氧化物粉末制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种氧化物粉末制造装置，本发明专利技术的实施例的氧化物粉末制造装置，其包括：包括：蒸发腔室，作为用于加热固体状态的反应物质以进行蒸发的反应单元，所述反应物质容置于所述蒸发腔室；氧化反应腔室，配置于所述蒸发腔室上侧，用于对从所述蒸发腔室移动的液体状态的反应物质进行氧化；至少一个以上的捕集器，用于捕集从所述氧化反应腔室生成的氧化物粉末；移送管，配置于所述捕集器和所述反应单元之间，用于移动液滴状态的氧化物；以及控制器，用于控制所述蒸发腔室、所述氧化反应腔室、所述移送管以及所述捕集器。

【技术实现步骤摘要】
氧化物粉末制造装置
本专利技术涉及氧化物粉末制造装置，更具体而言涉及一种将固态的反应物质蒸发为液滴状态，从而制造凝集性小且大小均匀的氧化物粉末，尤其是制造凝集较少、大小较小的纳米氧化物粉末的装置。
技术介绍
一般而言，溅射法被认知为是制造薄膜的方法之一。溅射法是指，通过对溅射靶材进行溅射来在基板上形成薄膜的方法，该方法具有容易实现大面积化、能够有效率地制造出高性能的薄膜的优点。并且，最近作为溅射方式还提出有向反应性气体实施溅射的反应性溅射法，或者在靶材的内面设置磁铁以促进薄膜形成的高速化的磁控溅射法等。在这样的溅射法中使用的薄膜中，尤其是氧化铟-氧化锡(In2O3-SnO2的复合氧化物，以下称为“ITO”)膜的可视光透过性高且导电性高，因此作为透明导电膜广泛地使用为液晶显示装置或玻璃的防结露用发热膜、红外线反射膜等。正因为如此，为了更加有效率地形成膜，积极展开有溅射条件或溅射装置等相关的研究。并且，这样的ITO溅射中存在有从设置新的溅射靶材后到因初始电弧(异常放电)消失而可以制造产品为止的时间较短，以及在设置一次后能够使本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种氧化物粉末制造装置，其中，/n包括：/n蒸发腔室，作为用于加热固体状态的反应物质以进行蒸发的反应单元，所述反应物质容置于所述蒸发腔室；/n氧化反应腔室，配置于所述蒸发腔室上侧，用于对从所述蒸发腔室移动的液体状态的反应物质进行氧化；/n至少一个以上的捕集器，用于捕集从所述氧化反应腔室生成的氧化物粉末；/n移送管，配置于所述捕集器和所述反应单元之间，用于移动液滴状态的氧化物；以及/n控制器，用于控制所述蒸发腔室、所述氧化反应腔室、所述移送管以及所述捕集器。/n

【技术特征摘要】
20190228 KR 10-2019-00235611.一种氧化物粉末制造装置，其中，
包括：
蒸发腔室，作为用于加热固体状态的反应物质以进行蒸发的反应单元，所述反应物质容置于所述蒸发腔室；
氧化反应腔室，配置于所述蒸发腔室上侧，用于对从所述蒸发腔室移动的液体状态的反应物质进行氧化；
至少一个以上的捕集器，用于捕集从所述氧化反应腔室生成的氧化物粉末；
移送管，配置于所述捕集器和所述反应单元之间，用于移动液滴状态的氧化物；以及
控制器，用于控制所述蒸发腔室、所述氧化反应腔室、所述移送管以及所述捕集器。


2.根据权利要求1所述的氧化物粉末制造装置，其中，
所述蒸发腔室包括：
第一腔室主体，用于形成外形；
第一加热单元，构成于所述第一腔室主体内，由用于产生热量的发热体构成；
真空泵，用于排出所述蒸发腔室内部的空气；以及
排出口，形成于所述第一腔室主体内，提供用于使空气逃出的通道。


3.根据权利要求2所述的氧化物粉末制造装置，其中，
还包括：
气体投入...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泰石，张信翼，金石渊，李雅凛，
申请(专利权)人：德邦新材料股份公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR