一种酸性氯化铜蚀刻液参数监控取样盒制造技术

技术编号:25575148 阅读:38 留言:0更新日期:2020-09-08 20:10
本实用新型专利技术公开了一种酸性氯化铜蚀刻液参数监控取样盒,本实用新型专利技术包括盒体,比重计和酸度探头;盒体为长方体结构,盒体的上部为上盖,盒体的底部为下盖,上盖覆盖盒体的上端,下盖覆盖盒体的下端,下盖与盒体的下端固定;隔断一与隔仓都在盒体内部,隔断一是长方形板状;隔仓包括隔仓底板、隔断二与隔断三,底板、隔断二与隔断三这三个部分都是长方形板状。本实用新型专利技术减少蚀刻液滞留,缩小蚀刻液的监控值和实际值之间偏差。

【技术实现步骤摘要】
一种酸性氯化铜蚀刻液参数监控取样盒
本技术涉及化工设备技术,具体为一种酸性氯化铜蚀刻液参数监控取样盒。
技术介绍
在酸性氯化铜蚀刻液进行铜合金蚀刻加工过程中,Cu和Cu2+反应生成Cu+,随着铜合金不断被蚀刻,Cu2+浓度不断降低,Cu+浓度不断上升,蚀刻液蚀刻能力不断下降,为保证稳定的蚀刻能力,需添加氧化剂(双氧水或氯酸钠)和盐酸对蚀刻液再生,将Cu+氧化为Cu2+,恢复蚀刻液蚀刻能力。其反应原理为:Cu+CuCl2=Cu2Cl2,Cu2Cl2+H2O2+2HCl=2CuCl2+2H2O。这样蚀刻液中Cu2+的浓度就在降低→升高→再降低→再升高中不断周而复始地循环,随着蚀刻生产技术的发展和提高,自动添加氧化剂和盐酸的方式取代了手动添加方式,这就需要精确监控蚀刻液酸度值、氧化还原电位(ORP值)、比重值、温度值四个参数的变化,自动控制氧化剂和盐酸的添加时间和量,从而控制蚀刻液的四个参数在合适范围内,进而实现稳定的生产。现有蚀刻液参数监控取样盒存在一些问题:易滞留部分蚀刻液,造成蚀刻液的监控值和实际值之间的偏差,这对产品尺寸的稳定性,尤其本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种酸性氯化铜蚀刻液参数监控取样盒,包括盒体(1),比重计(5)和酸度探头(2),其特征在于:盒体(1)为长方体结构,盒体(1)的上部为上盖(11),盒体(1)的底部为下盖(12),上盖(11)覆盖盒体(1)的上端,下盖(12)覆盖盒体(1)的下端,下盖(12)与盒体(1)的下端固定;隔断一(9)与隔仓都在盒体(1)内部,隔断一(9)是长方形板状;隔仓包括隔仓底板(1.1)、隔断二(13)与隔断三(10),底板(1.1)、隔断二(13)与隔断三(10)这三个部分都是长方形板状;隔断一(9)底部固定在下盖(12)上,隔断一(9)上部与上盖(11)的底部具有空隙,隔断一(9)的两个边缘与盒体(...

【技术特征摘要】
1.一种酸性氯化铜蚀刻液参数监控取样盒,包括盒体(1),比重计(5)和酸度探头(2),其特征在于:盒体(1)为长方体结构,盒体(1)的上部为上盖(11),盒体(1)的底部为下盖(12),上盖(11)覆盖盒体(1)的上端,下盖(12)覆盖盒体(1)的下端,下盖(12)与盒体(1)的下端固定;隔断一(9)与隔仓都在盒体(1)内部,隔断一(9)是长方形板状;隔仓包括隔仓底板(1.1)、隔断二(13)与隔断三(10),底板(1.1)、隔断二(13)与隔断三(10)这三个部分都是长方形板状;隔断一(9)底部固定在下盖(12)上,隔断一(9)上部与上盖(11)的底部具有空隙,隔断一(9)的两个边缘与盒体(1)的前后内壁面连接;隔断三(10)底部固定在下盖(12)上,隔断三(10)的两个边缘分别与盒体(1)的前后内壁面连接,隔断三(10)的上部与上盖(11)的底部部具有空隙;隔断二(13)的上端与上盖(11)的底部连接,隔断二(13)的下端与下盖(12)的上部具有空隙,隔断二(13)的两个边缘与盒体(1)的前后内壁面连接;隔断二(13)在隔断三(10)与隔断一(9)之间,隔断一(9)、隔断二(13)与隔断三(10)这三个部分相互平行;隔断二(13)的下端为隔仓底板(1.1),隔仓底板(1.1)的一端与隔断二(13)的底部连接,隔仓底板(1.1)的另一端与隔断三(10)连接,隔仓底板(1.1)与下盖(12)平行,隔仓底板(1.1)的前后两端分别与盒体(1)的前后内壁面连接,隔仓底板(1.1)上分布有若干个孔;隔断一(9)靠近盒体(1)的左侧内...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜圣毅尹曹勇
申请(专利权)人:大连保税区金宝至电子有限公司
类型:新型
国别省市:辽宁;21

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