冗余图形的检测方法技术

本发明专利技术提供了一种冗余图形的检测方法，包括：查找长度和宽度符合设计规则的多个图形，得到第一冗余图形；选择第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的部分作为第一区域；从第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，组成第二区域；选择与第二区域相邻的第一冗余图形作为第二冗余图形；对第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半得到第三区域；扩展第三区域，形成第四区域；将第四区域的边界向内收缩得到第五区域；用冗余图形的可添加区域去除所述第五区域，并输出剩余的区域。本发明专利技术可以使得冗余图形的添加的检测更加全面，并且还能减少输出结果的数量，从而减少查看结果的时间。

【技术实现步骤摘要】
冗余图形的检测方法
本专利技术涉及半导体
，尤其是涉及冗余图形的检测方法。
技术介绍
集成电路制造过程中，为了提高刻蚀及化学机械研磨等半导体加工工艺的均匀性，通常需在版图设计完成后对图形分布较为稀疏的区域进行冗余图形添加。设计规则制定者即半导体制造工厂通常在设计规则中预先定义各层次冗余图形的形状、大小、相对距离以及偏移距离并提供相应添加程序。通常情况下，冗余图形的添加方式是将固定尺寸的单个图形或组合图形按固定间距沿着X或Y其中之一方向，或者两个方向进行偏移交错填充。该添加方式的冗余图形，其几何特征主要包含尺寸、相对距离和偏移距离。为保证冗余图形添加的准确性，通常需要在冗余图形添加完成后进行冗余图形检测。设计规则中定义了冗余图形尺寸、相对距离和偏移距离三大几何特征，添加冗余图形的三大几何特征均应等于设计规则。而传统的检测方法是最小规则检查，分别将冗余图形尺寸小于设计规则或/和相对距离小于设计规则的冗余图形输出。该检测方法不包含尺寸及相对距离大于设计规则的检测，且未包含偏移距离的检测，检测不够全面，不能完全保证冗余图形添加的准确性，此外，小于设计规则的冗余图形为独立的点输出，输出结果的数量较大，结果查看较为耗时。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供冗余图形的检测方法，除了可以检测冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离小于设计规则的情况，检测还可以检测冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离大于设计规则的情况，从而提高冗余图形添加的准确性；并且还可以将检测的冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离不符合设计规则的冗余图形以区域的形式输出，从而减少输出结果的数量。为了达到上述目的，本专利技术提供了一种冗余图形的检测方法，用于对添加后的冗余图形进行尺寸、相对距离和偏移距离的检测，包括：从添加后的冗余图形中查找长度和宽度符合设计规则的冗余图形，得到多个第一冗余图形；选择所述第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的多个第一冗余图形，并将其作为第一区域；从所述第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，多个所述间隔图形组成第二区域；选择与所述第二区域相邻的所述第一冗余图形作为第二冗余图形；对所述第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半，以得到第三区域，所述第三区域围绕了一个无图形区域；扩展所述第三区域，并覆盖所述无图形区域，以组成第四区域；将所述第四区域的边界向内收缩所述第一预设值的一半，以得到第五区域；用冗余图形的可添加区域去除所述第五区域，并输出剩余的区域。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第一冗余图形也具有偏移距离，第一冗余图形的偏移距离包括在横坐标方向的第一偏移值和在纵坐标方向上的第二偏移值。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述相对距离包括横向相对距离和纵向相对距离。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第一预设值包括第一横向相对距离预设值和第一纵向相对距离预设值。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第二预设值包括第二横向相对距离预设值和第二纵向相对距离预设值，所述第二横向相对距离预设值通过所述第一冗余图形的长度和所述第一偏移值获得，所述第二纵向相对距离预设值通过所述第一冗余图形的宽度和所述第二偏移值获得。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述无图形区域为长度是第一偏移值和宽度是第二偏移值的矩形形状。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第二冗余图形包括多行单列图形、单行多列图形或者多行多列图形。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第二冗余图形包括多行单列图形时，以第一行为基准，其他行在横坐标上进行了偏移。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第二冗余图形包括单行多列图形时，以第一列为基准，其他列在纵坐标上进行了偏移。可选的，在所述的冗余图形的检测方法中，所述第二冗余图形包括多行多列图形时，以第一行为基准，其他行在横坐标上进行了偏移；以第一列为基准，其他列在纵坐标上进行了偏移。在本专利技术提供的冗余图形的检测方法中，相对于现有技术，本专利技术除了可以检测冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离或冗余图形的偏移距离小于设计规则的情况外，还可以检测冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离或冗余图形的偏移距离大于设计规则的情况，检测更加全面，使得冗余图形的添加更加准确。并且输出的剩余图形为不符合设计规则的冗余图形的区域，所以本专利技术还可以将冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离或冗余图形的偏移距离小于设计规则的冗余图形以及冗余图形的尺寸或冗余图形的相对距离或冗余图形的偏移距离大于设计规则的冗余图形以区域的形式输出，从而减少输出结果的数量，从而减少查看结果的时间。附图说明图1是本专利技术实施例的冗余图形的检测方法的流程图；图2至图8是本专利技术实施例的冗余图形的检测方法的示意图；图中：1-冗余图形、2-间隔图形、211-第一间隔图形、212-第二间隔图形、111-第一图形、112-第二图形、121-第三图形、122-第四图形、300-第三区域、400-无图形区域、500-第四区域、600-第五区域。具体实施方式下面将结合示意图对本专利技术的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。在下文中，术语“第一”“第二”等用于在类似要素之间进行区分，且未必是用于描述特定次序或时间顺序。要理解，在适当情况下，如此使用的这些术语可替换。类似的，如果本文所述的方法包括一系列步骤，且本文所呈现的这些步骤的顺序并非必须是可执行这些步骤的唯一顺序，且一些所述的步骤可被省略和/或一些本文未描述的其他步骤可被添加到该方法。冗余图形的添加方式是将固定尺寸的单个图形或组合图形按固定间距沿着X或Y其中之一方向，或者两个方向进行偏移交错填充。该添加方式添加后的冗余图形，其几何特征主要包含尺寸、相对距离和偏移距离。因此，在冗余图形的添加后需进行冗余图形的检测，其检测内容包含尺寸、相对距离和偏移距离。本专利技术提供了一种冗余图形的检测方法，用于对添加后的冗余图形进行尺寸、相对距离和偏移距离的检测，包括：S11：从添加后的冗余图形中查找长度和宽度符合设计规则的冗余图形，得到多个第一冗余图形；S12：选择所述第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的多个第一冗余图形，并将其作为第一区域；S13：从所述第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，多个所述间隔图形组成第二区域；S14：选择与所述第二区域相邻的所述第一冗余图形作为第二冗余图形；S15：对所述第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半，以得到第三区域，所述第三区域围绕了一个无图形区域；S16：扩展所述第三区域，并覆盖所述无图本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种冗余图形的检测方法，用于对添加后的冗余图形进行冗余图形的尺寸、冗余图形之间的相对距离和冗余图形的偏移距离的检测，其特征在于，包括：/n从添加后的冗余图形中查找长度和宽度符合设计规则的冗余图形，得到多个第一冗余图形；/n选择所述第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的多个第一冗余图形，并将其作为第一区域；/n从所述第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，多个所述间隔图形组成第二区域；/n选择与所述第二区域相邻的所述第一冗余图形作为第二冗余图形；/n对所述第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半，以得到第三区域，所述第三区域围绕了一个无图形区域；/n扩展所述第三区域，并覆盖所述无图形区域，以组成第四区域；/n将所述第四区域的边界向内收缩所述第一预设值的一半，以得到第五区域；/n用冗余图形的可添加区域去除所述第五区域，并输出剩余的区域。/n

