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一种禅绕画型版制造技术

技术编号:25564524 阅读:25 留言:0更新日期:2020-09-08 19:49
本实用新型专利技术公开了一种禅绕画型版,包括型版本体,所述型版本体上设有若干绘格,所述绘格为镂空于型版本体上,由若干绘格排列成绘格组,相邻的两列绘格组相距距离一致,每列中相邻的两个绘格相距距离一致,通过设置绘格解决了绘图图案单调的问题,还可一方面增强绘制线条的手感,一方面记忆基本图案,灵活运用想象力和色彩,通过变形原有的禅绕画基本图案,加入自己对周围人、事、景、物的理解和观察,随心所欲地创作有视觉震撼力的禅绕画作品。

【技术实现步骤摘要】
一种禅绕画型版
本技术涉及美术绘画领域,尤其涉及一种禅绕画型版。
技术介绍
禅绕画是一种蕴含想象力,趣味横生、轻松随性的艺术表达形式。它巧妙地运用结构与协调之间的微妙关系,创造引人入胜的艺术画,让精湛的艺术作品回归到生活中,充分享受艺术创造的过程。现有禅绕画型版是兼带立体结构图案的图样,不能随心所欲的画,缺少了原创性。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种禅绕画型版,已解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种禅绕画型版,包括型版本体,所述型版本体上设有若干绘格,所述绘格为镂空于型版本体上,由若干绘格排列成绘格组,相邻的两列绘格组相距距离一致,每列中相邻的两个绘格相距距离一致。进一步的,所述型版本体呈正方形、圆形、等边三角形中的一种进一步的,所述绘格为圆格和方格中的一种或两者混合。进一步的,所述型版本体为透明塑料材质。进一步的,所述型版本体的厚度为0.1mm-0.2mm。与现有技术相比,本技术的有益效果:本技术的技术方案通过设置绘格解决了绘图图案单本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种禅绕画型版,其特征在于:包括型版本体,所述型版本体上设有若干绘格,所述绘格为镂空于型版本体上,由若干绘格排列成绘格组,相邻的两列绘格组相距距离一致,每列中相邻的两个绘格相距距离一致。/n

【技术特征摘要】
1.一种禅绕画型版,其特征在于:包括型版本体,所述型版本体上设有若干绘格,所述绘格为镂空于型版本体上,由若干绘格排列成绘格组,相邻的两列绘格组相距距离一致,每列中相邻的两个绘格相距距离一致。


2.根据权利要求1所述的一种禅绕画型版,其特征在于:所述型版本体呈正方形、圆形、等边三角形中的一种。

【专利技术属性】
技术研发人员:黄均庭
申请(专利权)人:黄均庭
类型:新型
国别省市:广东;44

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