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本发明公开了一种四轴同平面校正平台及原点回归方法，属于对位平台技术领域，包括：固定平台、设置于固定平台上的第一位移旋转单元、第二位移旋转单元、第三位移旋转单元和第四位移旋转单元，且均包括：固设于固定平台的基板；可沿直线往复移动的下支撑座；驱...
该专利属于张营国;江国粮所有，仅供学习研究参考，未经过张营国;江国粮授权不得商用。

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