高压气体采样试验装置及采样试验方法制造方法及图纸

本申请实施例中提供了一种高压气体采样试验装置及采样试验方法，高压气体采样试验装置包括真空过渡组件、真空测量组件以及采样通道组件；真空过渡组件用于减压获取一定气压的待测高压气体；真空测量组件用于测量所述待测高压气体的气体组成；采样通道组件用于连接所述真空过渡组件和/或真空测量组件；其中，所述采样通道组件包括并联的以下采样通道支路中的至少两种：小孔采样通道支路、毛细管采样通道支路以及采样阀通道支路。通过本申请的高压气体采样试验装置及采样试验方法可以系统地研究分析某种或者某几种气体采样方式对气体成分分析的影响。

【技术实现步骤摘要】
高压气体采样试验装置及采样试验方法
本申请属于测量分析
，具体地，涉及一种高压气体采样试验装置及采样试验方法。
技术介绍
极紫外光刻技术(EUVL)用于获得7nm及以下光刻节点技术，极紫外光刻机采用波长为13.5nm的极紫外光(EUV)，由于空气及几乎所有的折射光学材料对EUV13.5nm具有强烈的吸收作用，因此极紫外光刻机的光学系统、硅片台和掩模台必须在真空环境中。任何固体材料置于真空环境下都会放气，同时EUV曝光过程中与抗蚀剂作用会产生大量的污染气体。而EUVL光学系统中的反射镜对污染物非常敏感，稍有污染即造成其反射率下降，因此EUVL系统对各真空微环境的总压、气体组分及分压都具有严格的要求。有文献(AbneeshSrivastava，StenioPereira,ThomasGaffney.Sub-AtmosphericGasPurificationforEUVLVacuumEnvironmentControl.SPIE,2012)指出，极紫外光刻机(EUVL)部分真空环境要求碳氢化合物(CxHy)分压≤1×10-7Pa，水分压≤1×本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高压气体采样试验装置，其特征在于，包括：/n真空过渡组件，用于减压获取一定气压的待测高压气体；/n真空测量组件，用于测量所述待测高压气体的气体组成；/n采样通道组件，用于连接所述真空过渡组件和/或真空测量组件；其中，所述采样通道组件包括并联的以下采样通道支路中的至少两种：小孔采样通道支路、毛细管采样通道支路以及采样阀通道支路。/n

【技术特征摘要】
1.一种高压气体采样试验装置，其特征在于，包括：
真空过渡组件，用于减压获取一定气压的待测高压气体；
真空测量组件，用于测量所述待测高压气体的气体组成；
采样通道组件，用于连接所述真空过渡组件和/或真空测量组件；其中，所述采样通道组件包括并联的以下采样通道支路中的至少两种：小孔采样通道支路、毛细管采样通道支路以及采样阀通道支路。


2.根据权利要求1所述的高压气体采样试验装置，其特征在于，所述真空过渡组件包括过渡腔室、真空计及真空过渡泵组；所述过渡腔室前端直接减压获取或者连接所述采样通道组件后减压获取待测高压气体，所述过渡腔室后端连接采样通道组件或者真空测量组件；所述过渡腔室连接真空计及真空过渡泵组。


3.根据权利要求1所述的高压气体采样试验装置，其特征在于，所述真空测量组件包括质谱腔室、真空计、质谱仪及真空测量泵组；所述质谱腔室前端直接获取或者连接所述采样通道组件后获取一定气压的待测真空，所述质谱腔室连接真空计、质谱仪及真空测量泵组。


4.根据权利要求1所述的高压气体采样试验装置，其特征在于，所述真空过渡泵组及真空测量泵组均包括分子泵和机械泵。

【专利技术属性】
技术研发人员：罗艳，吴晓斌，王魁波，谢婉露，李慧，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：北京;11