【技术实现步骤摘要】
一种四轴同平面校正平台及原点回归方法
本专利技术属于对位平台
，具体涉及一种四轴同平面校正平台及原点回归方法。
技术介绍
四轴共平面对位校正平台发展的基础是基于三轴共平面对位平台(以下简称XXY对位平台)而来，其架构于将四座平移旋转单元架设于固定平台，并通过驱动器提供动力进而带动测量平台。现有技术中的四轴共平面对位平台在进行搜寻工作原点时，四轴共平面对位平台除需考虑对X、Y轴向复归外，需还考虑θ轴向复归，其结构复杂，程序设置繁琐。因此，急需一种只需考虑X、Y轴向复归且结构简单、操作程序简洁的四轴同平面校正平台及原点回归方法。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种只考虑X、Y轴向复归且结构简单、操作程序简洁的四轴同平面校正平台及原点回归方法。本专利技术采取了如下技术方案：一种四轴同平面校正平台，包括：固定平台、设置于所述固定平台上的第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元；所述固定平台，用于提供测量装置设置或固定；所述...
【技术保护点】
1.一种四轴同平面校正平台，其特征在于，包括：固定平台、设置于所述固定平台上的第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元；/n所述固定平台，用于提供测量装置设置或固定；/n所述第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元依次分布于所述固定平台四角，且均包括：/n固设于所述固定平台的基板；/n可沿直线往复移动地设置于所述基板上的下支撑座；/n设置于所述基板上的驱动马达，所述驱动马达与所述下支撑座相对设置；/n驱动机构，所述驱动机构设置于所述下支撑座的所述驱动马达侧，与所述驱动马达输出端固定连接，用于驱动所述下支撑座相对所述...
【技术特征摘要】
1.一种四轴同平面校正平台，其特征在于，包括：固定平台、设置于所述固定平台上的第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元；
所述固定平台，用于提供测量装置设置或固定；
所述第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元依次分布于所述固定平台四角，且均包括：
固设于所述固定平台的基板；
可沿直线往复移动地设置于所述基板上的下支撑座；
设置于所述基板上的驱动马达，所述驱动马达与所述下支撑座相对设置；
驱动机构，所述驱动机构设置于所述下支撑座的所述驱动马达侧，与所述驱动马达输出端固定连接，用于驱动所述下支撑座相对所述基板移动；
可沿直线往复移动地设置于所述下支撑座上的上支撑座，所述上支撑座的移动方向与所述下支撑座的移动方向垂直；
所述第一位移旋转单元的下支撑座与所述第三位移旋转单元的下支撑座移动方向相同；
所述第二位移旋转单元的下支撑座与所述第四位移旋转单元的下支撑座移动方向相同，且与所述第一位移旋转单元的下支撑座移动方向垂直。
2.根据权利要求1所述的四轴同平面校正平台，其特征在于，所述驱动机构为丝杠运动副；所述下支撑座与所述丝杠运动副的滑块固定连接。
3.根据权利要求1所述的四轴同平面校正平台，其特征在于，所述下支撑座与所述基板之间、所述下支撑座与所述上支撑座之间通过导轨和导槽结构连接。
4.根据权利要求1所述的四轴同平面校正平台，其特征在于，所述固定平台为XY平面，其中，所述第一位移旋转单元的下支撑座移动方向设定为X轴方向，所述第二位移旋转单元的下支撑座移动方向设定为Y轴方向。
5.根据权利要求4所述的四轴同平面校正平台，其特征在于，在对应所述第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元的下支撑座移动方向上，其所述基板分别设置有定位原点、正极限位点和负极限位点，所述正极限位点和负极限位点设置于所述定位原点两端，用于限定所述第一位移旋转单元、所述第二位移旋转单元、所述第三位移旋转单元和所述第四位移旋转单元移动范围；其中，正极限位点设置于所述定位原点的X轴或Y轴正向方向。
6.根据权利要求5所述的四轴同平面校正平台，其特征在于，对应所述第一位移旋转单元的定位原点、正极限位点和负极限位点分别设置为X1原点、X1+极限和X1-极限；对应所述第二位移旋转单元的定位原点、正极限位点和负极限位点分别设置为Y1原点、Y1+极限和Y1-极限；对应所述第三位移旋转单元的定位原点、正极限位点和负极限位点分别设置为X2原点、X2+极限和X2-极限；对应所述第四位移旋转单元的定位原点、正极限位点和负极限位点分别设置为Y2原点、Y2+极限和Y2-极限。<...
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