镀膜设备及连续镀膜方法技术

本发明专利技术是关于一种镀膜设备及连续镀膜方法，涉及太阳能电池生产设备领域。主要采用的技术方案为：镀膜设备，其包括：依次设置的第一腔室和第三腔室；其中，所述第一腔室和所述第三腔室相互隔离；所述第一腔室为单原子层沉积工艺腔室，用于制备所述太阳能电池膜层中的缓冲层；所述第三腔室为低压力化学气相沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层上制备透明导电层。本发明专利技术实施例提供的设备，其能够连续的制膜，非连续制备膜层时，先制备的膜层发生氧化的情况，保证了膜层之间的界面性能。

【技术实现步骤摘要】
镀膜设备及连续镀膜方法
本专利技术涉及太阳能电池生产设备领域，特别是涉及一种镀膜设备及连续镀膜方法。
技术介绍
使用太阳能电池所提供的电能是解决目前能源使用的污染问题，以及能源匮乏问题的最有效的手段。且由于薄膜太阳能电池具有性能稳定、抗辐射能力强、光电转换效率高的特性，因此薄膜太阳能电池得到越来越多的应用。其中，薄膜太阳能电池的结构包括设置在基板上的光吸收层、缓冲层和窗口层。现有技术中，缓冲层是通过化学水浴法(CBD)沉积在光吸收层上的，然后通过使用物理气相沉积法(PVD)在缓冲层上设置窗口层，进而得到成品的薄膜太阳能电池。但是，现有技术中缓冲层和窗口层在制备是非连续的，容易在制备了缓冲层后，向制备窗口层的设备中转移时出现缓冲层氧化的情况，进而导致膜层之间的界面性能变差，影响太阳能电池的效率。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术所要解决的技术问题是提供一种具有全新结构的镀膜设备及连续镀膜方法，使其能够实现太阳能电池的功能膜层的连续制备，避免出现氧化现象，保证膜层间的界面性能。未解决上述技术问题，本专利技术请提供的一种镀膜设备，其包括：依次设置的第一腔室和第三腔室；其中，所述第一腔室和所述第三腔室相互隔离；所述第一腔室为单原子层沉积工艺腔室，用于制备所述太阳能电池膜层中的缓冲层；所述第三腔室为低压力化学气相沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层上制备透明导电层。优选的，前述的镀膜设备，其中所述镀膜设备还包括第二腔室，所述第二腔室设置在所述第一腔室和第三腔室之间，并与所述第一腔室和所述第三腔室相互隔离，所述第二腔室为单原子层沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层和所述透明导电层之间制备高阻层。优选的，前述的镀膜设备，其中所述第一腔室包括第一进料机构、第二进料机构以及第一脉冲控制装置；其中，所述第一进料机构用于向所述第一腔室中输送第一前驱体源，所述第二进料机构用于向所述第一腔室中输送第二前驱体源；所述第一脉冲控制装置用于控制所述第一进料机构与所述第二进料机构交替进料。优选的，前述的镀膜设备，其中所述第二腔室包括第三进料机构、第四进料机构以及第二脉冲控制装置；其中，所述第三进料机构用于向所述第二腔室中输送第三前驱体源，所述第四进料机构用于向所述第二腔室中输送第四前驱体源；所述第二脉冲控制装置用于控制所述第三进料机构与所述第四进料机构交替进料。优选的，前述的镀膜设备，其中所述第三腔室包括第五进料机构，所述第五进料机构用于向所述第三腔室输入第五前驱体源。优选的，前述的镀膜设备，其中所述第三腔室还包括依次连通的多个子工艺腔室，每个所述子工艺腔室分别设置有第五进料机构。优选的，前述的镀膜设备，其还包括：加热腔室，设置于所述第一腔室与所述第二腔室之间；第一隔离腔室，设置于所述第一腔室与所述加热腔室之间；第二隔离腔室，设置于所述第二腔室与所述第三腔室之间；其中，所述第一腔室、所述加热腔室、所述第二腔室、所述第三腔室均为真空腔室。优选的，前述的镀膜设备，其中所述第一隔离腔室的第一侧壁设置有第一隔离气体喷入装置，所述第一隔离气体喷入装置用于向其所在的所述第一隔离腔室内喷射隔离气体，所述第一隔离腔室的第二侧壁设置有第一气体泵出装置，其中所述第一侧壁和所述第二侧壁相对设置；所述第二隔离腔室的第一侧壁设置有第二隔离气体喷入装置，所述第二隔离气体喷入装置用于向其所在的第二隔离腔室内喷射所述隔离气体，所述第二隔离腔室的第二侧壁设置有第二气体泵出装置，其中所述第一侧壁和所述第二侧壁相对设置。优选的，前述的镀膜设备，其还包括：预热腔室，设置于所述第一腔室之前，用于对待镀膜的基板预热；冷却腔室，设置于所述第三腔室之后，用于冷却第三腔室输出的基板。另外，本专利技术还提供一种连续镀膜方法，应用上述镀膜设备制备的太阳能电池膜层，其包括：连在基板上依次层叠的制备缓冲层和透明导电层；其中，所述缓冲层采用单原子层沉积工艺制备，所述透明导电层采用低压力化学气相沉积工艺制备。优选的，前述的连续镀膜方法，其中在所述缓冲层和透明导电层之间制备高阻层，所述高层采用单原子层沉积工艺制备。优选的，前述的连续镀膜方法，其中所述缓冲层为锌氧硫膜层，和/或，所述高阻层为本征氧化锌膜层，和/或，所述透明导电层为掺硼氧化锌膜层。借由上述技术方案，本专利技术镀膜设备及连续镀膜方法至少具有下列优点：本专利技术技术方案中，镀膜设备包括依次连接的第一腔室和第三腔室，两个腔室能够分别制作太阳能电池的缓冲层和透明导电层即前电极层，且第一腔室为单原子层沉积工艺腔室，第三腔室为低压力化学气相沉积工艺腔室。由于两个腔室是连接的，则基板在上一个腔室制备了对应的膜层之后，能够直接到下一个腔室制备另一膜层，即本专利技术实施例提供的镀膜设备能够连续的进行太阳能膜层的制备，解决了非连续制备膜层时，先制备的膜层发生氧化的情况，保证了膜层之间的界面性能；另外，本专利技术实施例提供的设备是两个工艺腔室连接在一起的，能够实现膜层的连续制作，所以能够有效的提高膜层的生产效率，即提高太阳能电池的生产效率。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。附图说明图1是本专利技术的实施例提供的一种镀膜设备的第一视角结构示意图；图2是本专利技术的实施例提供的一种镀膜设备的第二视角结构示意图；图3是本专利技术的实施例提供的另一种镀膜设备的结构示意图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的镀膜设备及连续镀膜方法，其具体实施方式、方法、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。实施例一如图1和图2所示，本专利技术的实施例一提出的一种镀膜设备，其包括：依次连接的第一腔室1和第三腔室3；其中，所述第一腔室1和所述第三腔室3相互隔离；所述第一腔室1为单原子层沉积工艺腔室，用于制备所述太阳能电池膜层中的缓冲层；所述第三腔室3为低压力化学气相沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层上制备透明导电层。具体的，本专利技术实施例提供的镀膜设备，其是将制作缓冲层和透明导电层的工艺腔室连接在一起的连续生产设备，其中缓冲层是设置在太阳能电池板基板的光吸收层上的一个膜层，透明导电层即前电极层是层叠的设置在缓冲层上的一个膜层。进一步的，原子层沉积工艺(Atomiclayerdeposition，ALD)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法，在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。第一腔室1是用于制作缓冲本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种镀膜设备，用于在基板表面制备太阳能电池膜层，其特征在于，所述镀膜设备包括：/n依次设置的第一腔室和第三腔室；/n其中，所述第一腔室和所述第三腔室相互隔离；/n所述第一腔室为单原子层沉积工艺腔室，用于制备所述太阳能电池膜层中的缓冲层；/n所述第三腔室为低压力化学气相沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层上制备透明导电层。/n

【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备，用于在基板表面制备太阳能电池膜层，其特征在于，所述镀膜设备包括：
依次设置的第一腔室和第三腔室；
其中，所述第一腔室和所述第三腔室相互隔离；
所述第一腔室为单原子层沉积工艺腔室，用于制备所述太阳能电池膜层中的缓冲层；
所述第三腔室为低压力化学气相沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层上制备透明导电层。


2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，
所述镀膜设备还包括第二腔室，所述第二腔室设置在所述第一腔室和第三腔室之间，并与所述第一腔室和所述第三腔室相互隔离，所述第二腔室为单原子层沉积工艺腔室，用于在所述缓冲层和所述透明导电层之间制备高阻层。


3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，
所述第一腔室包括第一进料机构、第二进料机构以及第一脉冲控制装置；
其中，所述第一进料机构用于向所述第一腔室中输送第一前驱体源，所述第二进料机构用于向所述第一腔室中输送第二前驱体源；
所述第一脉冲控制装置用于控制所述第一进料机构与所述第二进料机构交替进料。


4.根据权利要求2所述的镀膜设备，其特征在于，
所述第二腔室包括第三进料机构、第四进料机构以及第二脉冲控制装置；
其中，所述第三进料机构用于向所述第二腔室中输送第三前驱体源，所述第四进料机构用于向所述第二腔室中输送第四前驱体源；
所述第二脉冲控制装置用于控制所述第三进料机构与所述第四进料机构交替进料。


5.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，
所述第三腔室包括第五进料机构，所述第五进料机构用于向所述第三腔室输入第五前驱体源。


6.根据权利要求5所述的镀膜设备，其特征在于，
所述第三腔室还包括依次连通的多个子工艺腔室，每个所述子工艺腔室分别设置有第五进料机构。


7.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：辛科，杨立红，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11