一种物镜装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种物镜装置。该物镜装置包括：光线传播单元、气体供给单元和控制单元；光线传播单元包括沿光线传播方向依次排列的第一镜组、波前补偿器和第二镜组；第一镜组和/或第二镜组中设置有第一压力感应单元，波前补偿器内设置有第二压力感应单元，第一压力感应单元与第二压力感应单元分别与控制单元连接；气体供给单元用于输出具有预设压力稳定度与预设纯度的气体至波前补偿器；控制单元用于根据第一压力感应单元探测到的第一压力值与第二压力感应单元探测到的第二压力值调节气体供给单元的气体输出量，以使第一压力值与第二压力值的差值在预设压差阈值范围内。由此，可提高开放环境中的气体稳定性，有利于提高物镜装置的光学性能稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种物镜装置
本专利技术实施例涉及光学系统
，尤其涉及一种物镜装置。
技术介绍
光刻工艺直接决定大规模集成电路的特征尺寸，是大规模集成电路制造的关键工艺。现有光刻装置以光学光刻为基础，利用投影系统(包括物镜装置，投影光线由物镜装置出射)将图案形成单元上的图形精确地投影曝光到涂覆有光刻胶的基底(例如，硅片)上。传统的物镜装置中，投影物镜的镜头与光刻胶之间的介质是空气，为了增大投影物镜中光学元件设置位置的灵活性以及提高曝光指标(示例性的，该曝光指标可为特征尺寸)，可在投影物镜中穿插波前补偿器，该波前补偿器处形成开放的环境，环境压力稳定性较差，导致物镜装置的性能波动较大。
技术实现思路
本专利技术提供一种物镜装置，以提高开放环境中的压力稳定性，从而稳定物镜装置的性能。本专利技术实施例提出一种物镜装置，该物镜装置包括：光线传播单元、气体供给单元和控制单元；其中，所述光线传播单元包括沿光线传播方向依次排列的第一镜组、波前补偿器和第二镜组，光线由所述第二镜组出射；所述第一镜组和/或所述第二镜组中设置本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种物镜装置，其特征在于，包括：光线传播单元、气体供给单元和控制单元；/n其中，所述光线传播单元包括沿光线传播方向依次排列的第一镜组、波前补偿器和第二镜组，光线由所述第二镜组出射；/n所述第一镜组和/或所述第二镜组中设置有第一压力感应单元，所述波前补偿器内设置有第二压力感应单元，所述第一压力感应单元与所述第二压力感应单元分别与所述控制单元连接；/n所述气体供给单元用于输出具有预设压力稳定度与预设纯度的气体，并供给至所述波前补偿器；/n所述控制单元用于根据所述第一压力感应单元探测到的第一压力值与所述第二压力感应单元探测到的第二压力值调节所述气体供给单元的气体输出量，以使所述第一压力值与所述第...

【技术特征摘要】
1.一种物镜装置，其特征在于，包括：光线传播单元、气体供给单元和控制单元；
其中，所述光线传播单元包括沿光线传播方向依次排列的第一镜组、波前补偿器和第二镜组，光线由所述第二镜组出射；
所述第一镜组和/或所述第二镜组中设置有第一压力感应单元，所述波前补偿器内设置有第二压力感应单元，所述第一压力感应单元与所述第二压力感应单元分别与所述控制单元连接；
所述气体供给单元用于输出具有预设压力稳定度与预设纯度的气体，并供给至所述波前补偿器；
所述控制单元用于根据所述第一压力感应单元探测到的第一压力值与所述第二压力感应单元探测到的第二压力值调节所述气体供给单元的气体输出量，以使所述第一压力值与所述第二压力值的差值在预设压差阈值范围内。


2.根据权利要求1所述的物镜装置，其特征在于，所述气体供给单元包括顺次连接的第一调压子单元、第二调压子单元和气体回收子单元；
所述第一调压子单元用于过滤气体，并将具有初始预设压力的气体输出至第二调压子单元；
所述第二调压子单元用于在所述初始预设压力范围内稳定气体的压力，使气体的压力稳定在所述预设压力稳定度的范围内，并将具有预设压力稳定度和预设纯度的气体供给至所述波前补偿器；
所述气体回收子单元用于将流经所述波前补偿器的气体回收。


3.根据权利要求2所述的物镜装置，其特征在于，所述第一调压子单元包括质量流量控制器和纯化器；
所述质量流量控制器用于控制由所述第一调压子单元输出的气体的流量；
所述纯化器用于过滤气体。


4.根据权利要求3所述的物镜装置，其特征在于，所述纯化器设置于所述质量流量控制器与所述第二调压子单元之间。


5.根据权利要求3所述的物镜装置，其特征在于，所述第一调压子单元还包括调压阀；
所述调压阀...

【专利技术属性】
技术研发人员：毛辰奇，杨志斌，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31