本发明专利技术公开了一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺，包括基层、高折射涂层和抗指纹涂层，所述基层的上方涂装有高折射涂层且高折射涂层的数目为多层，所述高折射涂层的上方涂装有抗指纹涂层，所述抗指纹涂层的上方设置有镀银膜。本发明专利技术对反射膜高折射涂层、抗指纹涂层和相应涂层中组分的设置，提高反射膜的致密度及光辉度，可使得产品具备辉度增益的特性，可对反射光进行调控，改变反射光的方向使其正向出光，避免出现指纹印、防止油脂、汗水沾染，涂层耐刮擦且透光率低，遮蔽性优良，适合广泛推广与使用。
【技术实现步骤摘要】
一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺
本专利技术涉及反射膜领域，具体是一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺。
技术介绍
背光模组由多层光学膜片所组成，通过各膜片材料对光的功能作用，实现对光能的重新分配，背光光源须使用反射膜、扩散膜等的光学薄膜，以达到光源平均投射的目的，高遮蔽率反射膜是液晶显示器中的一个重要部件，其反射率的高低会直接影响液晶显示器的亮度，高遮蔽率反射膜一般应用于灯管和导光板的下方，将从导光体网点面射出的光线反射到导光体内部所需平面上，使光在传播路径过程中，通过膜层的反射、透射和偏振等特性，以获得在某一波段或是多个波段范围内的反射、透射和偏振等各种特殊形态的光，但是在此过程中往往会产生光耗损，其中金属反射膜制备工艺简单，工作的波长范围宽，但光损益大，反射率随之衰减，为提高金属反射膜反射率，在膜外加镀电介质层，但金属电介质反射膜增加了某一波长/波区的反射率，可能会破坏金属膜中自有金属反射的特点，而常规光学反射片遮蔽率不佳，会导致反射片漏光、背光不均，影响光学反射片的正常使用，且常规的光学反射片的耐指纹性较差，手指触碰到光学反射片上便会出现指纹，且会沾染上手上的油脂、汗水等杂质，光学反射片的镀银层极容易被上述物质氧化破坏，影响光学反射片的使用寿命。因此，我们提出一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺，以解决现有技术中的问题。为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜及其制备工艺，包括基层、高折射涂层和抗指纹涂层，所述基层的上方涂装有高折射涂层且高折射涂层的数目为多层，所述高折射涂层的上方涂装有抗指纹涂层，所述抗指纹涂层的上方设置有镀银膜。在上述技术方案中，通过多组高折射涂层、一组抗指纹涂层和镀银膜的设置，形成功能层，能够实现对反射膜致密度和辉度的提高，调节反射光的方向，同时赋予耐指纹等功能。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述高折射涂层包括以下重量组分：18～22份水性树脂，23～28份黑色色浆，23～28份软水，25～31份异丙醇，1～5份润湿剂。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述抗指纹涂层包括以下重量组分：28～33份硅烷树脂、3～8份抗指纹助剂、23～28份黑色色浆、18～22份软水、24～28份异丙醇、1～4份附着力助剂、1～2份基材润湿剂、1～2份消泡剂。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述水性树脂为聚酯树脂，所述聚酯树脂的折射率为1.60～1.62。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述润湿剂为聚氧乙烯烷基酚醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物中的一种或多种，所述黑色色浆为聚丙烯酸、四氧化三钴、碳化硼、氮化硅和二氧化锰的混合物。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述硅烷树脂中还包含水性丙烯酸，所述抗指纹助剂为氟硅类化合物。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述附着力助剂为氨丙基甲基二乙氧基硅烷或氨丁基甲基三乙氧基硅烷，所述基材润湿剂为聚二甲基硅氧烷或聚硅氧烷-多烷氧基醚共聚物，所述消泡剂为聚氧乙烯醚或聚醚改性硅油。在上述技术方案中，湿润剂促进高折射涂层中的组分更易被水浸湿，黑色色浆中的无机物提供浆料的颜色基础且性质稳定，能够提高涂层的强度，高折射涂层选用折射率为1.60～1.62的水性聚酯为主体，聚酯树脂为线性结构，使得涂层的具有较好的致密性，加入黑色色浆，能够显著提高反射膜的遮蔽性，附着力助剂能够提高抗指纹涂层与水性树脂的粘结性，促进两组涂层之间的粘结，还能够提高抗指纹涂层中其他组分的湿润性和分散性，聚二甲基硅氧烷在对抗指纹涂层中的组分进行湿润的同时能够配合消泡剂对抗指纹涂料中的气泡进行消除，聚硅氧烷-多烷氧基醚共聚物还能够提高涂层的抗污性和流平性、润滑性。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述硅烷树脂中还包含水性丙烯酸。在上述技术方案中，抗指纹涂层以硅烷树脂和水性丙烯酸为主体，通过抗指纹助剂降低抗指纹涂层表面能，提高涂层的疏水疏油性，防止沾染油脂和汗水，避免出现指纹，实现涂层的抗指纹效果，同时利用其他组分提高了涂层的附着力、强度和柔韧性，提高抗指纹涂层与其他膜层之间的粘结性能。一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：1)制备高折射涂料：取水性树脂，加入润湿剂、软水和异丙醇，搅拌后加入黑色色浆，搅拌过滤后制得高折射涂料；2)制备抗指纹涂料：取硅烷树脂，加入抗指纹助剂、附着力助剂、基材润湿剂、消泡剂，搅拌后加入软水和异丙醇，继续搅拌，加入黑色色浆，搅拌一段时间，过滤后制得抗指纹涂料；3)制备反射膜：a)涂布：取高折射涂料，在基层表面进行涂布，重复上述步骤，制得多层高折射涂层；取抗指纹涂料，在高折射涂层表面进行涂布，制得抗指纹涂层；b)贴合：取镀银膜并在其表面涂布双组分胶水，然后与抗指纹涂层进行贴合，制得初步产品；c)熟化：取上述步骤制得的初步产品进行熟化，制得成品。作为本专利技术的一种优选实施方式，包括以下步骤：1)制备高折射涂料：取水性树脂，加入润湿剂、软水和异丙醇，以450～550r/min的速度搅拌25～35min，然后加入黑色色浆，以1400～1600r/min的速度搅拌40～50min，过滤后制得高折射涂料；2)制备抗指纹涂料：取硅烷树脂，加入抗指纹助剂、附着力助剂、基材润湿剂、消泡剂，并以450～550r/min的速度搅拌10～20min，加入软水和异丙醇，继续搅拌25～35min，然后加入黑色色浆，以1400～1600r/min的速度搅拌40～50min，过滤后制得抗指纹涂料；3)制备反射膜：a)涂布：取高折射涂料，以微凹涂布的方式在基层表面进行涂布，涂布量为1.5～1.8g/㎡，涂布速度为25～35m/min，涂布温度为90～130℃，重复上述步骤，制得多层高折射涂层；取抗指纹涂料，以微凹涂布的方式在高折射涂层表面进行涂布，涂布量为1.5～1.8g/㎡，涂布速度为40～60m/min，涂布温度为90～160℃，制得抗指纹涂层；b)贴合：取镀银膜并在其表面涂布双组分胶水，然后与抗指纹涂层进行贴合，胶水的上胶量为4.0～5.0g/㎡，贴合速度为20～40m/min，贴合温度为50～90℃，制得初步产品；c)熟化：取上述步骤制得的初步产品在40～60℃温度下，熟化84～108h，制得成品。在上述技术方案中，高折射涂层和抗指纹涂层中均具有黑色色浆，经过涂布形成三层黑色涂层，能够大幅度提高反射膜的遮蔽率，有效解决因黑色纯度不高及细腻度不佳导致的反射膜漏光及背光不均等问题，可对反射光进行调控，可使反射膜正向出光，应用该反射膜能够减少背光模组厚度，提高了反射膜的使用效果。作为本专利技术的一种优选实施方式，所述抗指纹助剂的制备工艺为：在氩气氛围中取1，3，5，7-四甲基环四硅氧烷溶于甲苯，加入四甲基氢氧化铵、三氟丙基，于50～本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜，包括基层、高折射涂层和抗指纹涂层，其特征在于：所述基层的上方涂装有高折射涂层且高折射涂层的数目为多层，所述高折射涂层的上方涂装有抗指纹涂层，所述抗指纹涂层的上方设置有镀银膜。/n
【技术特征摘要】
1.一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜，包括基层、高折射涂层和抗指纹涂层，其特征在于：所述基层的上方涂装有高折射涂层且高折射涂层的数目为多层，所述高折射涂层的上方涂装有抗指纹涂层，所述抗指纹涂层的上方设置有镀银膜。
2.根据权利要求1所述的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜，其特征在于：所述高折射涂层包括以下重量组分：18～22份水性树脂，23～28份黑色色浆，23～28份软水，25～31份异丙醇，1～5份润湿剂。
3.根据权利要求1所述的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜，其特征在于：所述抗指纹涂层包括以下重量组分：28～33份硅烷树脂、3～8份抗指纹助剂、23～28份黑色色浆、18～22份软水、24～28份异丙醇、1～4份附着力助剂、1～2份基材润湿剂、1～2份消泡剂。
4.根据权利要求2述的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜，其特征在于：所述水性树脂为聚酯树脂，所述聚酯树脂的折射率为1.60～1.62。
5.根据权利要求2的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜，其特征在于：所述润湿剂为聚氧乙烯烷基酚醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物中的一种或多种，所述黑色色浆为聚丙烯酸、四氧化三钴、碳化硼、氮化硅和二氧化锰的混合物。
6.根据权利要求3的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜的制备工艺，其特征在于：所述硅烷树脂中还包含水性丙烯酸，所述抗指纹助剂为氟硅类化合物。
7.根据权利要求3的一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜的制备工艺，其特征在于：所述附着力助剂为氨丙基甲基二乙氧基硅烷或氨丁基甲基三乙氧基硅烷，所述基材润湿剂为聚二甲基硅氧烷或聚硅氧烷-多烷氧基醚共聚物，所述消泡剂为聚氧乙烯醚或聚醚改性硅油。
8.一种高遮蔽耐指纹背光模组反射膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
1)制备高折射涂料：取水性树脂，加入润湿剂、软水和异丙醇，搅拌后加入黑色色浆，搅拌过滤后制得高折射涂料；
2)制备抗指纹涂料：取硅烷树脂，加入抗指纹助剂、附着力助剂、基材润湿剂、消泡剂，搅拌后加入软水和异丙醇，继续搅拌，加入黑色色浆，搅拌一段时间，过滤后制得抗指纹涂料；
3)制备反射膜：
a)涂布：取高折射涂料，在...
【专利技术属性】
技术研发人员：张学斌，张广明，何松武，
申请(专利权)人：江苏新光镭射包装材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32
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