【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗用的承载料框
本专利技术涉及半导体清洗机的
,更具体地说涉及一种硅片清洗用的承载料框。
技术介绍
硅片制作的集成电路芯片为常规的半导体产品,硅片在制作集成电路芯片之前,需要经过清洗。现有的硅片清洗先放入药液槽进行表面化学处理,再送入清洗槽内(采用纯水清洗,也称为纯水槽),将表面粘附的药液清洗干净。现有具体的清洗方式是将硅片安置在承载硅片的料框,将承载有硅片的料框浸泡到药液槽后,然后提起料框,沥水后,再将料框放入纯水槽内浸泡清洗。因为硅片的表面粘附较多的药液,现有料框没有快速消除硅片表面粘附药液的结构,就往往需要耗费较长的时间进行沥水,来消除附着在硅片表面的药液;所以需要对料框进行改进,以节省沥水耗费的时间。
技术实现思路
本专利技术的目的就是针对现有技术之不足,而提供了一种硅片清洗用的承载料框,其采用的承载料框进一步去除硅片表面的药液,可以缩短沥水的时间,提高清洗的效率。为实现上述目的,本专利技术采用的技术方案如下:一种硅片清洗用的承载料框,包括矩形的框体,框体前、后侧的 ...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗用的承载料框,包括矩形的框体(1),框体(1)前、后侧的内壁上成型有若干纵向的隔板(11),隔板(11)之间成型有插槽(12),其特征在于:框体(1)下端的前、后侧均成型有矩形的切槽(13),切槽(13)之间成型有插接座(14),所述的插接座(14)插接有若干横向的磁性承托杆(2),磁性承托杆(2)分布在框体(1)前、后侧的隔板(11)之间,所述磁性承托杆(2)的一端穿过框体(1)吸靠在永磁铁块(3)上,永磁铁块(3)固定在框体(1)的外壁上,磁性承托杆(2)的另一端穿过框体(1)固定在连杆(4)上,连杆(4)上成型有T型的提手(41);/n所述框体(1)的 ...
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗用的承载料框,包括矩形的框体(1),框体(1)前、后侧的内壁上成型有若干纵向的隔板(11),隔板(11)之间成型有插槽(12),其特征在于:框体(1)下端的前、后侧均成型有矩形的切槽(13),切槽(13)之间成型有插接座(14),所述的插接座(14)插接有若干横向的磁性承托杆(2),磁性承托杆(2)分布在框体(1)前、后侧的隔板(11)之间,所述磁性承托杆(2)的一端穿过框体(1)吸靠在永磁铁块(3)上,永磁铁块(3)固定在框体(1)的外壁上,磁性承托杆(2)的另一端穿过框体(1)固定在连杆(4)上,连杆(4)上成型有T型的提手(41);
所述框体(1)的上端面上成型有与插接座(14)相对的凹槽(15),框体(1)前、后侧相对的隔板(11)成型有倾斜的卡槽(17),框体(1)的一侧侧壁上成型有与卡槽(17)相连通的排液槽(16);所述框体(1)的卡槽(17)内插接固定有截面呈等腰梯形的胶条(5),胶条(5)的两侧露出隔板(11)的两侧壁。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗用的承载料框,其特征在于:所述的隔板(11)呈线性均匀分布在框体...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐俊,
申请(专利权)人:杭州易正科技有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江;33
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