒的功能。球形二氧化硅颗粒的数均粒径(Da)为10nm至40nm。当数均粒径在上述范围中时，二氧化硅颗粒进入水滑石颗粒的聚集块，并且因此该结构比仅由水滑石颗粒形成的聚集块更不均匀。结果，即使通过显影机中施加的力，也容易破坏聚集块。球形二氧化硅颗粒的数均粒径(Da)优选为12nm至38nm，更优选为14nm至36nm。另外，球形二氧化硅颗粒的圆形度需要为0.80以上。在上述范围内，与水滑石颗粒的接触面积小于非球形二氧化硅颗粒的情况，并且可以促进聚集块的解聚。球形二氧化硅颗粒的圆形度优选为0.85以上，并且更优选为0.90以上。同时，上限没有特别限制，但优选为0.99以下，更优选为0.98以下。球形二氧化硅颗粒的圆形度可以通过在外部添加剂的生产期间的条件来控制。例如，可以通过原料单体和反应场之间的表面张力的差将圆形度控制至上述范围。此外，本专利技术的调色剂需要满足下式(1)。当满足式(1)时，一定量的未固着至调色剂颗粒表面的球形二氧化硅颗粒存在于显影机中，同时在调色剂颗粒之间移动。在这种状态下，球形二氧化硅颗粒可以侵入水滑石颗粒的聚集块内，并且将显示抑制聚集块产生的效果(聚集抑制效果)。结果，水滑石不太可能形成聚集块，并且可以维持其作为微载流子的功能。当式(1)的值小于0.050时，可以在调色剂颗粒之间移动的球形二氧化硅颗粒的量小，并且没有聚集抑制效果，因此产生聚集块并引起显影条纹的图像缺陷。式(1)的值优选6.000以下。即，优选满足下式(1')。另外，式(1)的值优选为0.500以上。同时，上限更优选为2.000以下。因为从调色剂迁移的球形二氧化硅颗粒的量不过度地大于弱固着至调色剂颗粒表面的水滑石颗粒的量，所以可以容易地获得水滑石颗粒的添加效果。{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050(1){6.00≥{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050}(1')Ga：相对于100质量份的调色剂颗粒，球形二氧化硅颗粒的含量Gb：相对于100质量份的调色剂颗粒，水滑石颗粒的含量Ka：球形二氧化硅颗粒在调色剂颗粒的表面上的固着率(％)Kb：水滑石颗粒在调色剂颗粒的表面上的固着率(％)相对于100质量份的调色剂颗粒，球形二氧化硅颗粒的含量优选为0.10质量份至5.00质量份，更优选为0.5质量份至1.5质量份。当球形二氧化硅颗粒的含量为0.10质量份以上时，容易发挥抑制球形二氧化硅颗粒聚集的效果。同时，当球形二氧化硅颗粒的含量为5.00质量份以下时，球形二氧化硅颗粒倾向于均匀且牢固地固着在调色剂颗粒的表面上，并且容易发挥显示像微载流子功能的水滑石颗粒的功能。球形二氧化硅颗粒在调色剂颗粒表面上的固着率Ka优选为60％至95％，并且更优选为70％至85％。当固着率为60％以上时，容易发挥水滑石颗本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种调色剂，其包含：/n调色剂颗粒；和/n外部添加剂，/n其特征在于，所述外部添加剂包括球形二氧化硅颗粒和水滑石颗粒，/n所述球形二氧化硅颗粒的数均粒径Da为10nm至40nm，/n所述球形二氧化硅颗粒的圆形度为0.80以上，和/n所述调色剂满足下式(1)：/n{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050 (1)/n其中Ga：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的含量；/nGb：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述水滑石颗粒的含量；/nKa：所述球形二氧化硅颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率，以％计；/nKb：所述水滑石颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率，以％计。/n

【技术特征摘要】
20190314 JP 2019-0468831.一种调色剂，其包含：
调色剂颗粒；和
外部添加剂，
其特征在于，所述外部添加剂包括球形二氧化硅颗粒和水滑石颗粒，
所述球形二氧化硅颗粒的数均粒径Da为10nm至40nm，
所述球形二氧化硅颗粒的圆形度为0.80以上，和
所述调色剂满足下式(1)：
{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050(1)
其中Ga：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述球形二氧化硅颗粒的含量；
Gb：相对于100质量份的所述调色剂颗粒，所述水滑石颗粒的含量；
Ka：所述球形二氧化硅颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率，以％计；
Kb：所述水滑石颗粒在所述调色剂颗粒的表面上的固着率，以％计。


2.根据权利要求1所述的调色剂，其中所述调色剂满足下式(1')：
{6.00≥{Ga×(1-Ka/100)}/{Gb×(1-Kb/100)}≥0.050}(1')。


3.根据权利要求1或2所述的调色...

【专利技术属性】
技术研发人员：天野翔太，川口新太郎，中山宪一，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP