纳米粒子合成装置和使用其的纳米粒子合成方法制造方法及图纸

技术编号:25487905 阅读:32 留言:0更新日期:2020-09-01 23:06
本发明专利技术提供了一种纳米粒子合成装置,其能够通过增加源气体的激光热解反应区域来提高纳米粒子的生产率。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】纳米粒子合成装置和使用其的纳米粒子合成方法
本申请要求于2018年7月23日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0085185号的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文。本专利技术涉及一种能够提高纳米粒子的生产率的纳米粒子合成装置以及使用该纳米粒子合成装置的纳米粒子合成方法。
技术介绍
激光热解是一种通过用激光束照射源气体而在非常短的反应时间内分解源气体来合成纳米粒子的方法。作为示例,当通过用二氧化碳(CO2)激光束照射来分解硅烷(SiH4)气体时,可以形成硅(Si)纳米粒子。在激光热解中,为了提高生产率,尤其重要的是增加产生纳米粒子的反应区域。普通的激光热解反应器被设计成使得入射激光束和所供应的源气体的行进方向彼此相交。同时,在如上所述设计的反应器中,仅入射激光束与源气体之间的交集被设置成反应区域,该反应区域仅是微区域。另外,存在以下局限性:需要在几微秒(ms)的短时间内进行热解反应,从而在反应区域中产生具有设计尺寸的纳米粒子。为了解决这种问题并提高纳米粒子的产率,引入了增加入射激光束的输出的方法、在源气体中本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纳米粒子合成装置,包括:/n反应室;/n源气体注入单元,所述源气体注入单元设置在所述反应室的一侧,并被配置成将源气体供应到所述反应室中;/n激光束入射单元,所述激光束入射单元设置在所述反应室的另一侧,并被配置成使得激光束入射到注入所述反应室中的所述源气体上;以及/n激光束碰撞单元,所述激光束碰撞单元设置在所述反应室中的与所述激光束的入射侧相对的一侧,并被配置成使得从所述激光束入射单元入射的所述激光束碰撞,/n其中,所述源气体在所述反应室中沿所述激光束的入射方向流动。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180723 KR 10-2018-00851851.一种纳米粒子合成装置,包括:
反应室;
源气体注入单元,所述源气体注入单元设置在所述反应室的一侧,并被配置成将源气体供应到所述反应室中;
激光束入射单元,所述激光束入射单元设置在所述反应室的另一侧,并被配置成使得激光束入射到注入所述反应室中的所述源气体上;以及
激光束碰撞单元,所述激光束碰撞单元设置在所述反应室中的与所述激光束的入射侧相对的一侧,并被配置成使得从所述激光束入射单元入射的所述激光束碰撞,
其中,所述源气体在所述反应室中沿所述激光束的入射方向流动。


2.根据权利要求1所述的纳米粒子合成装置,其中,所述反应室的至少一部分使得能够从外部观察到由所述激光束引起的所述源气体的热解反应。


3.根据权利要求1所述的纳米粒子合成装置,其中,所述激光束碰撞单元的外周面和所述反应室的内周面彼此间隔开,使得在所...

【专利技术属性】
技术研发人员:郑镇美辛富建金成范孟皙镐
申请(专利权)人:株式会社LG化学江原大学校产学协力团
类型:发明
国别省市:韩国;KR

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1