具有风化检测像素的成像系统技术方案

本发明专利技术题为“具有风化检测像素的成像系统”。本发明专利技术提供了一种成像设备，该成像设备可具有图像传感器像素阵列。该图像传感器像素阵列可具有与光学叠堆重叠的主要像素和参考像素。该参考像素可比该主要像素更耐受风化诸如太阳光退化。例如，与主要像素重叠的光学叠堆可包括防反射涂层，而与参考像素重叠的光学叠堆可不包括防反射涂层。另选地或附加地，与主要像素重叠的光学叠堆可包括由第一颜料形成的滤色器抗蚀剂，并且与参考像素重叠的光学叠堆可包括由比第一颜料更耐受风化的第二颜料形成的滤色器抗蚀剂。处理电路可比较主要像素和参考像素的输出以确定阵列中的像素是否已损坏。

【技术实现步骤摘要】
具有风化检测像素的成像系统
技术介绍
本专利技术整体涉及成像设备，并且更具体地讲，涉及包括风化检测像素的成像传感器。图像传感器常常在电子设备诸如移动电话、相机和计算机中用来捕获图像。在典型的布置中，电子设备设置有布置成像素行和像素列的图像像素阵列。阵列中的每个图像像素包括经由转移栅极耦接到浮动扩散区域的光电二极管。每个像素接收入射光子(光)并将这些光子转换成电信号。将列电路耦接到每个像素列以用于读出来自图像像素的像素信号。有时，图像传感器被设计为使用联合图像专家组(JPEG)格式将图像提供给电子设备。常规成像系统采用其中通过布置在图像像素阵列中的不同颜色的图像像素对可见光谱进行采样的图像传感器。例如，图像像素阵列可包括布置在拜耳马赛克图案中的红色、绿色和蓝色(RGB)图像像素。然而，在典型的布置中，成像系统可能无法确定阵列中的图像像素是否已由于风化而损坏。因此，可能有利的是能够提供具有改进的图像传感器像素的成像设备。附图说明图1是根据一个实施方案的示例性电子设备的示意图，该电子设备具有图像传感器和处理电路以用于使用图像像素阵列本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图像传感器，包括：/n像素阵列，所述像素阵列被配置为生成图像信号，其中所述像素阵列包括第一组像素和第二组像素，并且其中所述第二组像素被配置为比所述第一组像素更耐受太阳光退化；和/n处理电路，所述处理电路被配置为接收生成的所述图像信号以及比较由所述第一组像素生成的图像信号和由所述第二组像素生成的图像信号。/n

【技术特征摘要】
20190222 US 62/809,253;20190702 US 16/460,6681.一种图像传感器，包括：
像素阵列，所述像素阵列被配置为生成图像信号，其中所述像素阵列包括第一组像素和第二组像素，并且其中所述第二组像素被配置为比所述第一组像素更耐受太阳光退化；和
处理电路，所述处理电路被配置为接收生成的所述图像信号以及比较由所述第一组像素生成的图像信号和由所述第二组像素生成的图像信号。


2.根据权利要求1所述的图像传感器，其中所述第一组像素和所述第二组像素中的像素中的每个像素与光学叠堆重叠，其中每个光学叠堆包括滤色器抗蚀剂，其中所述第一组像素的每个像素与具有由第一颜料形成的第一滤色器抗蚀剂的第一光学叠堆重叠，并且所述第二组像素的每个像素与具有由不同于所述第一颜料的第二颜料形成的第二滤色器抗蚀剂的第二光学叠堆重叠，并且其中所述第二颜料比所述第一颜料更耐受太阳光退化。


3.根据权利要求1所述的图像传感器，其中所述第一组像素和所述第二组像素中的像素中的每个像素与光学叠堆重叠，其中每个光学叠堆包括滤色器抗蚀剂，其中所述第一组像素的每个像素与具有防反射涂层的第一光学叠堆重叠，其中所述第二组像素中的每个像素与不具有防反射涂层的第二光学叠堆重叠，其中每个第一光学叠堆的所述滤色器抗蚀剂插置在所述防反射涂层与所述第一组像素的相应像素之间，并且其中所述防反射涂层由二氧化硅形成。


4.根据权利要求1所述的图像传感器，其中所述处理电路被配置为响应于确定由所述第一组像素生成的所述图像信号与由所述第二组像素生成的所述图像信号不匹配而输出警示信号，其中所述第二组像素中的像素散布在整个所述像素阵列的所述第一组像素中的像素之间，并且其中所述第二组像素包括至少两个像素的分组。


5.一种成像系统，包括：
图像传感器，所述图像传感器包括被配置为响应于入射光而生成电荷的像素阵列，其中所述像素阵列包括与第一光学叠堆重叠的第一像素和与不同于所述第一光学叠堆的第二光学叠堆重叠的第二像素；和
处理电路，所述处理电路被配置为接收来自所述第一像素和所述第二像素的输出以及比较所述第一像素的输出和所...

【专利技术属性】
技术研发人员：R·S·约翰森，
申请(专利权)人：半导体元件工业有限责任公司，
类型：发明
国别省市：美国;US