一种光学窗口图形化的夹具及方法技术

在本发明专利技术提供了一种光学窗口图形化的夹具及方法，属于光学装置领域。该夹具包括底座和与其连接的本体；其中，所述底座的表面经过抛光处理；所述本体上蚀刻有按照阵列方式排布的通孔，用于放入产品；所述本体的厚度小于产品的厚度，所述通孔的直径大于产品的直径。本发明专利技术还提供了光学窗口图形化的方法，在夹具表面喷涂光刻胶，然后在夹具上放入产品，进行烘烤，泛曝；夹具和产品一起进入喷胶机中喷胶，喷胶后进行烘烤；烘烤完成后的产品再放入光刻机中进行光刻，其光刻过程曝光剂量为1~1500mj；光刻结束后采用显影液进行显影，显影完成后的产品图形化工艺完毕，能够满足小尺寸高精度产品的需求。

【技术实现步骤摘要】
一种光学窗口图形化的夹具及方法
本专利技术涉及光学装置
，特别涉及一种光学窗口图形化的夹具及方法。
技术介绍
目前行业中通用的光学窗口包括双面光学薄膜，并且其中一面用于封装金属环。其中金属环区域图形化的方法一般采用硬掩膜或丝网印刷方法，但该两种方法均无法满足小尺寸高精度产品的需求。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种光学窗口图形化的夹具及方法，以解决现有图形化方法无法满足小尺寸高精度产品要求的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供了一种光学窗口图形化的夹具，包括底座和与其连接的本体；其中，所述底座的表面经过抛光处理；所述本体上蚀刻有按照阵列方式排布的通孔，用于放入产品；所述本体的厚度小于产品的厚度，所述通孔的直径大于产品的直径。可选的，所述通孔的直径比产品直径大0~0.1mm。可选的，所述本体的厚度为0.1~0.48mm。可选的，所述底座的厚度为1~10mm。可选的，所述底座和所述本体通过点焊、铆接或胶水连接在一起。可选的，所述底座和所述本体的材质均为包括不锈钢在内的耐腐蚀材料。可选的，所述产品的形状包括常规圆形、方形、三角形，或跑道形、半圆形、月牙形；所述产品的基材为包括光学玻璃、硅、锗、硫化锌、硒化锌、蓝宝石在内的光学材料。本专利技术还提供了一种光学窗口图形化的方法，包括如下步骤：步骤1、在夹具表面喷涂光刻胶，然后在夹具上放入产品，进行烘烤，泛曝；步骤2、夹具和产品一起进入喷胶机中喷胶，喷胶后进行烘烤；步骤3、烘烤完成后再放入光刻机中进行光刻，其光刻过程曝光剂量为1~1500mj；步骤4、光刻结束后采用显影液进行显影，显影完成后的产品图形化工艺完毕。可选的，所述步骤1中喷胶温度为15~35℃，所述光刻胶为负性光刻胶，厚度为0.2~10μm，烘烤温度为50~200℃，烘烤时间为1~20min，泛曝剂量为10~2000mj。可选的，所述步骤2中喷胶温度为50~200℃，喷胶厚度为0.1~100μm，烘烤温度为50~200℃，烘烤时间为1~20min。可选的，所述显影液为碱性溶液，包括NaOH，KOH或TMAH，显影时间为1~1000s。在本专利技术提供的光学窗口图形化的夹具及方法中，该夹具包括底座和与其连接的本体；其中，所述底座的表面经过抛光处理；所述本体上蚀刻有按照阵列方式排布的通孔，用于放入产品；所述本体的厚度小于产品的厚度，所述通孔的直径大于产品的直径。本专利技术还提供了光学窗口图形化的方法，在夹具表面喷涂光刻胶，然后在夹具上放入产品，进行烘烤，泛曝；夹具和产品一起进入喷胶机中喷胶，喷胶后进行烘烤；烘烤完成后再放入光刻机中进行光刻，其光刻过程曝光剂量为1~1500mj；光刻结束后采用显影液进行显影，显影完成后的产品图形化工艺完毕，能够满足小尺寸高精度产品的需求。附图说明图1是本实施例一提供的底座的结构示意图；图2是本实施例一提供的本体的结构示意图；图3是本实施例二提供的光学窗口图形化的方法流程示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本专利技术提出的一种光学窗口图形化的夹具及方法作进一步详细说明。根据下面说明和权利要求书，本专利技术的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本专利技术实施例的目的。实施例一本专利技术提供了一种光学窗口图形化的夹具，包括如图1所示的底座1和如图2所示的本体2。所述底座1和所述本体2通过点焊、铆接或胶水的方式连接在一起。具体的，所述底座1的表面经过抛光处理，其厚度为1~10mm；所述本体2上蚀刻有按照阵列方式排布的通孔21，用于放入产品；进一步的，所述通孔21的直径大于产品的直径，一般比产品直径大0~0.1mm。具体的，所述本体2的厚度小于产品的厚度，所述本体2的厚度为0.1~0.48mm。进一步的，所述底座1和所述本体2的材质均为不锈钢或其他耐腐蚀材料。所述产品的形状不限，可以为常规圆形、方形、三角形，或跑道形、半圆形、月牙形等平面产品；所述产品的基材为包括光学玻璃、硅、锗、硫化锌、硒化锌、蓝宝石在内的光学材料。实施例二本专利技术的实施例二提供了一种光学窗口图形化的方法，其流程示意图如图3所示。所述光学窗口图形化的方法包括如下步骤：步骤S31、在夹具表面喷涂光刻胶，然后在夹具上放入产品，进行烘烤，泛曝；步骤S32、夹具和产品一起进入喷胶机中喷胶，喷胶后进行烘烤；步骤S33、烘烤完成后再放入光刻机中进行光刻，其光刻过程曝光剂量为1~1500mj；步骤S34、光刻结束后采用显影液进行显影，显影完成后的产品图形化工艺完毕。具体的，先将夹具清洗并烘干，放入喷胶机中对夹具的表面喷涂光刻胶，所述光刻胶为负性光刻胶，厚度为0.2~10μm，喷胶温度为15~35℃；喷胶完成后，将夹具从喷胶机中取出，然后将产品一个一个放入夹具中对应的通孔中，将产品和夹具一起放到热板上进行烘烤，其中烘烤温度为50~200℃，烘烤时间为1~20min；为了保证产品不从夹具上滑落，将产品和夹具一起放入光刻机进行泛曝，其中泛曝剂量为10~2000mj。然后，将完成泛曝后的产品和夹具再次放入喷胶机进行喷胶，该次喷胶的厚度根据后续的工艺确定，在本实施例二中喷胶厚度为1~20μm，喷胶温度设置为50~200℃。喷胶完成后，将产品和夹具一起再次放入热板进行烘烤，烘烤温度为50~200℃，烘烤时间为1~20min。接着，将烘烤后的产品和夹具放入光刻机进行光刻，其中光刻版根据产品设计制作，图形阵列和夹具上通孔的阵列一致，曝光剂量为1~1500mj。曝光完成后放入显影液进行显影，所述显影液为碱性溶液，可以为NaOH，KOH或TMAH，优选TMAH，其浓度为1~25%，显影时间为10~1000s。显影完成后的产品图形化工艺完毕，可以进行后续工艺。上述描述仅是对本专利技术较佳实施例的描述，并非对本专利技术范围的任何限定，本专利
的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光学窗口图形化的夹具，其特征在于，包括底座和与其连接的本体；其中，/n所述底座的表面经过抛光处理；/n所述本体上蚀刻有按照阵列方式排布的通孔，用于放入产品；所述本体的厚度小于产品的厚度，所述通孔的直径大于产品的直径。/n

【技术特征摘要】
1.一种光学窗口图形化的夹具，其特征在于，包括底座和与其连接的本体；其中，
所述底座的表面经过抛光处理；
所述本体上蚀刻有按照阵列方式排布的通孔，用于放入产品；所述本体的厚度小于产品的厚度，所述通孔的直径大于产品的直径。


2.如权利要求1所述的光学窗口图形化的夹具，其特征在于，所述通孔的直径比产品直径大0~0.1mm。


3.如权利要求1所述的光学窗口图形化的夹具，其特征在于，所述本体的厚度为0.1~0.48mm。


4.如权利要求1所述的光学窗口图形化的夹具，其特征在于，所述底座的厚度为1~10mm。


5.如权利要求1所述的光学窗口图形化的夹具，其特征在于，所述底座和所述本体通过点焊、铆接或胶水连接在一起。


6.如权利要求1所述的光学窗口图形化的夹具，其特征在于，所述底座和所述本体的材质均为包括不锈钢在内的耐腐蚀材料。


7.如权利要求1所...

【专利技术属性】
技术研发人员：李旭光，赵培，李媛媛，
申请(专利权)人：无锡奥夫特光学技术有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32