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本实用新型公开了一种禅绕画型版，包括型版本体，所述型版本体上设有若干绘格，所述绘格为镂空于型版本体上，由若干绘格排列成绘格组，相邻的两列绘格组相距距离一致，每列中相邻的两个绘格相距距离一致，通过设置绘格解决了绘图图案单调的问题，还可一方面增...
该专利属于黄均庭所有，仅供学习研究参考，未经过黄均庭授权不得商用。

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