一种高精度反射片及其制备方法技术

本发明专利技术提出一种高精度反射片，包括硅基板，硅基板上表面设置有高反膜，高反膜上表面镀有带限位图案的矩阵阵列。其中，由硅基板和高反膜组成反射片的主体，并在反射片的反射面上，即高反膜的上表面通过镀膜的方式镀有一层有特殊限位图案的高精度矩阵，用于高精度的定位，能够满足反射片在使用中对厚度高精度的要求，得到高精度的1/4λ反射片。本发明专利技术还提出了一种高精度反射片的制备方法，其具体包括以下步骤：对硅基板进行面型修正，使反射面的面型小于1/4λ；在硅基板上表面镀设高反膜；在高反膜上表面镀制纳米材料的矩阵阵列。

【技术实现步骤摘要】
一种高精度反射片及其制备方法
本专利技术涉及光学元件
，更具体地，涉及一种高精度反射片及其制备方法。
技术介绍
光模块是光通信设备的重要组成部分，光通信市场的不断发展带动着光模块市场的发展。其中，反射片是光模块中使用的其中一种配件，随着光通信速率的提高，光通信设备对反射片的要求也越来越高。目前针对反射片的改进主要在于其反射率及其厚度的优化，如公开号为CN104730606A的专利提出了一种反射片，采用将白色色料均匀的混合于紫外固化材料中制成前驱体，前驱体接受紫外光照射后发生固化反应，固化为光反射片，从而提高光反射片的反射率。然而，光通信设备对反射片的精度也有一定的要求，
技术实现思路
本专利技术为克服上述现有技术所述的反射片精度低的缺陷，提供一种高精度反射片，以及一种高精度反射片的制备方法。为解决上述技术问题，本专利技术的技术方案如下：一种高精度反射片，包括硅基板，硅基板上表面设置有高反膜，高反膜上表面镀有带限位图案的矩阵阵列。本技术方案中，由硅基板和高反膜组成反射片的主体，并在反射片的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高精度反射片，其特征在于，包括硅基板，所述硅基板上表面设置有高反膜，所述高反膜上表面镀有带限位图案的矩阵阵列。/n

【技术特征摘要】
1.一种高精度反射片，其特征在于，包括硅基板，所述硅基板上表面设置有高反膜，所述高反膜上表面镀有带限位图案的矩阵阵列。


2.根据权利要求1所述的高精度反射片，其特征在于：所述矩阵阵列的材料包括SiO2、Ta2O5、MgF中的一种。


3.根据权利要求2所述的高精度反射片，其特征在于：所述矩阵阵列由6×6个依次排列的正方形点阵组成，所述正方形点阵由16个阵点等间距分布在其周长上组成。


4.根据权利要求3所述的高精度反射片，其特征在于：所述点阵之间的间距为0.35±0.05mm，所述点阵中阵点的直径为0.25±0.05mm。


5.根据权利要求1所述的高精度反射片，其特征在于：所述高反膜由Ta2O5高反射介质膜层和SiO2低反射介质膜层交替堆积组成。


6.根据权利要求5所述的高精度反射片，其特征在于：所述高反膜中包括由上至下依次设置的厚度为177.19±10nm的Ta2O5高反射介质膜层、厚度为234.74±10nm的SiO2低反射介质膜层、厚度为146.09±10nm的Ta2O5高反射介质膜层、厚度为303.14...

【专利技术属性】
技术研发人员：何伟亮，
申请(专利权)人：奥普镀膜技术广州有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44