一种显示基板及其制作方法、显示面板技术

技术编号:25603187 阅读:13 留言:0更新日期:2020-09-11 23:59
本发明专利技术提供一种显示基板及其制作方法、显示面板,所述显示基板包括:基底;设置于所述基底上的多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区,像素岛区上设置有薄膜晶体管阵列层和发光器件,连接桥区上设置有连接线,像素岛区的薄膜晶体管阵列层上、以及连接桥区的连接线上还依次设置有第一钝化层、平坦层和第二钝化层,像素岛区上靠近开孔区的区域开设有第一隔断槽,第一隔断槽的垂直于基底的截面形状为凸字形,第一隔断槽用于隔断像素岛区上靠近开孔区的有机发光层和阴极。根据本发明专利技术实施例的显示基板,隔断了像素岛区和连接桥区的有机发光层和阴极,完全阻断了从开孔区到像素岛区的有机发光层和阴极的水汽入侵路径,确保了封装的有效性和可靠性。

【技术实现步骤摘要】
一种显示基板及其制作方法、显示面板
本专利技术涉及显示
,具体涉及一种显示基板及其制作方法、显示面板。
技术介绍
目前,全屏幕无边框U型屏手机逐渐成为主流,但无边框U型屏不是真正的全面屏,因为其四个边角不能实现弯曲和显示功能。四曲全显示手机是未来的方向,而四角拉伸区的封装则是四曲全显示技术的难点。
技术实现思路
有鉴于此,本专利技术提供一种显示基板及其制作方法、显示面板,能够解决现有技术中拉伸区封装不良时,容易导致水汽沿开孔区到像素岛区的有机发光层和阴极的入侵路径进行入侵,继而导致器件损坏的问题。为解决上述技术问题,本专利技术采用以下技术方案:本专利技术一方面实施例提供一种显示基板,包括:基底;设置于所述基底上的多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区,所述像素岛区上设置有薄膜晶体管阵列层和发光器件,所述连接桥区上设置有连接线,所述像素岛区的薄膜晶体管阵列层上、以及所述连接桥区的连接线上还依次设置有第一钝化层、平坦层和第二钝化层,所述像素岛区上靠近所述开孔区的区域开设有第一隔断槽,所述第一隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形,所述第一隔断槽用于隔断所述像素岛区上靠近所述开孔区的有机发光层和阴极。可选的,所述连接桥区上靠近所述像素岛区的区域开设有第二隔断槽,所述第二隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形,所述第二隔断槽用于隔断所述连接桥区上的有机发光层和阴极。可选的,所述基底和所述薄膜晶体管阵列层之间还设置有无机介质层,所述基底上与所述开孔区对应的区域开设有第三隔断槽,所述第三隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形。可选的,所述第三隔断槽位于所述基底的部分的深度为所述基底总厚度的20%~70%。可选的,位于所述像素岛区的第一钝化层和平坦层在靠近所述开孔区的一侧逐层内缩形成梯度,位于所述像素岛区的第二钝化层靠近所述开孔区的一侧搭设于所述第一钝化层上;所述连接桥区的所述第一钝化层和所述平坦层的两侧逐层内缩形成梯度,位于所述连接桥区的第二钝化层的两侧搭设于所述第一钝化层的两侧。可选的,还包括:设置于所述第一隔断槽内表面和所述第二隔断槽内表面的阳极材料层。可选的,所述第一隔断槽和所述第二隔断槽的深度为1.5~2.5μm。本专利技术另一方面实施例还提供了一种显示基板的制作方法,包括:提供一基底,所述基底包括多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区;形成位于所述像素岛区的薄膜晶体管阵列层和位于所述连接桥区的连接线;在所述像素岛区的薄膜晶体管阵列层上和所述连接桥区的连接线上依次形成第一钝化层、平坦层和第二钝化层,并在所述像素岛区上靠近所述开孔区的区域开设第一隔断槽,在所述连接桥区上开设第二隔断槽,所述第一隔断槽和所述第二隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形,所述第一隔断槽用于隔断所述像素岛区的有机发光层和阴极,所述第二隔断槽用于隔断所述连接桥区的有机发光层和阴极。可选的,还包括:形成阳极,同时形成位于所述第一隔断槽内表面和所述第二隔断槽内表面的阳极材料层;在所述阳极上形成像素定义层,所述像素定义层限定处像素开口区域;形成有机发光层和阴极,所述有机发光层和所述阴极在所述第一隔断槽、所述第二隔断槽以及所述开孔区被隔断。可选的,所述形成位于所述像素岛区的薄膜晶体管阵列层和位于所述连接桥区的连接线之前,还包括:在所述基底上形成无机介质层,并在所述基底上与所述开孔区对应的区域开设第三隔断槽,所述第三隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形。本专利技术又一方面实施例提供一种显示面板,包括如上所述的显示基板。本专利技术上述技术方案的有益效果如下:根据本专利技术实施例的显示基板,隔断了像素岛区和连接桥区的有机发光层和阴极,完全阻断了从开孔区到像素岛区的有机发光层和阴极的水汽入侵路径,确保了封装的有效性和可靠性。附图说明图1为本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图之一;图2为本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图之二;图3为本专利技术实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程示意图;图4为本专利技术实施例提供的在像素岛区开设隔断槽的示意图;图5为本专利技术实施例提供的在像素岛区和连接桥区部分区域开设隔断槽的示意图;图6为本专利技术实施例提供的在像素岛区和连接桥区开设隔断槽的示意图。具体实施方式为使本专利技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本专利技术实施例的附图,对本专利技术实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例是本专利技术的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于所描述的本专利技术的实施例,本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例,都属于本专利技术保护的范围。本专利技术实施例提供了一种显示基板及其制作方法、显示面板,能够解决现有封装方案可能存在的水汽从开孔区通过有机发光层和阴极提供的入侵路径入侵到像素岛区的器件,导致器件损坏的问题。请参考图1,为本专利技术实施例提供的显示基板的结构示意图。如图1所示,所述显示基板可以包括:基底,设置于基底上的多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区,多个像素岛区可以在基底上呈阵列分布,连接桥区连接相邻的像素岛区,在像素岛区和连接桥区以外的区域设置有多个开孔区,开孔区可以设置在相邻的连接桥区之间和/或连接桥区和像素岛区之间。在像素岛区上设置有薄膜晶体管阵列层和位于薄膜晶体管阵列层上方的发光器件,其中,薄膜晶体管阵列层主要设置薄膜晶体管(ThinFilmTransistor,TFT),而发光器件可以包括阳极、有机发光层和阴极;在连接桥区上设置有连接线,所述连接线可以用于实现相邻像素岛之间的信号连通,例如,连接线可以连接相邻像素岛区的栅线,也可以连接相邻像素岛区的数据线;在像素岛区的薄膜晶体管阵列层上、以及连接桥区的连接线上还依次设置有第一钝化层、平坦层和第二钝化层,其中,像素岛区上靠近开孔区的区域开设有第一隔断槽,也即,在像素岛区的第一钝化层和平坦层上靠近开孔区的区域设置有第一隔断槽,而在连接桥区上则开设有第二隔断槽,也即,在连接桥区的第一钝化层、平坦层和第二钝化层这三层中间区域开设有第二隔断槽,所述第一隔断槽和所述第二隔断槽的垂直于所述基底的截面形状均为凸字形,所述第一隔断槽可以用于隔断像素岛区上靠近开孔区的有机发光层和阴极,所述第二隔断槽可以用于隔断连接桥区的有机发光层和阴极,从而阻断水汽从开孔区通过有机发光层和阴极入侵器件的路径,而且连接桥区的连接线也存在防水防气的保护结构,可以有效防止金属被腐蚀,最终确保良好的封装效果,提升了产品的良率和使用寿命。下面通过具体实施例详细说明本专利技术的技术方案。请参考图1,为本专利技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图之一。如图1所示,所述显示基板可以包括:基底102,设置于基底102上的多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区;其中,基底102可以为柔性基底,具体可以采用聚酰亚胺薄膜;在像素岛区上设置有薄膜晶体本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:/n基底;/n设置于所述基底上的多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区,所述像素岛区上设置有薄膜晶体管阵列层和发光器件,所述连接桥区上设置有连接线,所述像素岛区的薄膜晶体管阵列层上、以及所述连接桥区的连接线上还依次设置有第一钝化层、平坦层和第二钝化层,所述像素岛区上靠近所述开孔区的区域开设有第一隔断槽,所述第一隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形,所述第一隔断槽用于隔断所述像素岛区上靠近所述开孔区的有机发光层和阴极。/n

