一种钕铁硼磁体及其制备方法技术

一种钕铁硼磁体及其制备方法，该钕铁硼磁体的化学分子式为RE

【技术实现步骤摘要】
一种钕铁硼磁体及其制备方法
本专利技术涉及稀土永磁体
，具体涉及一种钕铁硼磁体及其制备方法。
技术介绍
钕铁硼磁体自1983出现以来，被广泛的应用于计算机、汽车、医疗及风力发电等领域，与此同时更多的高端应用领域一方面要求钕铁硼磁体更加的小型化、轻型化和薄片化，另一方面要求钕铁硼磁体具有更高的剩磁和矫顽力。通过在烧结钕铁硼磁体的合金中，加入铽或者镝的纯金属或者镝铽合金可以提高钕铁硼磁体的矫顽力，但采用此方法由于镝或铽元素主要进入主相晶粒，会造成钕铁硼磁体的剩磁明显降低，且重稀土元素的消耗比较大。通过在Nd2Fe14B主相边缘渗入镝、铽元素或镝铽合金，硬化Nd2Fe14B主相，可以有效的提高钕铁硼磁体的矫顽力。目前已有很多技术通过将钕铁硼磁体置于含有镝、铽等重稀土元素的环境中，并经过高温扩散和时效处理，使得镝铽元素沿晶界扩散至钕铁硼磁体的Nd2Fe14B相边界，提高Nd2Fe14B的磁各向异性，进而有效的提高钕铁硼磁体的矫顽力。但其所需的扩散时间长、温度高。日立金属株式会社，公开号为CN101375352A的文件中公开本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体的化学分子式为RE

【技术特征摘要】
1.一种钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体的化学分子式为RExMyAlaCubZncBzFebal；
其中，RE选自Pr、Nd、La、Ce、Y中的一种或多种，M选自Co、Ga、Zr中的一种或多种；
其中，10≤x≤15，0.4≤y≤4.5，5≤z≤6，0.2≤a≤1，0.1≤b≤0.5，0.01≤c≤0.5，bal＝100-(x+y+z+a+b+c)；
所述钕铁硼磁体的晶粒断面形状为矩形状，晶粒大小为长300-600nm，宽30-70nm。


2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述钕铁硼磁体包括主相和晶界相，所述主相包括Nd2Fe14B，所述晶界相包括RECu相和AlCuZn相，其中，RE为Ce以及Nd和Pr中的一种或两种。


3.根据权利要求2所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述晶界相中的AlCuZn相的比例为晶界相整体的40-80wt％。


4.根据权利要求2-3任一项所述的钕铁硼磁体，其特征在于，晶界相宽度在2nm-20nm之间。


5.根据权利要求4所述的钕铁硼磁体，其特征在于，所述AlCuZn的晶粒大小在10nm以下。


6.根据权利要求2-5任一项所述的钕铁硼磁体，其特征在于，RE包括Ce以及Nd和Pr中的一种或两种，其中80-90wt％的Ce分布在晶界相中，10-20wt％的Ce分布在主相中。


7.根据权利要求2-6所述的钕铁硼磁体，其特征在于，Al在晶界相中的浓度为20-40wt％；
和/或，Cu在晶界相中的浓度为15-25...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗阳，余业奇，赵澎，李扩社，杨远飞，白馨元，闫文龙，于敦波，
申请(专利权)人：有研稀土新材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11