【技术特征摘要】
1.一种冗余图形的检测方法，用于对添加后的冗余图形进行冗余图形的尺寸、冗余图形之间的相对距离和冗余图形的偏移距离的检测，其特征在于，包括：
从添加后的冗余图形中查找长度和宽度符合设计规则的冗余图形，得到多个第一冗余图形；
选择所述第一冗余图形之间的相对距离符合第一预设值的多个第一冗余图形，并将其作为第一区域；
从所述第一区域内的第一冗余图形之间的间隔部分选出长度和宽度符合第二预设值的多个间隔图形，多个所述间隔图形组成第二区域；
选择与所述第二区域相邻的所述第一冗余图形作为第二冗余图形；
对所述第二冗余图形中的每个图形向外扩展第一预设值的一半，以得到第三区域，所述第三区域围绕了一个无图形区域；
扩展所述第三区域，并覆盖所述无图形区域，以组成第四区域；
将所述第四区域的边界向内收缩所述第一预设值的一半，以得到第五区域；
用冗余图形的可添加区域去除所述第五区域，并输出剩余的区域。


2.如权利要求1所述的冗余图形的检测方法，其特征在于，所述第一冗余图形也具有偏移距离，第一冗余图形的偏移距离包括在横坐标方向的第一偏移值和在纵坐标方向上的第二偏移值。


3.如权利要求1所述的冗余图形的检测方法，其特征在于，所述相对距离包括横向相对距离和纵向相对距离。


4.如权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李佳佳，姜立维，魏芳，曹云，
申请(专利权)人：上海华力微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31