【技术特征摘要】
1.一种显示基板,其特征在于,包括:
基底;
设置于所述基底上的多个像素岛区、多个开孔区和多个连接桥区,所述像素岛区上设置有薄膜晶体管阵列层和发光器件,所述连接桥区上设置有连接线,所述像素岛区的薄膜晶体管阵列层上、以及所述连接桥区的连接线上还依次设置有第一钝化层、平坦层和第二钝化层,所述像素岛区上靠近所述开孔区的区域开设有第一隔断槽,所述第一隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形,所述第一隔断槽用于隔断所述像素岛区上靠近所述开孔区的有机发光层和阴极。


2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述连接桥区上靠近所述像素岛区的区域开设有第二隔断槽,所述第二隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形,所述第二隔断槽用于隔断所述连接桥区上的有机发光层和阴极。


3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述基底和所述薄膜晶体管阵列层之间还设置有无机介质层,所述基底上与所述开孔区对应的区域开设有第三隔断槽,所述第三隔断槽的垂直于所述基底的截面形状为凸字形。


4.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述第三隔断槽位于所述基底的部分的深度为所述基底总厚度的20%~70%。


5.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,位于所述像素岛区的第一钝化层和平坦层在靠近所述开孔区的一侧逐层内缩形成梯度,位于所述像素岛区的第二钝化层靠近所述开孔区的一侧搭设于所述第一钝化层上;所述连接桥区的所述第一钝化层和所述平坦层的两侧逐层内缩形成梯度,位于所述连接桥区的第二钝化层的两侧搭设于所述第一钝化层的两侧。


6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括:
设置于...

【专利技术属性】
技术研发人员:吕祖彬贾立高涛詹裕程黄鹏
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司成都京东方光电科技有限公司
类型:发明
国别省市:北京;11

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